JP2010141173A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】側面に第1の樹脂18を有する第1の半導体チップ12と、この第1の半導体チップと略同一平面上に実装される第2の半導体チップ14と、樹脂層と第2の半導体チップの間に設けられ、第1の半導体チップと第2の半導体チップとを接着する、室温におけるヤング率が第1の樹脂よりも高い第2の樹脂で形成された接着部20と、を備えることを特徴とする半導体装置およびその製造方法。
【選択図】図1
Description
本実施の形態の半導体装置は、側面に第1の樹脂で形成される樹脂層を有する第1の半導体チップと、この第1の半導体チップと略同一平面上に実装される第2の半導体チップとを備えている。さらに、樹脂層と第2の半導体チップとの間に設けられ、第1の半導体チップと第2の半導体チップとを接着する、室温におけるヤング率が第1の樹脂よりも高い第2の樹脂で形成される接着部とを備えている。ここでは、第1の半導体チップとしてMEMSデバイスを有するMEMSチップ、第2の半導体チップとしてCMOSデバイスを有するCMOSチップを例に説明する。
置10は、例えば、半田バンプを介して配線基板に搭載される。本実施の形態の半導体装置の製造方法によれば、チップの薄化工程の際に、低ヤング率樹脂でチップを埋め込んでいることから、接着部を変形させてチップ表面の平坦性を確保しながら高精度の研磨が可能であり、研磨時のチップ端部の欠けのない良好な研磨状態が得られる。特に中空領域を有し、機械的強度の小さいMEMSチップの研磨工程では、低ヤング率樹脂で埋め込んだ状態でチップに掛かる応力が非常に小さいことから、研磨時のMEMSチップの保護が可能であり、MEMSチップの薄化が容易に達成されるという特段の作用・効果が得られる。
本実施の形態の半導体装置は、第1の半導体チップの側面だけでなく裏面にも低ヤング率樹脂の樹脂層が形成される半導体装置である。ここでは、第1の半導体チップとしてMEMSチップを例に説明する。
本実施の形態の半導体装置は、第1の半導体チップの側面の一部に低ヤング率樹脂の樹脂層が形成される半導体装置である。ここでは、第1の半導体チップとしてMEMSチップを例に説明する。MEMSチップの構成が異なる以外は、基本的には第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については記載を省略する。
12 MEMSチップ
14 CMOSチップ
16 受動部品チップ
18 樹脂層、低ヤング率樹脂
18a 低ヤング率樹脂フィルム
18b シリコン樹脂
20 接着部、高ヤング率樹脂
22 MEMSデバイス
24 中空領域
26 封止キャップ
28 封止枠
30 接続バンプ
32 引き出し配線
34 貫通ビア
36 電極パッド
40 グローバル配線層
42 平坦化膜
44 接続ビア
46 配線
50 チップ
52 樹脂
56 ウェハー、ウェハー形状の基板
62 粘着フィルム
64 ガラス基板
66 支持基板
68 固定台
70 グラインダ
72 疑似SOC基板
74 第1平坦化膜
76 ビアホール
80 半導体装置
82 MEMSチップ
84 CMOSチップ
86 受動部品チップ
87 スペーサ
88 ハンダボールバンプ
90 半導体装置
92 MEMSチップ
94 CMOSチップ
96 受動部品チップ
Claims (10)
- 側面に第1の樹脂で形成される樹脂層を有する第1の半導体チップと、
前記第1の半導体チップと略同一平面上に実装される第2の半導体チップと、
前記樹脂層と前記第2の半導体チップとの間に設けられ、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップを接着する、室温におけるヤング率が前記第1の樹脂よりも高い第2の樹脂で形成される接着部と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1の樹脂の室温におけるヤング率が50MPa以上300MPa以下、前記第2の樹脂の室温におけるヤング率が7000MPa以上であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体チップがMEMSデバイスを有することを特徴とする請求項1または請求項2記載の半導体装置。
- 前記第2の樹脂が無機材料を主成分とするフィラーを含有することを特徴とする請求項1ないし請求項3いずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップが異なる機能を有することを特徴とする請求項1ないし請求項4いずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体チップおよび前記第2の半導体チップ上に、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップとを電気的に接続する配線層を有することを特徴とする請求項1ないし請求項5いずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記樹脂層の幅が40μm以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項6いずれか一項に記載の半導体装置。
- 複数の第1の半導体チップを第1の支持基板上に仮固定する工程と、
印刷法により、前記第1の半導体チップの側面に第1の樹脂を形成する工程と、
前記第1の樹脂を硬化させる工程と、
前記第1の半導体チップをダイシングにより個片化する工程と、
前記第1の半導体チップと第2の半導体チップを第2の支持基板上に仮固定する工程と、
印刷法により、前記第1の半導体チップと前記第2の半導体チップを接着する、室温におけるヤング率が前記第1の樹脂よりも高い第2の樹脂を形成する工程と、
前記第2の樹脂を硬化させる工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第1の樹脂の室温におけるヤング率が50MPa以上300MPa以下、前記第2の樹脂の室温におけるヤング率が7000MPa以上であることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の半導体チップがMEMSデバイスを有することを特徴とする請求項8または請求項9記載の半導体装置の製造方法。
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