JP2010135609A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ウェーハとその上に形成される膜との密着性を向上させる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ10上に下地膜13を形成する工程と、半導体ウェーハ10と下地膜13との間にそれら両者の反応層14を形成するベーク処理を行う工程と、下地膜13を除去して反応層14のみを半導体ウェーハ10上に残すウェット処理を行う工程と、反応層14上にレジスト膜15を形成する工程と、レジスト膜15に対する選択的露光及び現像を行いレジスト膜15を選択的に除去しレジスト膜15をパターニングする工程と、パターニングされたレジスト膜15をマスクにして半導体ウェーハ10に対する処理を行う工程と、を備えている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ10上に下地膜13を形成する工程と、半導体ウェーハ10と下地膜13との間にそれら両者の反応層14を形成するベーク処理を行う工程と、下地膜13を除去して反応層14のみを半導体ウェーハ10上に残すウェット処理を行う工程と、反応層14上にレジスト膜15を形成する工程と、レジスト膜15に対する選択的露光及び現像を行いレジスト膜15を選択的に除去しレジスト膜15をパターニングする工程と、パターニングされたレジスト膜15をマスクにして半導体ウェーハ10に対する処理を行う工程と、を備えている。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の製造方法に関する。
レジストのパターニングの際にレジスト直下に反射防止膜を用いない単層レジストパターニングプロセスにおいて、その問題点の一つに、レジストパターンとウェーハとの界面に現像液やリンス液が浸入したり、リンス液の表面張力などにより、レジストパターンが剥がれてしまう問題がある。特に、ウェーハ表面材質が水溶性の場合にレジスト剥がれが起きやすい。
ウェーハとレジストとの密着性を高める方法として、ウェーハ表面を疎水化する方法が一般に行われている。この疎水化処理としては、HMDS(Hexamethyldisilazane:ヘキサメチルジシラザン)の蒸気雰囲気に表面をさらす方法がある(例えば特許文献1)。
現在、半導体装置の高性能化、複雑化に伴い、レジストを使ったパターニング対象の膜種は増加の一途であり、単層レジストプロセスにおいてもあらゆる膜種に対して安定したパターニング性能を発揮することが要求されている。しかし、特に膜種が水溶性である場合、HMDS処理を行ってもレジストとウェーハとの界面への現像液やリンス液の浸入を十分に抑止することができなかった。
特開2002−124578号公報
本発明は、半導体ウェーハとその上に形成される膜との密着性を向上させる半導体装置の製造方法を提供する。
本発明の一態様によれば、半導体ウェーハ上に下地膜を形成する工程と、前記下地膜を形成後、前記半導体ウェーハと前記下地膜との間にそれら両者の反応層を形成する工程と、前記下地膜を除去して、前記反応層のみを前記半導体ウェーハ上に残す処理を行う工程と、前記反応層上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜をパターニングする工程と、前記パターニングされたレジスト膜をマスクにして、前記下地膜に対する処理を行う工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
本発明によれば、半導体ウェーハとその上に形成される膜との密着性を向上させる半導体装置の製造方法が提供される。
以下、図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。
[第1実施形態]
図1〜図3に、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の製造方法の要部工程を示す。
図1〜図3に、本発明の第1実施形態に係る半導体装置の製造方法の要部工程を示す。
図1(a)に本実施形態における半導体ウェーハ10を示す。本実施形態では、基板11上に被加工膜12が形成されて半導体ウェーハ10が構成される。例えば、基板11はシリコン基板であり、被加工膜12はシリコン酸化膜(SiO2膜)である。そのシリコン酸化膜は、例えばスパッタ法で10nm程の厚さに形成される。
次に、コータ・デベロッパー装置を用いて、図1(b)に示すように、被加工膜12上に下地膜13を形成する。本実施形態では、下地膜13として、例えば非感光性の現像液可溶型反射防止機能を有する材料を用いる。その材料は、回転塗布法により液状の状態で被加工膜12上に塗布され、その後、例えば160℃で90秒間ベーク処理されて溶剤成分が除去され、膜厚50nmの下地膜13が得られる。また、このベーク処理により、被加工膜12と下地膜13との相互作用で生じたそれら両者の反応層14が、被加工膜12と下地膜13との界面に形成される。この反応層14は非常に薄く例えば2nmほどである。また、この反応層14はカーボン(炭素)を含む有機層である。
