JP2010102693A - 基板処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ガス配管内のガスの流れが電磁バルブを実際に開閉する前に表示されることで、誤った操作による電磁バルブの開閉し忘れ、或は誤ったガスの混合による危険を防止し、安全性の向上を図る。
【解決手段】ガス配管路１に設けられたバルブ２，３，３６，３８の開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部４４と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部４４とを具備する。
【選択図】図２

Description

本発明は、ウェーハ等の基板に酸化処理、拡散処理、薄膜の生成等の処理を行う基板処理装置、特にガス配管中のガスの状態を表示する機能を具備する基板処理装置に関するものである。
基板処理装置は、気密な処理室を具備し、該処理室に各種のガスを供給してウェーハに薄膜を生成し、或はエッチングガスを供給して薄膜をエッチングし、パターンの生成を行う等して半導体を製造するものである。
従って、基板処理装置では１つの処理室に対して複数系統のガス供給ライン、及び排気系等が接続されている。
又、前記基板処理装置には前記ガス供給ライン、排気系のガス供給動作を制御する制御部、処理室でのウェーハ処理状態、或は前記ガス供給ライン、排気系でのガス供給状態を示す表示部付操作部を具備している。
前記制御部から前記表示部に対して、ウェーハ処理の状態、圧力計、流量制御器の流量検出状態、電磁バルブ等の作動状態に関する情報が送られる。
前記処理室には複数のガス供給ラインが接続され、処理内容に応じてガス供給用電磁バルブ、インターロック用電磁バルブの開閉が前記制御部、又は前記表示部から前記制御部を介して行われる。
又、前記表示部にはガス給排状態を示す為のガスモニタ表示部があり、各ガス供給ラインの電磁バルブの開閉状態が示され、どのガス配管からガス処理室に供給されているか分る様になっている。
又、混合により危険を生じるガスの電磁バルブの開閉に関しては、前記制御部内のＣＰＵによりインターロックが施され、混合により危険が生じる前記ガスの電磁バルブの同時開はできない様になっている。
上記の様に、従来の基板処理装置では各ガス供給ラインの電磁バルブの開閉状態、ガス流量制御器からの流量検出状態の結果より、各ガス供給ラインの流れている状態を知る様になっている。
即ち、図８に示す様にガス配管１にガス供給用電磁バルブ２、インターロック用電磁バルブ３が上流側より順次設けられ、区分ａ迄のガスがレギュレータ４を通り、区分ｂ、区分ｃ迄到達し、前記ガス供給用電磁バルブ２が開かれ、区分ｄ迄到達する。この状態で流量制御器（マスフローコントローラ（ＭＦＣ））５が流量制御を行った状態であれば区分ｅ迄ガスが到達し、同手順により区分ｆ迄ガスが到達したことが表示される。
上流側から順次若しくは一度に電磁バルブの開閉を行えば、意図した通りに供給ガスがチューブ（図示せず）迄到達するが、電磁バルブの開閉し忘れ、前記流量制御器５の流量制御の実施忘れが起こった際にはチューブ迄ガスが流れていない状態となり、実際に電磁バルブを開閉した状態でしか配管内のガス状態を確認できない。
従って、従来の様に到達しているガス状態が表示されるだけでは、電磁バルブを開ける前に配管内の供給ガスがどの様に流れるかを知ることができない。
又、半導体製造に使用されるガスは、毒性ガスや可燃性ガス等が使用される場合が多く、不用意にガスを流すと人体へ影響を与える危険性が有り、又流しているガスが意図しない経路で流れた場合には基板処理に多大な影響を及ぼすという問題があった。
特開２００２−２５９１８号公報
本発明は斯かる実情に鑑み、ガス配管内のガスの流れが電磁バルブを実際に開閉する前に表示されることで、誤った操作による電磁バルブの開閉し忘れ、或は誤ったガスの混合による危険を防止し、安全性の向上を図るものである。
本発明は、ガス配管路に設けられたバルブの開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部とを具備する基板処理装置に係るものである。
