JP2010141142A - 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 - Google Patents
薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010141142A JP2010141142A JP2008316256A JP2008316256A JP2010141142A JP 2010141142 A JP2010141142 A JP 2010141142A JP 2008316256 A JP2008316256 A JP 2008316256A JP 2008316256 A JP2008316256 A JP 2008316256A JP 2010141142 A JP2010141142 A JP 2010141142A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate insulating
- insulating film
- thin film
- film transistor
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 116
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 154
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 31
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 23
- -1 metal oxide compound Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 16
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 47
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 9
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 22
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 7
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N coronene Chemical compound C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- VQCBHWLJZDBHOS-UHFFFAOYSA-N erbium(iii) oxide Chemical compound O=[Er]O[Er]=O VQCBHWLJZDBHOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Substances O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000012616 phase-measurement interferometric microscopy Methods 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- ZIKATJAYWZUJPY-UHFFFAOYSA-N thulium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Tm+3].[Tm+3] ZIKATJAYWZUJPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- RAMLHCQVJWEUAO-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione;styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1.O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 RAMLHCQVJWEUAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004954 Polyphthalamide Substances 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021523 barium zirconate Inorganic materials 0.000 description 1
- DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)zirconium Chemical compound [Ba+2].[O-][Zr]([O-])=O DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229910003440 dysprosium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NLQFUUYNQFMIJW-UHFFFAOYSA-N dysprosium(iii) oxide Chemical compound O=[Dy]O[Dy]=O NLQFUUYNQFMIJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910001940 europium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N europium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Eu+3].[Eu+3] AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001938 gadolinium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075613 gadolinium oxide Drugs 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYTUFVYWTIKZGR-UHFFFAOYSA-N holmium oxide Inorganic materials [O][Ho]O[Ho][O] JYTUFVYWTIKZGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWCYYNSBGXMRQN-UHFFFAOYSA-N holmium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ho+3].[Ho+3] OWCYYNSBGXMRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000813 microcontact printing Methods 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZLYXNNZYFBAQO-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);ytterbium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Yb+3].[Yb+3] UZLYXNNZYFBAQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQWGSGOMMASUGA-UHFFFAOYSA-N phenol;phenoxybenzene Chemical compound OC1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 GQWGSGOMMASUGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920006375 polyphtalamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium oxide Chemical compound O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 1
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000002174 soft lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003451 terbium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N terbium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Tb+3].[Tb+3] SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910003454 ytterbium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075624 ytterbium oxide Drugs 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】本発明の実施形態による薄膜トランジスタ10は、半導体材料で形成される活性層6;活性層6に結合するソース電極4;活性層6に結合し、活性層6を通してソース電極4と導通可能なドレイン電極5;活性層に結合し、有機高分子材料と無機化合物とが混合された層が複数層積層されて構成されるゲート絶縁膜3;並びに、ゲート絶縁膜3に接し、このゲート絶縁膜3を介して活性層6にチャネル領域を形成できるよう構成されるゲート電極2;を備える。
【選択図】図1
Description
Y. Y. Lin et al., IEEE Electron Device Letters, Vol. 18, 606(1997). S. M. Sze, "Physics of Semiconductor Devices", Wiley, New York, 1981. C. D. Dimitrakopoulos, Science, Vol. 283, 822(1999). W. Y. Chou et al., Appl. Phys. Lett., 89, 112 126 (2006).