次に、下地膜13をウェット処理により除去する。具体的には、コータ・デベロッパー装置内の現像ユニットにより、アルカリ系の現像液を用いた現像を30秒間行い、下地膜13を除去する。このときの現像液に対して上記反応層14は不溶であり、図1(c)に示すように被加工膜12上には反応層14が薄く残される。
次に、図2(a)に示すように、反応層14上にレジスト膜15を例えば300nmの厚さに形成する。このレジスト膜15は、露光により酸を発生して現像液に対して可溶となるポジ型の化学増幅型レジストである。
次に、図示しないレチクルを用いて、光をレジスト膜15に対して選択的に照射(露光)した後、アルカリ系の現像液を用いた現像を行うことで、図2(b)に示すようにレジスト膜15を選択的に除去する。すなわち、レジスト膜15は露光を受けて酸が発生した部分が現像液に対して可溶となり除去される。
このレジスト膜15現像時の現像液に対して下地の反応層14は不溶であり、図2(b)に示すように、レジスト膜15の現像後も反応層14は被加工膜12の全面に残ったままである。そして、例えばカーボンを含む有機層である反応層14と、現像時に残されたレジスト膜15との密着性は高く、さらに反応層14は疎水性であることもあって、現像液やリンス液がレジスト膜15と反応層14との界面に浸入し難い。そのため、現像・リンス時におけるレジスト膜15の剥離を防ぐことができる。
本発明者等は、前述した工程により、ハーフピッチが200nmのラインアンドスペースパターンにレジスト膜15のパターニングを行ったところ、被加工膜12全面にわたってレジスト膜15パターンが剥がれを生じることなく安定して形成されたのを確認できた。
なお、レジスト膜15の下地に対する密着性を高めて剥離を防ぐという点では、下地膜13を除去せずにそのまま被加工膜12上に残して、その下地膜13上にレジスト膜15を形成して、レジスト膜15の露光及び現像を行うという方法も考えられる。
レジスト膜15の下に形成され、レジスト膜15との密着性が高い膜としては、現状、容易に入手できるものとして、反射防止膜が挙げられる。このレジスト下に形成される反射防止膜(BARC:Bottom Anti-Reflection Coating)としては、現在、非感光性の現像液可溶型反射防止膜が主流となっているが、その理由はレジストとのケミカルなインタラクションが小さいため、レジストをあまり選ばずに使用できる利点があるためである。
しかし、この非感光性の現像液可溶型反射防止膜は、非露光部においても、レジスト現像時の現像液に対して可溶であるため、それを下地膜13として残したままレジスト膜15の現像を行うと、図6に示すように、非露光部のレジスト膜15の下の部分の側面側も横方向からエッチングされてしまい、下地膜13が細くなってレジスト膜15を安定して支えることができず、レジスト膜15の倒れや、被加工膜12上からの剥離などを引き起こす可能性が懸念される。
これに対して、本実施形態では、非感光性の現像液可溶型反射防止膜を下地膜13として用いても、前述したように、下地膜13を除去して被加工膜12との反応層14のみを薄く残し、その反応層14の上にレジスト膜15を形成し、その状態でレジスト膜15に対する露光及び現像を行う。したがって、レジスト膜15の下の層が図6に示すように細くなってしまうことがなく、数nm程度の薄い反応層14を介してレジスト膜15を安定して被加工膜12に対して密着させることができる。
図2(b)に示すレジスト膜15のパターニングの後、残されたレジスト膜15をマスクにしてウェット処理を行い、露出している反応層14及びその下の被加工膜12を選択的に除去し、被加工膜12をパターニングする(図3(a))。
次に、レジスト膜15及びその下の反応層14を除去し(図3(b))、基板11上に残された被加工膜12をマスクにして、基板11に対してイオン注入、ウェット処理などの各種処理が行われる。
[第2実施形態]
次に、図4は本発明の第2実施形態に係る半導体装置の製造方法の要部工程を示す。
次に、図4は本発明の第2実施形態に係る半導体装置の製造方法の要部工程を示す。
本実施形態では、上記第1実施形態と同様に反応層14上にレジスト膜15を形成する工程まで行われた後、レジスト膜15上に反射防止膜16(TARC:Top Anti-Reflection Coating)を例えば40nmの厚さに形成する。そして、その反射防止膜16が形成された状態で、レジスト膜15に対する露光及び現像が行われ、レジスト膜15がパターニングされる。
