JP2010145212A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャップ部20は、第2シリコン層12の面方向に振動子16が移動する領域に対向する位置にダミーパターン26を備えている。これによると、振動子16とダミーパターン26との間の間隔が、第2シリコン層12と振動子16との間の一定の間隔と同じになるので、振動子16のキャップ部20側の封止媒体41によるダンピング効果と第2シリコン層12側の封止媒体41によるダンピング効果とを均一にすることができる。
【選択図】図2
Description
以下、本発明の第1実施形態について図を参照して説明する。以下で示される半導体装置としての半導体力学量センサは、振動子を有する加速度センサであり、例えば車両の加速度の検出に用いられるものである。
本実施形態では、第1実施形態と異なる部分についてのみ説明する。上記第1実施形態では、各可動電極16bや各固定電極17a、18aと第2シリコン層12との間の絶縁層13は完全に取り除かれた構造が示されているが、この絶縁層13が完全に除去されずに突起部として残る場合がある。本実施形態では、ダミーパターン26の上に該突起部に対応した場所に突起部と同じ形状のダミー突起を設けることが特徴となっている。
本実施形態では、第1、第2実施形態と異なる部分についてのみ説明する。上記各実施形態では、半導体装置として加速度を検出するセンサを例に説明したが、角速度を検出するジャイロセンサについても同様にダミーパターン26やダミー突起26aを適用することができる。
上記各実施形態では、振動子16を全体的に覆うようにキャップ部20にダミーパターン26が設けられたものが示されているが、ダミーパターン26は、少なくとも、第2シリコン層12の面方向に振動子16が移動する領域(可動な領域、つまり可動範囲)に対向する位置に設けられていれば良い。この様子を図7に示す。
12 第2シリコン層
13a 突起部
15a アンカー部
15c 貫通電極
16 振動子
16d エッチングホール
20 キャップ部
23 第1配線層
26 ダミーパターン
26a ダミー突起
40 封止空間
41 封止媒体
42 振動子空間
Claims (5)
- 支持基板(12)の上に一定の間隔で浮遊した振動子(16)を含むセンサ構造体を備えたセンサ部(10)と、
前記センサ部(10)と接合されることで前記センサ部(10)との間に密閉された封止空間(40)を形成すると共に、該封止空間(40)内に前記センサ構造体を封止したキャップ部(20)と、
前記封止空間(40)内に封入された封止媒体(41)とを備え、
前記キャップ部(20)は、前記支持基板(12)の面方向に前記振動子(16)が可動な領域に対向する位置にダミーパターン(26)を備え、
前記振動子(16)と前記ダミーパターン(26)との間の間隔が前記一定の間隔と同じになっていることを特徴とする半導体装置。 - 前記封止空間(40)は、前記振動子(16)が配置された振動子空間(42)を有し、
前記キャップ部(20)は、前記振動子空間(42)を形成する領域全体に前記ダミーパターン(26)を備えていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記センサ構造体は、前記支持基板(12)に対して前記振動子(16)を支持するアンカー部(15a)を有し、
前記ダミーパターン(26)は、金属層(23)を含んでおり、該金属層(23)は前記アンカー部(15a)に接続されて前記アンカー部(15a)と同電位になっていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記アンカー部(15a)は、該アンカー部(15a)を貫通して前記支持基板(12)に達する貫通電極(15c)を有し、
前記金属層(23)は前記アンカー部(15a)の貫通電極(15c)に接続されて前記支持基板(12)と同電位になっていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - 前記振動子(16)は、前記センサ部(10)とキャップ部(20)との積層方向に前記振動子(16)を貫通したエッチングホール(16d)を有し、
前記センサ部(10)は、前記支持基板(12)の上において、前記振動子(16)が前記支持基板(12)に投影された領域のうち前記エッチングホール(16d)が投影された領域とは異なる領域に突起部(13a)を有し、
前記ダミーパターン(26)は、前記支持基板(12)の上の前記突起部(13a)に対応する位置にダミー突起(26a)を有していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の半導体装置。
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