又本発明は、前記ガス配管路内のガスを検知するガス検知部を更に具備し、前記表示部は前記ガス検知部が検知した前記配管路のガスの流れを表示する基板処理装置に係り、又前記ガス配管路を流れるガスの流量を検出する流量検出部を更に具備し、前記表示部は前記流量検出部が検出したガスの流量に応じた表示をする基板処理装置に係るものである。
本発明によれば、ガス配管路に設けられたバルブの開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部とを具備するので、電磁バルブを開ける前に配管内のガスの状態を把握でき、ガスを流す際の安全性の向上、基板を処理する上での信頼性の向上を図ることができる。
又本発明によれば、前記ガス配管路内のガスを検知するガス検知部を更に具備し、前記表示部は前記ガス検知部が検知した前記配管路のガスに応じて表示するので、前記ガス配管路内の予測状態時に、ガスの混合による危険を回避でき、基板処理の安全性、信頼性をより向上させることができる。又、同時に、レシピ作成時の設定ミスを抑えることができる。
更に又本発明によれば、前記ガス配管路を流れるガスの流量を検出する流量検出部を更に具備し、前記表示部は前記流量検出部が検出したガスの流量に応じた表示をするので、細かな流量調整を必要とする処理であっても容易に実施可能となるという優れた効果を発揮する。
本発明に於ける基板処理装置の概略縦断面図である。 本発明の構成を示すブロック図である。 図２の要部拡大図である。 本発明の実施例を示すフローチャートである。 本発明の第１の実施例の表示例を示す説明図である。 本発明の第２の実施例の表示例を示す説明図である。 本発明の第３の実施例の表示例を示す説明図である。 従来の表示例を示す説明図である。 本発明の第４の実施例の表示例を示す説明図である。 本発明の第４の実施例に於いて表示される警告画面の一例である。 本発明の第５の実施例の表示例を示す説明図である。 本発明の第６の実施例を示す説明図である。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を説明する。
先ず、図１に於いて、本発明が実施される基板処理装置について概略を説明する。
図１中、６は基板処理装置、７は筐体を示している。前記基板処理装置６へのウェーハ８の搬入搬出は、ウェーハ８が基板搬送容器に収納された状態で行われる。基板搬送容器として、例えばポッド９が用いられ、該ポッド９にはウェーハ８が所定枚数、例えば２５枚が収納される。前記ポッド９は、開閉可能な蓋を具備する密閉容器であり、該ポッド９へのウェーハ８の装填、払出しは、前記蓋を開いて実行される。
前記基板処理装置６の前面には基板授受装置１１が設けられ、前記ポッド９は外部搬送装置（図示せず）により前記基板授受装置１１に対して搬入搬出が行われる。
前記筐体７の前記基板授受装置１１に対峙する部分にはポッド搬入出口１２が設けられ、該ポッド搬入出口１２を開閉するフロントシャッタ１３が設けられており、前記ポッド９は前記フロントシャッタ１３を通して前記筐体７内部に搬入搬出される様になっている。
前記筐体７内の前部には、ポッド搬送装置１４が設けられ、該ポッド搬送装置１４は前記ポッド９を保持可能なポッド移載アーム１５を具備している。又、該ポッド移載アーム１５は昇降、横行（紙面に対して垂直な方向）、進退（紙面の左右方向）可能であり、昇降、横行、進退の協働により前記ポッド９を任意な位置に搬送可能となっている。
前記ポッド搬送装置１４に対向し、前記筐体７内の上部にはポッド格納部１６が設けられている。該ポッド格納部１６には間欠回転可能な複数のポッド収納棚１７を有し、各ポッド収納棚１７毎に複数の前記ポッド９を格納可能となっている。
前記筐体７内の後方下部には、サブ筐体１８が設けられ、該サブ筐体１８は移載室１９を画成する。
前記サブ筐体１８の前壁２１には上下２段にポッドオープナ２２，２２が設けられる。該ポッドオープナ２２，２２はそれぞれ載置台２３、蓋着脱機構２４を具備し、前記載置台２３上に前記ポッド９が載置され、前記前壁２１に密着され、前記蓋着脱機構２４によって蓋が開閉される様になっている。前記ポッド９の蓋が開放された状態では、該ポッド９の内部と前記移載室１９が連通状態となる。
前記筐体７内の後部、前記サブ筐体１８の上側には処理炉２５が立設される。該処理炉２５は処理室を気密に画成する反応管、該反応管の周囲に設けられたヒータを具備し、又、前記反応管にはガス供給ライン、排気ラインが連通されており、処理室を加熱すると共に所定の処理圧に維持して、処理ガスの給排を行う様になっている。