本実施形態では、反射防止膜16を形成することで、露光光の反射を抑えてレジストパターンの形状精度を高くすることができる。なお、反応層14を形成するための下地膜13として前述したような非感光性の現像液可溶型反射防止膜を用いた場合にも、反応層14は若干ではあるが反射防止機能を有し、その反応層14がBARC(Bottom Anti-Reflection Coating)として機能し、レジストパターンの形状精度の向上が期待できる。
前述した第1、第2実施形態において、被加工膜12としては、シリコン酸化膜(SiO2膜)を例示したが、それに限らず、例えば、Al2O3膜、Si膜、TiN膜などであってもよい。
[第3実施形態]
次に、本発明をインプリントリソグラフィに適用した第3実施形態について説明する。
次に、本発明をインプリントリソグラフィに適用した第3実施形態について説明する。
インプリントリソグラフィは、テンプレート又はモールドと呼ばれる型をレジストに接触させることにより、テンプレート表面に形成されたパターンの反転パターンをレジストに転写することを特徴とする。
インプリントリソグラフィにおける問題点の一つとして、ウェーハとレジストの密着性不足に起因するレジスト剥がれがある。これは、テンプレートをレジストに接触させたときに、テンプレートとレジストとの密着性の方が、レジストとウェーハとの密着性よりも大きい場合に起こると考えられており、解決策として、テンプレート表面に剥離層を形成することによってテンプレートとレジストの密着性を低下させたり、レジストとウェーハの間に密着層を設けたりすることによりレジストとウェーハの密着性を高める方法が提案されている。
本発明者等は、インプリントリソグラフィの分野における長年の開発経験において、ウェーハ表面がシリコン酸化膜の場合にレジストとウェーハとの密着性が特に低く、その場合、ウェーハ表面上に有機膜を塗布して密着層を形成することが有効であることを確認している。しかしながら、現在一般的に用いられている密着層は、その膜厚が数nm程度と極めて薄いため、局所的に膜が塗布されていないピンホール欠陥の発生が懸念される。しかしながらその薄さのために、欠陥の検出が極めて困難である。
量産現場においては、塗布膜のダストや膜厚の品質管理を定期的に行うことにより、膜の品質が一定になるようにコントロールを行うが、上記密着層は塗布欠陥の品質管理が事実上不可能であるため、安定した欠陥レベルを達成することが困難であり、その解決策が求められていた。
本発明者等は鋭意検討を行った結果、1nm弱〜数nmの有機樹脂層を、ピンホール欠陥を発生させることなく、しかも安定した膜厚で形成する方法を見出した。
図5に、本発明の第3実施形態に係る半導体装置の製造方法の要部工程を示す。
図5(a)に本実施形態における半導体ウェーハ20を示す。本実施形態では、基板21上に被加工膜22が形成されて半導体ウェーハ20が構成される。例えば、基板21はシリコン基板であり、被加工膜22はシリコン酸化膜である。シリコン酸化膜は、例えばCVD(chemical vapor deposition)法または塗布法で形成される。
被加工膜22の上には下地膜としてレジスト膜23(第1のレジスト)が形成される。このレジスト膜23は、露光光(電子線も含む)に感応して酸を発生する酸発生剤と、その酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分とを含有するポジ型の化学増幅型レジストである。このようなレジスト膜23としては、一般的なArFリソグラフィ用化学増幅型ポジレジスト、KrFリソグラフィ用化学増幅型ポジレジスト、電子線リソグラフィ用化学増幅型ポジレジストなど、露光光源に応じて各種化学増幅型レジストを用いることが可能である。
このレジスト膜23の種類によって、後工程にて得られる密着層として機能する薄膜の膜厚が異なることを本発明者等は見出している。インプリントリソグラフィに用いる樹脂との密着性を考慮して、レジスト膜23の適切な材料が選択される。
また、レジスト膜23の膜厚は、数10nm〜数μmの範囲であれば特に問わない。レジスト膜23のダスト等の品質管理は市販に供されている光学式検査装置等を用いて行うことができる。
次に、レジスト膜23の全面に露光を行う。これにより、レジスト膜23中に酸が発生し、露光後にさらにベーク処理を行って、発生した酸を拡散させる。これにより、レジスト膜23はアルカリ系の現像液に対して可溶となる。
そして、アルカリ系の現像液を用いてレジスト膜23を除去する。このとき、レジスト膜23の全てが除去されるわけではなく、図5(b)に示すように、レジスト膜23における被加工膜22と接する側の一部(以下密着層24(または反応層)とする)が残る。これは、レジスト膜23と被加工膜(本実施形態ではシリコン酸化膜)22との界面でそれら両者の反応が生じ、レジスト膜23の現像液に対して不溶またはエッチング選択性のある膜が形成されたと考えられる。密着層24は、膜厚が1nm弱〜数nmと極めて薄く、被加工膜22全面に均一に残存する。
次に、図5(c)に示すように、密着層24の上にレジスト25(第2のレジスト)を供給した後、一方の表面側にパターン50aが形成されたテンプレート50をレジスト25の表面に押し付けて接触させる。さらに、レジスト25を硬化することで、テンプレート50のパターン50aの反転パターンがレジスト25に転写形成される。
その後、テンプレート50をレジスト25から離す。そして、本実施形態によれば、レジスト25は密着層24を介して半導体ウェーハ20に対して高い密着力で密着されているため、テンプレート50の引き離し時にレジスト25が半導体ウェーハ20から剥がれることを防止できる。
また、密着層24は非常に薄いものであるが、その薄い層は、直接被加工膜22上に形成されたものではなく、前述したように、被加工膜22上にレジスト膜23を形成した後にそのレジスト膜23を除去した結果、被加工膜22との界面に残ったものである。レジスト膜23は比較的厚く形成されるので、その欠陥レベルや膜厚コントロールが容易であり、したがって、そのレジスト膜23に起因する密着層24も欠陥レベルを一定以下に抑えた良質なものを形成できる。
なお、テンプレート50を使ったパターン転写におけるレジスト25の硬化工程は、半導体ウェーハ20を加熱しながらテンプレート50をレジスト25に押し付け、その後半導体ウェーハ20を降温させてからテンプレート50を離すいわゆる「熱式」で行ってもよいし、あるいは、液状に塗布した紫外線硬化型のレジスト25に対して透明なテンプレート50を押し付けて紫外線を照射してレジスト25を硬化させた後に、テンプレート50を離すいわゆる「紫外線照射式」で行ってもよい。
前述のようにレジスト25にパターンが転写形成された後、そのパターンが形成されたレジスト25をマスクにして、下地の被加工膜22の加工(例えばドライエッチング)が行われ、被加工膜22がパターニングされる。
本発明者等は、シリコン基板表面にシリコン酸化膜を有する場合において、前述したような効果が得られることを確認しているが、極薄膜である密着層24形成の推定メカニズムから考えると、被加工膜22としてはシリコン酸化膜の他にもポーラスな膜であれば前述したのと同様な効果が得られるものと思われる。
以上、具体例を参照しつつ本発明の実施形態について説明した。しかし、本発明は、それらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
前述した第1〜第3実施形態においては、半導体ウェーハとしては基板とその表面に形成された被加工膜からなる構成を例示したが、基板のみから半導体ウェーハが構成される形態にも本発明は適用可能である。例えば、シリコン基板表面に、直接、下地膜を形成し、基板表面と下地膜との界面に反応層を形成した後下地膜を除去し、残った反応層上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜をパターニングして基板表面を選択的に露出させ、イオン注入などを行ってもよい。
10…半導体ウェーハ、11…基板、12…被加工膜、13…下地膜、14…反応層、15…レジスト膜、20…半導体ウェーハ、21…基板、22…被加工膜、23…レジスト膜、24…密着層、25…レジスト、50…ナノインプリント用テンプレート
Claims (5)
- 半導体ウェーハ上に下地膜を形成する工程と、
前記下地膜を形成後、前記半導体ウェーハと前記下地膜との間にそれら両者の反応層を形成する工程と、
前記下地膜を除去して、前記反応層のみを前記半導体ウェーハ上に残す処理を行う工程と、
前記反応層上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜をパターニングする工程と、
前記パターニングされたレジスト膜をマスクにして、前記下地膜に対する処理を行う工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記反応層は、前記レジスト膜のパターニング時に用いられる現像液に対して不溶であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記反応層は炭素を含む有機層であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記レジスト膜をパターニングする工程は、前記レジスト膜に凹凸パターンが形成されたテンプレートを接触させる工程と、前記レジスト膜を硬化する工程と、前記テンプレートを前記レジスト膜から離す工程と、を有することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記下地膜を、前記下地膜全面を露光した後に除去することを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
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