添付の全図面中、同一または対応する部材または部品については、同一または対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は、部材もしくは部品間または種々の層の厚さの間の相対比を示すことを目的とせず、したがって、具体的な厚さや寸法は、以下の限定的でない実施形態に照らし、当業者により決定されるべきものである。
図1は、本発明の第1の実施形態による薄膜トランジスタの断面を模式的に示す図である。図示のとおり、本発明の第1の実施形態による薄膜トランジスタ10は、基板1と、基板1上に形成されたゲート電極2と、基板1上にゲート電極2を覆うように形成されたゲート絶縁膜3と、ゲート絶縁膜3の上面の一部からゲート絶縁膜3の側面に沿って基板1上にまで延びるソース電極4およびドレイン電極5と、ソース電極4およびドレイン電極5のそれぞれの一部とゲート絶縁膜3の上面とに接して形成された半導体活性層6とを含む。
図2(a)は、ゲート絶縁膜3の第1の例の断面を示す。図示のとおり、このゲート絶縁膜3は、第1の層3aと、この第1の層3a上に形成された第2の層3bとを有している。第1の層3aおよび第2の層3bは、いずれも無機金属酸化化合物、強誘電性化合物、および希土類金属酸化化合物のうちの少なくとも一つの化合物(以下、説明の便宜上、無機化合物と総称する場合がある)と有機系高分子化合物の混合物により形成される。
図2(b)は、ゲート絶縁膜3の第2の例の断面を示す。図示のとおり、このゲート絶縁膜3は、第1の層3aと、この第1の層3a上に形成された第2の層3bと、第2の層3b上に形成された第3の層3cと、を含む。第1の層3aおよび第2の層3bは、上述の第1の例におけるものと同様である。第3の層3cは、先に列記した有機系高分子化合物のいずれか又は任意の組み合わせにより形成して良い。これにより、ゲート絶縁膜の比誘電率の厚さ方向の変化の割合はより大きくなる。ただし、第3の層3cを第1の層3aおよび第2の層3bと同様に無機化合物と有機系高分子化合物とを含んで形成しても良い。
図2(c)は、ゲート絶縁膜3の第3の例の断面を示す。図示のとおり、このゲート絶縁膜3は、第1の部分3dと第2の部分3eとを有している。第1の部分3dは、複数の三角形状の部分が並置されて構成される断面形状(鋸歯状形状)を有している。詳細には、第1の部分3dは、ピラミッド形状をした複数の部分が2次元的に並置されて構成されていて良く、また、三角柱状または円錐状をした部分が一の側面を下にして複数並置されて構成されても良い。一方、第2の部分3eは、第1の部分3dを埋め込むように形成され、その表面は平坦になっている。本例では、第1の部分3dと第2の部分3eとの間の接触面積が増大しているため、平面による接触と比べて緻密に形成でき、信頼性を向上できる。
図2(d)は、ゲート絶縁膜3の第4の例の断面を示す。図2(c)と対比すると明らかなように、第4の例のゲート絶縁膜3において、第3の例のゲート絶縁膜3と比べて、第1の部分3dが厚く形成されている。その他の点は、第3の例のゲート絶縁膜3と同様である。このため、鋸歯状形状部分において、ゲート絶縁膜3の比誘電率が厚さ方向に沿って連続的に変化している。したがって、第4の例のゲート絶縁膜3もまた第1の例のゲート絶縁膜3と同じ効果を奏する。
まず、ガラス基板を用意し、このガラス基板(基板1)の上にゲート電極2を形成した(図3(a))。具体的には、このゲート電極2は、ガラス基板上に真空蒸着法によりアルミニウム層を形成し、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、このアルミニウム層をパターニングして形成した。
(A)上記のゲート電極2と露出したガラス基板との上に、ゲート絶縁膜3の第1の層3aを形成した。具体的には、まず、強誘電性化合物であるチタン酸バリウムBaTiO3(比誘電率1500)の微粒子(直径約20nm以下、TPL社製、NanOxide HPB−1000)を用意し、この微粒子をSDS界面活性剤を含むメチルアルコール溶媒に混入した。その後、超音波ホモジナイザーを用いて、チタン酸バリウム微粒子を含んだメチルアルコール溶液(SDS界面活性剤を含む)から、均一分散液を作製した。なお、この均一分散液中のチタン酸バリウム微粒子の重量比が約5wt%となるよう調整した。
次いで、ゲート絶縁膜3とガラス基板1の上に真空蒸着法によって金を堆積し、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、ソース電極4およびドレイン電極5を形成した(図3(c))。これらの電極4、5の厚さは、約50nmであった。
ソース電極4およびドレイン電極5の形成後、真空蒸着法により、ペンタセンからなる半導体活性層6を形成した。真空蒸着法において、ペンタセンの堆積速度を約0.03〜0.04nm/秒とし、膜厚が約50nmとなるよう堆積時間を調整した。また、真空蒸着の際には、所定の形状の開口部を有するマスクを用いて、半導体活性層6を所定の形状に形成した(図3(d))。
まず、ガラス基板1上にゲート電極2を形成する。この形成方法は、上述の「(1−1)ゲート電極の形成」で説明したとおりである。
(A)次に、上記のゲート電極2と露出したガラス基板との上に、ゲート絶縁膜3の第1の層3aを形成した。具体的には、まず、金属酸化化合物である酸化ジルコニウムZrO2(比誘電率25)の微粒子(直径約20nm以下、NanoTek社製)を用意し、この微粒子を分散剤を含むジメチルアセトアミド溶媒に混入した。その後、超音波ホモジナイザーを用いて、酸化ジルコニウム微粒子を含むメチルアセトアミド溶液(分散剤を含む)から、均一分散液を作製した。なお、この均一分散液中の酸化ジルコニウムの重量比は、約10wt%であった。
まず、上述の「(1−1)ゲート電極の形成」で説明したように、ガラス基板1上にゲート電極2を形成する。
(A)次に、上記のゲート電極2と露出したガラス基板との上に、ゲート絶縁膜3の第1の層3aを形成した。具体的には、まず、金属酸化化合物である酸化チタンTiO2の微粒子(ルチル構造、比誘電率100、微粒子直径10nm、NanoTek製)を用意し、この微粒子を分散剤を含むイソプロピルアルコールIPA溶媒に混入した。その後、超音波ホモジナイザーを用いて、酸化チタン微粒子を含んだメチルアルコール溶液(分散剤を含む)から、均一分散液を作製した。なお、この均一分散液中の酸化チタン微粒子の重量比を約5wt%となるよう調整した。
図6は、本発明の第2の実施形態によるアクティブマトリックス構造体の模式的な上面図である。図示のとおり、本実施形態のアクティブマトリックス構造体100は、X方向に延びる複数の走査線24と、Y方向に延びる複数の信号線22と、複数の走査線と複数の信号線との各交差点に隣接して配置される薄膜トランジスタ26とを有している。この薄膜トランジスタ26は、本発明の第1の実施形態による薄膜トランジスタ(10、101〜105)であって良い。また、薄膜トランジスタ26のゲート電極2は走査線24と接続し、ソース電極4が信号線22と接続している。
図7は、本発明の第3の実施形態による表示装置の断面図である。図示のとおり、この表示装置200は、第2の実施形態によるアクティブマトリックス構造体100と、アクティブマトリックス構造体100のパッシベーション膜32の上方に設けられる表示素子形成領域33と、表示素子領域33の上に形成される透明電極34と、透明電極34上に設けられる上部基板36と、を含む。上部基板36は、典型的には、ガラス、およびポリエステル、ポリカーボネイト、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォンなどのプラスチックにより、形成して良い。
Claims (9)
- 半導体材料で形成される活性層;
前記活性層に結合するソース電極;