前記処理室は、下端に前記移載室１９に連通する炉口部を有し、該炉口部は炉口シャッタ２６によって開閉される。
前記移載室１９には、前記処理炉２５の下方にボートエレベータ２７が設けられ、該ボートエレベータ２７は前記炉口部を気密に閉塞可能なシールキャップ２８を有し、該シールキャップ２８にボート２９が載置可能であり、前記ボートエレベータ２７は前記シールキャップ２８を昇降させることで、前記ボート２９を前記処理室に装脱可能となっている。又、前記ボート２９を前記処理室に装入した状態では、前記シールキャップ２８が前記炉口部を気密に閉塞する。
前記移載室１９には前記ポッドオープナ２２と前記ボートエレベータ２７との間に基板移載機３１が設けられ、該基板移載機３１にはウェーハ８を保持する複数の基板保持プレート（ツイーザ）３２を具備している。該ツイーザ３２は、例えば上下に等間隔で５枚配置され、上下の間隔（ピッチ）は前記ポッド９のウェーハ収納ピッチ、ボート２９のウェーハ保持ピッチと同一となっている。
前記基板移載機３１は、前記ツイーザ３２を水平方向に進退可能であり、又昇降可能、垂直軸心中心に回転可能とする構成を具備し、進退、回転、昇降の協働によって前記ツイーザ３２にウェーハ８を保持し、所定の位置に移載可能となっている。
前記基板処理装置６は後述する流量制御部４３、表示部付操作部４４を有する制御装置３３を具備している。該制御装置３３は例えば前記基板処理装置６の前面に配置される。前記制御装置３３は前記ポッド搬送装置１４、前記ポッド格納部１６、前記蓋着脱機構２４、前記ボートエレベータ２７、前記基板移載機３１等の駆動機構を制御し、又前記処理炉２５の加熱状態を制御する。
次に、図２〜図５に於いて、本発明に於ける第１の実施例について説明する。尚、図２、図３、図５中、図１、図８中で示したものと同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。
基板処理装置６が具備する１つの処理室３４に対してＮ2 ガス及びプロセスガス（薄膜の生成、或はエッチング等の基板処理に使用されるガス）を供給するガス配管路としての複数系統のガス配管１Ａ〜ガス配管１Ｃ、及び排気系３５が接続され、前記各ガス配管１にはそれぞれ供給ガス遮断用のハンドバルブ３６、圧力調整用のレギュレータ４、圧力計（ＰＴ）３７、ガス供給用電磁バルブ２、置換用電磁バルブ３８、流量制御器５、インターロック用電磁バルブ３、逆止弁３９、逆止弁４１が設けられ、前記排気系３５には真空ポンプ４２が設けられている。又、プロセスガスを供給する前記ガス配管１Ｂ、前記ガス配管１Ｃは、前記流量制御器５の先で２股に分れ、それぞれにインターロック用電磁バルブ３が設けられ、それぞれ一方は前記処理室３４に接続され、もう一方は前記排気系３５に接続されている。ここで、ガス配管路は、複数の配管要素から構成される、ガス供給源（ガスボンベ）から処理室３４迄流れるガスが通る配管要素の組合せである。
前記流量制御部４３はＣＰＵ、記憶部を具備し、該記憶部には、制御プログラム、判断プログラム等のプログラムや、各種パラメータ等が格納されている。又、前記流量制御部４３は表示部付操作部４４と接続されると共に、前記ガス供給用電磁バルブ２、前記インターロック用電磁バルブ３、前記真空ポンプ４２等の全ての機器が入出力ポートを介して接続されている。ここで、判断プログラムは、本願発明に於けるシミュレーションを実行する為のプログラムである。
前記流量制御部４３から前記表示部付操作部４４に対して、ウェーハ処理の状態、前記圧力計３７、流量検出部としての前記流量制御器５が検出した流量検出状態に関する情報が送られる。又、前記流量制御部４３から前記表示部付操作部４４に対して、前記ガス供給用電磁バルブ２、前記インターロック用電磁バルブ３、前記置換用電磁バルブ３８等の作動状態に関する情報が信号として送られ、前記表示部付操作部４４はバルブの状態検出部として作用する。前記ガス供給用電磁バルブ２、前記インターロック用電磁バルブ３の開閉や前記流量制御器５による流量制御は、前記流量制御部４３で行われる。又、前記表示部付操作部４４は音声出力部、状態変化部としても作用する。
尚、上記では、各バルブの状態を、前記表示部付操作部４４に対してそれぞれのバルブから送られてきた信号によって検出しているが、各バルブにバルブの開閉を検出するセンサを直接取付け、該センサをバルブの状態検出部としてもよい。
