JP2010117369A - X線分光方法及びx線分光装置 - Google Patents
X線分光方法及びx線分光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010117369A JP2010117369A JP2010035484A JP2010035484A JP2010117369A JP 2010117369 A JP2010117369 A JP 2010117369A JP 2010035484 A JP2010035484 A JP 2010035484A JP 2010035484 A JP2010035484 A JP 2010035484A JP 2010117369 A JP2010117369 A JP 2010117369A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- wavelength
- parabola
- multilayer mirror
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】 第1波長のX線と第2波長のX線が同じ焦点Fから取り出されるX線源を使う。多層膜ミラー102の曲率を変更可能にする。第1波長を平行X線ビームとして取り出すには、多層膜ミラー102の反射面を第1放物線98に沿うように湾曲させ、その焦点位置にX線源の焦点Fを配置する。第2波長を取り出すには、多層膜ミラー102の反射面を第2放物線100に沿うように湾曲させ、その焦点位置にX線源の焦点Fを配置する。上述の2種類の分光段階において、X線源の位置及び姿勢は同じであり、多層膜ミラー102の位置と姿勢は変化するが出射スリット104の位置は同じである。これにより、二つの分光段階で、同じ位置と方向に平行X線ビームが取り出される。
【選択図】 図13
Description
50 第1の多層膜ミラー
52 第2放物線
54 第2の多層膜ミラー
68 回転対陰極
70 溝
71 ベース
72 外層
Claims (4)
- 次の(a)〜(d)の各段階を備えるX線分光方法。
(a)第1波長のX線と第2波長のX線が同じ焦点から取り出されるX線源を準備する段階。
(b)傾斜格子面間隔の多層膜からなる湾曲反射面を有する多層膜ミラーを準備する段階。
(c)前記第1波長に基づく第1放物線の焦点位置に前記X線源の焦点を配置するとともに、この第1放物線に沿うように前記湾曲反射面を配置して、前記X線源で発生した第1波長のX線を前記湾曲反射面で反射させて平行X線ビームを作り、この平行X線ビームを出射スリットから取り出す第1分光段階。
(d)前記第2波長に基づく第2放物線の焦点位置に前記X線源の焦点を配置するとともに、この第2放物線に沿うように前記湾曲反射面を配置して、前記X線源で発生した第2波長のX線を前記湾曲反射面で反射させて平行X線ビームを作り、この平行X線ビームを前記出射スリットから取り出す第2分光段階であって、前記X線源の位置及び姿勢が前記第1分光段階と同じであり、前記湾曲反射面の位置と姿勢と曲率が前記第1分光段階から変化していて、前記出射スリットの位置が第1分光段階と同じであり、前記第1分光段階と同じ位置及び方向に平行X線ビームが取り出される第2分光段階。 - 請求項1に記載のX線分光方法において、前記多層膜ミラーは、ミラーを構成する基板の一端を固定して先端を自由端とする形式のものであり、前記自由端に荷重をかけて基板を湾曲させることで前記湾曲反射面の曲率を変えることができて、かつ、前記基板の外形曲線は、前記自由端に荷重をかけることで前記基板の少なくとも反射領域が前記第1放物線に沿うように湾曲するような形状に定められていることを特徴とするX線分光方法。
- 次の(a)〜(d)を備えるX線分光装置。
(a)第1波長のX線と第2波長のX線が同じ焦点から取り出されるX線源。
(b)傾斜格子面間隔の多層膜からなる湾曲反射面を有する多層膜ミラーであって、前記第1波長に基づき前記第1焦点を焦点位置とする第1放物線に沿う第1位置及び第1姿勢と、前記第2波長に基づき前記第2焦点を焦点位置とする第2放物線に沿う第2位置及び第2姿勢とに選択的に配置可能な多層膜ミラー。
(c)前記湾曲反射面の曲率を変更するための曲率変更手段。
(d)前記湾曲反射面から出てくる平行X線ビームの取り出し範囲を制限する出射スリットであって、前記第1波長の平行X線ビームと前記第2波長の平行X線ビームとを同じ位置で取り出すようにした出射スリット。 - 請求項3に記載のX線分光装置において、前記多層膜ミラーは、ミラーを構成する基板の一端を固定して先端を自由端とする形式のものであり、前記自由端に荷重をかけて基板を湾曲させることで前記湾曲反射面の曲率を変えることができて、かつ、前記基板の外形曲線は、前記自由端に荷重をかけることで前記基板の少なくとも反射領域が前記第1放物線に沿うように湾曲するような形状に定められていることを特徴とするX線分光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010035484A JP4974391B2 (ja) | 2010-02-21 | 2010-02-21 | X線分光方法及びx線分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010035484A JP4974391B2 (ja) | 2010-02-21 | 2010-02-21 | X線分光方法及びx線分光装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001195448A Division JP4657506B2 (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | X線分光方法及びx線分光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010117369A true JP2010117369A (ja) | 2010-05-27 |
JP4974391B2 JP4974391B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=42305100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010035484A Expired - Fee Related JP4974391B2 (ja) | 2010-02-21 | 2010-02-21 | X線分光方法及びx線分光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4974391B2 (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0431509A (ja) * | 1990-05-28 | 1992-02-03 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 基礎の造成方法 |
JPH06167605A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | Kobe Steel Ltd | 光学素子 |
JPH06215710A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Rigaku Corp | 異種波長x線を発生可能なx線発生装置 |
JPH08105850A (ja) * | 1994-10-04 | 1996-04-23 | Kobe Steel Ltd | X線分析装置 |
JPH08201320A (ja) * | 1995-01-30 | 1996-08-09 | Rigaku Ind Co | X線分析装置 |
JPH11287773A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-19 | Rigaku Denki Kk | X線回折分析方法及びx線回折分析装置 |
JPH11304728A (ja) * | 1998-04-23 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | X線計測装置 |