前記活性層に結合し、前記活性層を通して前記ソース電極と導通可能なドレイン電極;
前記活性層に結合し、有機高分子材料と無機化合物とが混合された層が複数層積層されて構成されるゲート絶縁膜;および
前記ゲート絶縁膜に接し、該ゲート絶縁膜を介して前記活性層にチャネル領域を形成できるよう構成されるゲート電極;
を備える薄膜トランジスタ。 - 前記ゲート絶縁膜を構成する積層された複数の層の各層の比誘電率が、前記活性層から前記ゲート電極へ向かう方向に沿って傾斜的に増加または減少する、請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜を構成する複数の層の中で前記活性層または前記ゲート電極に最も近い層が有機高分子材料を含まない無機化合物のみで構成される層である、請求項2に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜を構成する複数の層間の少なくとも一つの断面形状が、複数の三角形状または円錐状の部分が並置された構成である、請求項1から3のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記無機化合物が、金属酸化化合物、強誘電性化合物および希土類金属酸化化合物のうちの少なくとも一つの化合物である、請求項1から4のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜の厚さが2μm以下である、請求項1から5のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜が、表面自由エネルギーが50mJ/m2以下となるコーティング薄膜を介して前記活性層と結合する、請求項1から6のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタ。
- 請求項1から7のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタを製造する方法であって、
無機化合物の微粒子を用意するステップと、
前記微粒子を溶媒に混入して分散液を作製するステップと、
前記分散液を用いて前記無機化合物層を形成するステップと、
前記第1の膜上に前記有機高分子材料層を形成するステップと、
を有する、前記ゲート絶縁膜を形成する工程を含む方法。 - 第1の方向に沿って延びる複数の信号線;
前記第1の方向と交差する第2の方向に延びる複数の走査線;
前記複数の信号線と前記複数の走査線との各交差点に隣接して配置され、ゲート電極が前記走査線と接続し、ソース電極が前記信号線と接続する、請求項1から8のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタ;
前記薄膜トランジスタのドレイン電極と結合する表示素子;および
前記表示素子と結合し、前記ドレイン電極とともに前記表示素子へ電力を印加することができるよう設けられた電極;
を含む表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008316256A JP2010141142A (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008316256A JP2010141142A (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010141142A true JP2010141142A (ja) | 2010-06-24 |
Family
ID=42351008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008316256A Pending JP2010141142A (ja) | 2008-12-11 | 2008-12-11 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010141142A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011233587A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Seiko Epson Corp | 有機トランジスタ及びその製造方法 |
JP2011258894A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 電界効果型有機トランジスタ |
WO2012014786A1 (en) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semicondcutor device and manufacturing method thereof |
KR20150059884A (ko) * | 2013-11-25 | 2015-06-03 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 제조방법 |
TWI678798B (zh) * | 2018-06-07 | 2019-12-01 | 國立成功大學 | 高感度有機光感測器及其製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110999A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Toshiba Corp | トランジスタおよびその製造方法 |
JP2005072569A (ja) * | 2003-08-06 | 2005-03-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機電界効果トランジスタ |
JP2006173532A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 有機トランジスタおよび有機トランジスタの形成方法 |
JP2006190923A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-07-20 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP2006332661A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法と有機薄膜トランジスタを備えた有機電界発光表示装置 |
JP2007180131A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機fetおよびその製造方法 |
JP2009182299A (ja) * | 2008-02-01 | 2009-08-13 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機薄膜トランジスタの製造方法および有機薄膜トランジスタ |
-
2008
- 2008-12-11 JP JP2008316256A patent/JP2010141142A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002110999A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Toshiba Corp | トランジスタおよびその製造方法 |
JP2005072569A (ja) * | 2003-08-06 | 2005-03-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機電界効果トランジスタ |