流量制御部４３は前記ガス配管１と前記排気系３５の給排動作を制御し、前記表示部付操作部４４は前記処理室３４でのウェーハ処理状態や前記ガス配管１と前記排気系３５でのガス給排状態を表示する様に構成されている。
又、前記表示部付操作部４４はガス給排状態を示す為のガスモニタ表示部を有し、該ガスモニタ表示部は各ガス配管１の電磁バルブ等の開閉状態を示し、どのガス配管１から前記処理室３４に供給されているのかが分る様になっている。
次に、各ガス配管１内の状態を表示する場合について説明する。
図３は図２の要部拡大図、図４はガス配管内状態表示プログラムのフローチャートである。
図３に於いて、前記ガス配管１の内、ガス供給用電磁バルブ２Ａ、ガス供給用電磁バルブ２Ｂよりも上流側を配管要素４５、置換用電磁バルブ３８Ａと逆止弁３９Ａとの間の区間を配管要素４６、流量制御器５Ｂと前記ガス供給用電磁バルブ２Ｂと前記置換用電磁バルブ３８Ａとの間の区間を配管要素４７、前記流量制御器５Ｂとインターロック用電磁バルブ３Ｂとインターロック用電磁バルブ３Ｃとの間の区間を配管要素４８、前記インターロック用電磁バルブ３Ｃよりも下流側を配管要素４９、前記インターロック用電磁バルブ３Ｂよりも下流側を配管要素５１、前記ガス供給用電磁バルブ２Ａと流量制御器５Ａと前記逆止弁３９Ａとの間の区間を配管要素５２、インターロック用電磁バルブ３Ａと前記流量制御器５Ａとの間の区間を配管要素５３、前記インターロック用電磁バルブ３Ａよりも下流側を配管要素５４としている。
又、前記ガス供給用電磁バルブ２、前記インターロック用電磁バルブ３、前記流量制御器５、前記置換用電磁バルブ３８には予めバルブ開閉条件が設定される。特に、前記インターロック用電磁バルブ３は、該バルブ開閉条件に違反して操作されるとインターロックがかかるように構成されている。従って、前記インターロック用電磁バルブ３のバルブ開閉条件に基づいて、前後の配管要素のガス種を判断プログラムが検知するので、該判断プログラムがガス検知部として作用する。尚、各配管要素４５〜４９，５１〜５４にそれぞれガスを検知するセンサを取付け、該センサをガス検知部としてもよい。
前記制御装置３３によって各配管要素を流れるガスの状態がシミュレーションされる。ガスの状態を予測するシミュレーションは、バルブが押下された際の信号、又はバルブ開の指令信号を前記表示部付操作部４４が受信することで開始される。先ず、前記表示部付操作部４４は、バルブが開要求状態であるかどうかを判断する（ＳＴＥＰ：０１）。この判断では、前記バルブが押下された際の信号を受信したとき、バルブ開の指令信号が含まれているかどうかがチェックされる。
次に、バルブが開要求状態であれば判断プログラムを実行し、該バルブの前段の配管要素の状態を確認し（ＳＴＥＰ：０２）、前段の配管要素の中にガスが充填されているかどうかを判断すると共に、後段のバルブの開閉状態や後段の配管要素の状態を確認する（ＳＴＥＰ：０３）。
バルブの前段の配管要素にガスが充填されていない場合は、バルブを開状態にしてもバルブ後段の配管要素にガスが流込むことがない為、配管要素の中をガスが充填されていないことを示す色（未ＦＬＯＷ色）のまま変更しない（ＳＴＥＰ：０４）。
バルブ前段の配管要素に充填されていた場合は、バルブを開状態にするとバルブ後段の配管要素にガスが流込む為、バルブ後段の配管要素を、予め設定していた配管要素にガスが流込むという予測を示す色（シミュレーションＦＬＯＷ色）に変更する（ＳＴＥＰ：０５）。
次に、他のバルブに対しての操作の有無が判断される（ＳＴＥＰ：０６）。バルブ操作の有無は他のバルブ操作が行われる迄待機状態となり、操作が行われたら判断プログラムが実行される。又、シミュレーションを止める場合、例えば、キャンセルボタンを操作画面に設け、このキャンセルボタンの押下の有無で判断される。ＳＴＥＰ：０４に於いて他のバルブの操作が行われないと判断された場合にはそこで処理を終了し、ＳＴＥＰ：０５に於いて他のバルブの操作が行われないと判断した場合には、次に実際にバルブを開くかどうか、即ちＳＥＴボタンの押下の有無を判断する（ＳＴＥＰ：０７）。ＳＴＥＰ：０６で他のバルブ操作をせず、ＳＴＥＰ：０７でＳＥＴボタンも押さない場合には、実際にバルブを開くことなくシミュレーションのみが実行され、処理が終了する。又、ＳＴＥＰ：０６に於いて、他のバルブの操作を行うと判断した場合には、該当するバルブについてＳＴＥＰ：０１〜ＳＴＥＰ：０３迄の処理が再度行われる。
