JP2010135748A - 圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド及びその製造方法、並びに液体噴射装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示す組成を有する圧電体前駆体膜を焼成して圧電体膜とする焼成工程と、焼成工程において焼成された圧電体膜に対し、窒素ガスを含むガスを吹き付ける冷却工程(ガス供給工程)とを含み、冷却工程において、圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上となるように、N2ガスの供給を調整する。
【選択図】図5
Description
前記圧電体膜の組成比について、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示し、
前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上であることを特徴とする。
Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示す組成を有する圧電体前駆体膜を焼成して圧電体膜とする焼成工程と、
前記焼成工程において焼成された圧電体膜に対し、窒素ガスを含むガスを吹き付けるガス供給工程と、を含み、
前記ガス供給工程において、前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上となるように、前記ガスの供給を調整することを特徴とする。
なお、「圧電体前駆体膜」とは、Pb、Zr、及びTiを含む金属有機物を触媒に溶解・分散したゾルを塗布乾燥してゲル化したものを意味する。
また、「ガスの供給を調整」とは、ガスの流量、供給時間、吹きつけ方向等を調整することを意味する。
前記圧電素子は、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、及びチタン(Ti)を含んで構成される圧電体膜を有し、
前記圧電体膜の組成比について、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示し、
前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上であることを特徴とする。
Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示す組成を有する圧電体前駆体膜を焼成して圧電体膜とする焼成工程と、
前記焼成工程において焼成された圧電体膜に対し、窒素ガスを含むガスを吹き付けるガス供給工程と、を含み、
前記ガス供給工程において、前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上となるように、前記ガスの供給を調整することを特徴とする。
前記圧電素子は、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、及びチタン(Ti)を含んで構成される圧電体膜を有し、
前記圧電体膜の組成比について、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示し、
前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上であることを特徴とする。
図1は、本実施形態の記録ヘッド1の構成を示す分解斜視図であり、図2(a)は記録ヘッド1の平面図、図2(b)は(a)におけるA−A′線断面図である。本実施形態における記録ヘッド1は、流路形成基板2、ノズルプレート3、弾性体膜4、絶縁体膜5、圧電素子6、及び、保護基板7等を積層して構成されている。
流路形成基板2は、本実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、この流路形成基板2には、複数の圧力発生室9がその幅方向に並設されている。また、流路形成基板2の圧力発生室9の長手方向外側の領域には連通部10が形成され、連通部10と各圧力発生室9とが、圧力発生室9毎に設けられたインク供給路11を介して連通されている。なお、連通部10は、後述する保護基板7のリザーバー部20と連通して各圧力発生室9の共通のインク室となるリザーバー21の一部を構成する。インク供給路11は、圧力発生室9よりも狭い幅で形成されており、連通部10から圧力発生室9に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。
まず、図3(a)に示すように、シリコンウェハーである流路形成基板用ウェハー29を約1100℃の拡散炉で熱酸化し、その表面に弾性膜4を構成する二酸化シリコン膜30を形成する。次いで、図3(b)に示すように、弾性膜4(二酸化シリコン膜30)上に、酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜5を形成する。具体的には、まず、弾性膜4上に、例えば、DCスパッタ法によりジルコニウム層を形成し、このジルコニウム層を熱酸化することにより酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜5を形成する。次いで、図3(c)に示すように、例えば、白金(Pt)とイリジウム(Ir)とを絶縁体膜5上に積層することにより下電極膜14を形成後、この下電極膜14を所定形状にパターニングする。
本実施形態例では、Pb:Zr:Ti組成が、1.18:0.516:0.484であるゾルを用いている。即ち、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrとしている。そして、圧電体層15の変位量と耐久性を両立させるべく、上記の冷却工程において、冷却ガスとして窒素を含むガスを用い、この窒素ガスの作用により圧電体膜32の特性を調整している。以下、この点について説明する。
ここで、従来で採用されているZr/Ti組成よりもTiリッチ側にすると、ヒステリシスは2Prが大きくなり、Vc(−)はマイナス側にシフトする。つまり、冷却ガスとしてO2ガスを採用することは、組成をTiリッチ側にするのと同等な効果がある。また、よりTiリッチにする程、変位低下率は大きくなる。冷却ガスがN2ガスであれば、従来(現状)のZr:Ti組成(0.516:0.484、つまり、Zrリッチ)を採用しつつもO2ガスで冷却した場合と比べてZrリッチとした場合の特性となるため、変位低下を小さく抑えられる。
図8は、本実施形態におけるプリンター34の構成を説明する斜視図である。このプリンター34は、インクカートリッジ35が取り付けられるカートリッジ装着部36を有し、記録ヘッド1を搭載するキャリッジ37を備えている。そして、キャリッジ37は、ガイドロッド38に軸支された状態で、駆動プーリー39と遊転プーリー40との間に架設したタイミングベルト41に接続されている。そして、この駆動プーリー39はパルスモーター42の回転軸に接合されており、このパルスモーター42の作動によってキャリッジ37が記録紙46(記録媒体又は着弾対象の一種。)の幅方向、即ち、主走査方向に移動するようになっている。
Claims (5)
- 鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、及びチタン(Ti)を含んで構成される圧電体膜を有する圧電素子であって、
前記圧電体膜の組成比について、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示し、
前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上であることを特徴とする圧電素子。 - 鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、及びチタン(Ti)を含んで構成される圧電体膜を有する圧電素子の製造方法であって、
Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示す組成を有する圧電体前駆体膜を焼成して圧電体膜とする焼成工程と、
前記焼成工程において焼成された圧電体膜に対し、窒素ガスを含むガスを吹き付けるガス供給工程と、を含み、
前記ガス供給工程において、前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上となるように、前記ガスの供給を調整することを特徴とする圧電素子の製造方法。 - ノズル開口、当該ノズル開口に連通する圧力発生室、及び圧電素子を備え、当該圧電素子の作動により前記ノズル開口から液体を噴射する液体噴射ヘッドであって、
前記圧電素子は、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、及びチタン(Ti)を含んで構成される圧電体膜を有し、
前記圧電体膜の組成比について、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示し、
前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上であることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - ノズル開口、当該ノズル開口に連通する圧力発生室、及び圧電素子を備え、当該圧電素子の作動により前記ノズル開口から液体を噴射する液体噴射ヘッドを製造する製造方法であって、
Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示す組成を有する圧電体前駆体膜を焼成して圧電体膜とする焼成工程と、
前記焼成工程において焼成された圧電体膜に対し、窒素ガスを含むガスを吹き付けるガス供給工程と、を含み、
前記ガス供給工程において、前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上となるように、前記ガスの供給を調整することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 - ノズル開口、当該ノズル開口に連通する圧力発生室、及び圧電素子を有し、当該圧電素子の作動により前記ノズル開口から液体を噴射する液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置であって、
前記圧電素子は、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、及びチタン(Ti)を含んで構成される圧電体膜を有し、
前記圧電体膜の組成比について、Zr/Ti+Zr>Ti/Ti+Zrの関係を示し、
前記圧電体膜の分極−電界ヒステリシス特性において、飽和分極Pmと残留分極Prとの関係Pm/2Prが1.95以上、尚且つ、負側の抗電界Vc(−)が−1.75V以上であることを特徴とする液体噴射装置。
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