JP2006190923A (ja) * | 2004-12-06 | 2006-07-20 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP2006173532A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 有機トランジスタおよび有機トランジスタの形成方法 |
JP2006332661A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法と有機薄膜トランジスタを備えた有機電界発光表示装置 |
JP2007180131A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 有機fetおよびその製造方法 |
JP2009182299A (ja) * | 2008-02-01 | 2009-08-13 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機薄膜トランジスタの製造方法および有機薄膜トランジスタ |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011233587A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Seiko Epson Corp | 有機トランジスタ及びその製造方法 |
JP2011258894A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 電界効果型有機トランジスタ |
WO2012014786A1 (en) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semicondcutor device and manufacturing method thereof |
US9559211B2 (en) | 2010-07-30 | 2017-01-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
KR20150059884A (ko) * | 2013-11-25 | 2015-06-03 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 제조방법 |
KR101616929B1 (ko) | 2013-11-25 | 2016-04-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 제조방법 |
US9461270B2 (en) | 2013-11-25 | 2016-10-04 | Lg Display Co., Ltd. | Method for manufacturing organic light emitting diode display device |
TWI678798B (zh) * | 2018-06-07 | 2019-12-01 | 國立成功大學 | 高感度有機光感測器及其製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11177465B2 (en) | Devices, structures, materials and methods for vertical light emitting transistors and light emitting displays | |
KR101943595B1 (ko) | 액티브 매트릭스 감쇄 소스 인에이블형 수직 유기 발광 트랜지스터 | |
US7485576B2 (en) | Method of forming conductive pattern, thin film transistor, and method of manufacturing the same | |
TWI278117B (en) | Active matrix substrate, electro-optical device, electronic apparatus, and manufacturing method of active matrix substrate | |
US8134145B2 (en) | Organic electronic device | |
JP5598410B2 (ja) | 有機半導体素子の製造方法および有機半導体素子 | |
US9053932B2 (en) | Methods of preparing graphene and device including graphene | |
US7166860B2 (en) | Electronic device and process for forming same | |
JP2010141142A (ja) | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 | |
TW200931699A (en) | Method for manufacturing organic thin film transistor, and organic thin film transistor | |
JP2005175386A (ja) | 有機半導体素子 | |
KR20160112030A (ko) | 듀얼게이트 박막트랜지스터 | |
JP2010141141A (ja) | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 | |
JP5025124B2 (ja) | 有機半導体装置及びその製造方法並びに表示装置 | |
JP2007053147A (ja) | 有機半導体装置及びその製造方法 | |
JP2006024862A (ja) | 有機トランジスタおよび有機トランジスタの製造方法 | |
JP2006173532A (ja) | 有機トランジスタおよび有機トランジスタの形成方法 | |
JP2005251809A (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタ回路、電子デバイスおよび電子機器 | |
JP5630364B2 (ja) | 有機半導体素子の製造方法および有機半導体素子 | |
KR100592266B1 (ko) | 유기 박막 트랜지스터의 제조 방법 | |
KR101102222B1 (ko) | 전기장 처리를 이용한 유기 박막 트랜지스터의 제조방법 | |
JP4470602B2 (ja) | 電界効果トランジスタ | |
CN100568528C (zh) | 电子器件及其形成工艺 | |
JP2004063977A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
Shu et al. | A flexible floating-gate based organic field-effect transistor non-volatile memory based on F8BT/PMMA integrated floating-gate/tunneling layer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110310 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130318 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130326 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130521 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130702 |