JP2000009899A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-14 | Toshiba Corp | 結晶分光器 |
WO2001009904A2 (en) * | 1999-08-02 | 2001-02-08 | Osmic, Inc. | Multilayer optics with adjustable working wavelength |
JP2004117343A (ja) * | 2002-09-03 | 2004-04-15 | Rigaku Corp | 平行x線ビームの取り出し方法及び装置並びにx線回折装置 |
-
2010
- 2010-02-21 JP JP2010035484A patent/JP4974391B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0431509A (ja) * | 1990-05-28 | 1992-02-03 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 基礎の造成方法 |
JPH06167605A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | Kobe Steel Ltd | 光学素子 |
JPH06215710A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Rigaku Corp | 異種波長x線を発生可能なx線発生装置 |
JPH08105850A (ja) * | 1994-10-04 | 1996-04-23 | Kobe Steel Ltd | X線分析装置 |
JPH08201320A (ja) * | 1995-01-30 | 1996-08-09 | Rigaku Ind Co | X線分析装置 |
JPH11287773A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-19 | Rigaku Denki Kk | X線回折分析方法及びx線回折分析装置 |
JPH11304728A (ja) * | 1998-04-23 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | X線計測装置 |
JP2000009899A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-01-14 | Toshiba Corp | 結晶分光器 |
WO2001009904A2 (en) * | 1999-08-02 | 2001-02-08 | Osmic, Inc. | Multilayer optics with adjustable working wavelength |
JP2004117343A (ja) * | 2002-09-03 | 2004-04-15 | Rigaku Corp | 平行x線ビームの取り出し方法及び装置並びにx線回折装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4974391B2 (ja) | 2012-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10416099B2 (en) | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system | |
US9823203B2 (en) | X-ray surface analysis and measurement apparatus | |
US10256002B2 (en) | Support structure and highly aligned monochromatic X-ray optics for X-ray analysis engines and analyzers | |
US9449780B2 (en) | X-ray analyzer having multiple excitation energy bands produced using multi-material x-ray tube anodes and monochromating optics | |
JP4971383B2 (ja) | X線回折方法及びx線回折装置 | |
US20080159707A1 (en) | Multilayer optic device and system and method for making same | |
JP2005530170A (ja) | 光学アセンブリ及びその製造方法 | |
JP5990734B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
KR20160075078A (ko) | 다파장 x-선을 이용한 박막 두께 측정 장치 | |
CZ2002791A3 (cs) | Vícevrstvá optika s nastavitelnou pracovní vlnovou délkou | |
JP2018091850A (ja) | X線測定のための円錐コリメータ | |
JPH11502025A (ja) | 同時x線回折及びx線蛍光測定のための装置 | |
JP5464419B2 (ja) | 分光結晶、波長分散型x線分析装置および元素分布測定方法 | |
WO2013108876A1 (ja) | X線回折装置 | |
Yumoto et al. | Fabrication of elliptically figured mirror for focusing hard x rays to size less than 50nm | |
Kubec et al. | Point focusing with flat and wedged crossed multilayer Laue lenses | |
JP4657506B2 (ja) | X線分光方法及びx線分光装置 | |
EP3602020B1 (en) | Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system | |
JP2001099994A (ja) | X線集光装置及びx線装置 | |
CN108572184B (zh) | 高分辨率x射线衍射方法和装置 | |
Trail et al. | Measurement of soft x‐ray multilayer mirror reflectance at normal incidence using laser‐produced plasmas | |
JP4974391B2 (ja) | X線分光方法及びx線分光装置 | |
Jiang et al. | Basic principle and performance characteristics of multilayer beam conditioning optics | |
CN1590992A (zh) | 用于x射线衍射测量的探测单元 | |
Imazono et al. | Development of an objective flat-field spectrograph for electron microscopic soft x-ray emission spectrometry in 50-4000 eV |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100301 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110929 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120405 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120409 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |