JP4974391B2 - X線分光方法及びx線分光装置 - Google Patents
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Description
50 第1の多層膜ミラー
52 第2放物線
54 第2の多層膜ミラー
68 回転対陰極
70 溝
71 ベース
72 外層
Claims (4)
- 次の(a)〜(d)の各段階を備えるX線分光方法。
(a)第1波長のX線と第2波長のX線が同じ焦点から取り出されるX線源を準備する段階。
(b)傾斜格子面間隔の多層膜からなる湾曲反射面を有する多層膜ミラーを準備する段階。
(c)前記第1波長に基づく第1放物線の焦点位置に前記X線源の焦点を配置するとともに、この第1放物線に沿うように前記湾曲反射面を配置して、前記X線源で発生した第1波長のX線を前記湾曲反射面で反射させて平行X線ビームを作り、この平行X線ビームを出射スリットから取り出す第1分光段階。
(d)前記第2波長に基づく第2放物線の焦点位置に前記X線源の焦点を配置するとともに、この第2放物線に沿うように前記湾曲反射面を配置して、前記X線源で発生した第2波長のX線を前記湾曲反射面で反射させて平行X線ビームを作り、この平行X線ビームを前記出射スリットから取り出す第2分光段階であって、前記X線源の位置及び姿勢が前記第1分光段階と同じであり、前記湾曲反射面の位置と姿勢と曲率が前記第1分光段階から変化していて、前記出射スリットの位置が第1分光段階と同じであり、前記第1分光段階と同じ位置及び方向に平行X線ビームが取り出される第2分光段階。 - 請求項1に記載のX線分光方法において、
前記多層膜ミラーは、ミラーを構成する基板の一端を固定して先端を自由端とする形式のものであり、前記自由端に荷重をかけて基板を湾曲させることで前記湾曲反射面の曲率を変えることができて、かつ、前記基板の外形曲線は、前記自由端に荷重をかけることで前記基板の少なくとも反射領域が前記第1放物線に沿うように湾曲するような形状に定められていて、
前記多層膜ミラーの前記自由端に荷重をかけて基板を湾曲させる場合に前記自由端の変位量を変えることで、前記基板の少なくとも反射領域が前記第1放物線に沿うように湾曲する状態と前記第2放物線に沿うように湾曲する状態とが実現される、ことを特徴とするX線分光方法。 - 次の(a)〜(d)を備えるX線分光装置。
(a)第1波長のX線と第2波長のX線が同じ焦点から取り出されるX線源。
(b)傾斜格子面間隔の多層膜からなる湾曲反射面を有する多層膜ミラーであって、前記第1波長に基づき前記第1焦点を焦点位置とする第1放物線に沿う第1位置及び第1姿勢と、前記第2波長に基づき前記第2焦点を焦点位置とする第2放物線に沿う第2位置及び第2姿勢とに選択的に配置可能な多層膜ミラー。
(c)前記湾曲反射面の曲率を変更するための曲率変更手段。
(d)前記湾曲反射面から出てくる平行X線ビームの取り出し範囲を制限する出射スリットであって、前記第1波長の平行X線ビームと前記第2波長の平行X線ビームとを同じ位置で取り出すようにした出射スリット。 - 請求項3に記載のX線分光装置において、
前記多層膜ミラーは、ミラーを構成する基板の一端を固定して先端を自由端とする形式のものであり、前記自由端に荷重をかけて基板を湾曲させることで前記湾曲反射面の曲率を変えることができて、かつ、前記基板の外形曲線は、前記自由端に荷重をかけることで前記基板の少なくとも反射領域が前記第1放物線に沿うように湾曲するような形状に定められていて、
前記多層膜ミラーの前記自由端に荷重をかけて基板を湾曲させる場合に前記自由端の変位量を変えることで、前記基板の少なくとも反射領域が前記第1放物線に沿うように湾曲する状態と前記第2放物線に沿うように湾曲する状態とが実現される、ことを特徴とするX線分光装置。
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