シミュレーション通りに処理を実行する場合は、ＳＴＥＰ：０７でＳＥＴボタンを押下する。ＳＥＴボタンが押下されると前記流量制御部４３はバルブを開要求状態から開状態に移行させ（ＳＴＥＰ：０８）、バルブ後段の配管要素を、予め設定していたガスが流込んだ状態を示す色（実ＦＬＯＷ色）に変更する様に前記流量制御部４３から前記表示部付操作部４４に出力される（ＳＴＥＰ：０９）。
尚、上記シミュレーションはＳＴＥＰ：０６を省略し、バルブ毎に実行してもよい。
図５（Ａ）、図５（Ｂ）は、ガス配管内状態表示プログラムの出力結果の一例である。
図５（Ｂ）に於いては、前記ガス供給用電磁バルブ２Ａと前記ガス供給用電磁バルブ２Ｂ迄ガスが充填されている状態であり、前記ガス供給用電磁バルブ２Ａ、前記ガス供給用電磁バルブ２Ｂ、前記インターロック用電磁バルブ３Ａ、前記インターロック用電磁バルブ３Ｂ、前記インターロック用電磁バルブ３Ｃ及び前記置換用電磁バルブ３８Ａが閉状態となっている。
上記の状況に於いては、前記配管要素４５が実ＦＬＯＷ色（例えば赤色）であり、前記配管要素４７、前記配管要素４８がシミュレーションＦＬＯＷ色（例えば黄色）であり、前記配管要素４６、前記配管要素４９、前記配管要素５１、前記配管要素５２、前記配管要素５３、前記配管要素５４が未ＦＬＯＷ色（例えば灰色）というシミュレーション結果が前記表示部付操作部４４に出力される。
同様に図５（Ａ）では、前記配管要素５２、前記配管要素５３がシミュレーションＦＬＯＷ色であり、前記配管要素４５が実ＦＬＯＷ色であり、前記配管要素４６、前記配管要素４７、前記配管要素４８、前記配管要素４９、前記配管要素５１、前記配管要素５４が未ＦＬＯＷ色というシミュレーション結果が前記表示部付操作部４４に出力される。
更に、上記実施例に於ける各配管要素の色分け表示に加え、前記流量制御器５が検出した流量情報により、前記ガス配管１を流れるガスの流量状態を表示することも可能である。
例えば、実ＦＬＯＷ時に前記ガス配管１内を流れるガスの流量に応じて、ガスが規定の流量で流れている場合は、流量が規定値であることを示す色（例えば緑色）、ガスが規定の流量よりも多量に流れている場合は、流量が多量であることを示す色（例えば赤色）、ガスが規定の流量よりも少量しか流れていない場合は、流量が少量であることを示す色（例えば青色）で前記流量制御器５を表示する様に、前記流量制御部４３から前記表示部付操作部４４に出力することで、ガス流量がどの様な状態であるのかが容易に判別することができる。
尚、上記ではガス流量の多少を色分けすることで識別しているが、前記流量制御器５を点滅表示する様に、前記流量制御部４３から前記表示部付操作部４４に出力し、前記流量制御器５の点滅速度によってガス流量の多少を識別表示してもよい。
次に、図６に於いて本発明の第２の実施例について説明する。尚、図６中、図２と同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。
第２の実施例の構成は第１の実施例の構成を簡略化したものである。
先ず、供給ガスを区分ａと、前記レギュレータ４を介して区分ｂ、区分ｃに充填し、区分ａ、区分ｂ、区分ｃの表示を例えば赤色に色分けする。
供給ガスを前記処理室３４に流す際には、ガス配管１内に設けられたガス供給用電磁バルブ２の開閉要求命令が、前記流量制御部４３から前記ガス供給用電磁バルブ２に出される。
前記流量制御部４３内に具備されている判断プログラムは、開閉しようとしている電磁バルブの前段にガスが充填されているかを判断し、充填されていれば、区分ｄの表示は区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった形状と色、例えば黄色のドットで表示する様前記表示部付操作部４４に出力され、充填されていないと判断されると、区分ｄの表示は、例えば灰色のまま配管色は変化しない。
同時に、前記流量制御器５の前後配管に於いても同様に判断プログラムが実施され、所定の流量になる様に前記制御部４３から流量命令が前記流量制御器５に出された際には、該流量制御器５の前後の配管には区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった形状と色と形状の動作によって区別する様に前記表示部付操作部４４に出力される。同判断を前記処理室３４（区分ｆ）迄実施し、前記ガス配管１内のガスの流れる予測状態が、例えば黄色のドットの点等により色分け及び形状の変化によってガスが流れているという視覚的状態で表示される。更に、前記流量制御器５の設定に応じて、前記ドットの動きを速くしたり、遅くしたりすると、ガス流量が効果的にわかる。
上記判断は未だガスが流れていない状態である。前記流量制御部４３からガスを流す命令が、電磁バルブ又は前記流量制御器５に出た際には、判断プログラムによって色分けされた部分が黄色から赤色へとガスが充填されている配管色に変化する。この変化によって、実際にガスが充填、流れている状態が表現される。
次に図７に於いて本発明の第３の実施例について説明する。尚、図７中、図２と同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。
第３の実施例の構成は、第２の実施例と同様である。
先ず、供給ガスを区分ａと、前記レギュレータ４を介して区分ｂ、区分ｃに充填させることで、区分ａ、区分ｂ、区分ｃの表示が、例えば赤色に色分けされる。
基板処理に於いては、２種類のガスを混合させて基板処理を実施する場合があり、区分ｆが他のガス（ガス配管１で処理室３４に供給されるガスとは異なるガス）、例えばＮ2 により充填されていた場合、第１の実施例とは異なった表示、例えば青色に色分けされる。
尚、本実施例では、不活性ガスであって、実プロセスで供給するガスと混合しても構わないガスである為、区分ｆの表示がされる過程は省略する。又、不活性ガスの為、本実施例の様にシミュレーションさせる必要性はないが、本願発明に於けるシミュレーションを適用するのが好ましい。
供給ガスを前記処理室３４に流す際には、ガス配管１内に設けられたガス供給用電磁バルブ２の開閉要求命令が、前記流量制御部４３から前記ガス供給用電磁バルブ２に出される。
前記流量制御部４３内に具備されている判断プログラムは、開閉しようとしている電磁バルブの前段にガスが充填されているかを判断する。充填されていた場合、区分ｄの表示は区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった色、例えば黄色で表示する様に前記流量制御部４３からシミュレーション結果として前記表示部付操作部４４に出力される。充填されていなかった場合、区分ｄの表示は、例えば灰色のまま配管色は変化しない。
前記流量制御器５の前後配管に於いても、同様に判断プログラムが実施される。前記ガス配管１内が所定の流量になる様に前記流量制御部４３から流量命令が流量制御器５に出された際に、該流量制御器５の前後の配管には区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった色と形状の動作によって区別する様に前記流量制御部４３からシミュレーション結果として前記表示部付操作部４４に出力される。
インターロック用電磁バルブ３に開閉要求命令が出されると、判断プログラムは、区分ｅにガスが充填されているかを判断する。区分ｅにガスが充填されていた場合、区分ｆは区分ａ、区分ｂ、区分ｃ、区分ｄ、区分ｅとは異なった予測状態の混合されたガスを示す色、例えば緑色で表示される。前記流量制御部４３からガスを流す命令が前記インターロック用電磁バルブ３に出た際には、判断プログラムによって色分けされた部分が緑色からガスが混合している状態を示す色、例えば紫色に変化する。この変化によって、単独のガスか混合されたガスであるかが表現される。
尚、判断プログラムは、インターロック用電磁バルブ３に開閉要求命令が出されると、前記インターロック用電磁バルブ３のバルブ開閉条件（信号）から区分ｆに充填されているガス種を読取ることができるので、前記インターロック用電磁バルブ３を開けて、ガスを混合してもよいか判断することができる。
次に、図９に於いて本発明の第４の実施例について説明する。尚、図９中、図２と同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。
第４の実施例の構成は第２の実施例と同様であり、ガス配管１ａ、ガス配管１ｂという２本の配管にそれぞれ別のガスＡ，Ｂを流す場合を示している。
先ず、供給ガスＡを区分ａと、レギュレータ４ａを介して区分ｂ、区分ｃに充填させることで、区分ａ、区分ｂ、区分ｃの表示が、例えば赤色に色分けされると共に、供給ガスＢを区分ｇと、レギュレータ４ｂを介して区分ｈ、区分ｉに充填させることで、区分ｇ、区分ｈ、区分ｉの表示が、例えば青色に色分けされる。
供給ガスＡを処理室３４に流す際には、前記ガス配管１ａ内に設けられたガス供給用電磁バルブ２ａの開閉要求命令が、前記流量制御部４３から前記ガス供給用電磁バルブ２ａに出力される。
前記流量制御部４３内に具備されている判断プログラムは、開閉しようとしている電磁バルブの前段にガスが充填されているかを判断し、充填されていれば、区分ｄの表示は区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった色、例えば黄色で表示する様前記表示部付操作部４４に出力され、充填されていなかった場合、区分ｄの表示は例えば灰色のまま配管色は変化しない。
同時に、前記流量制御器５ａの前後配管に於いても同様に判断プログラムが実施される。前記ガス配管１ａ内が所定の流量になる様に前記流量制御部４３から流量命令が前記流量制御器５ａに出された際に、該流量制御器５ａの前後の配管には区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった色によって区別される様に、前記流量制御部４３からシミュレーション結果として前記表示部付操作部４４に出力される。同判断を前記処理室３４（区分ｆ）迄実施し、前記ガス配管１ａ内のガスの流れる予測状態が、例えば灰色から黄色という配管色の変化によって視覚的に表示される。
次に、上記状態に於いて、前記ガス配管１ｂ内に設けられたガス供給用電磁バルブ２ｂ、前記流量制御器５ｂ及びインターロック用電磁バルブ３ｂに対しても、前記ガス配管１ａと同様に開閉要求命令を行う。
前記インターロック用電磁バルブ３ｂの開要求命令を行った際にはガスＡとガスＢが区分ｆで混合するので、前記インターロック用電磁バルブ３ｂの開要求命令を出した際には、該インターロック用電磁バルブ３ｂが開示できない旨を前記表示部付操作部４４に表示、例えば図１０に示される様な、「本バルブはインターロックがかかっている為開けることは出来ません。同時開禁止バルブが開いていないか確認願います。」というような警告画面４４ａが表示される。
従って、複数の電磁バルブの開閉要求に対して、同時開閉状態が危険な状態（混色発火、爆発等）である場合は、予測状態時に危険な状態であることを表示することが可能となる。
次に、図１１に於いて本発明の第５の実施例について説明する。尚、第５の実施例の構成も、第２の実施例の構成と同様であり、図１１中、図２と同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。
先ず、供給ガスを区分ａと、レギュレータ４を介して区分ｂ、区分ｃに充填し、区分ａ、区分ｂ、区分ｃの配管形状を例えば幅４ｍｍにて表示する。
供給ガスを処理室３４に流す際には、ガス配管１内に設けられたガス供給用電磁バルブ２の開閉要求命令が、流量制御部４３から前記ガス供給用電磁バルブ２に出力される。
前記流量制御部４３内に具備されている判断プログラムは、開閉しようとしている電磁バルブの前段にガスが充填されているかを判断し、充填されていれば、区分ｄの表示形状は区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった配管形状、例えば幅２ｍｍで表示する様表示部付操作部４４に出力され、充填されていなかった場合、区分ｄの表示は例えば幅１ｍｍの配管形状のまま変化しない。
同時に、流量制御器５の前後配管に於いても同様に判断プログラムが実施される。前記ガス配管１内が所定の流量になる様に前記流量制御部４３から流量命令が前記流量制御器５に出された際に、該流量制御器５の前後の配管には区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった配管形状によって区別される様に、前記流量制御部４３からシミュレーション結果として前記表示部付操作部４４に出力される。同判断を前記処理室３４（区分ｆ）迄実施し、前記ガス配管１内のガスの流れる予測状態が、例えば幅１ｍｍ〜４ｍｍ迄変化する配管形状によって視覚的に表示される。
尚、本実施例と他の実施例を併合し、配管内のガスの状態を配管形状の変化に加えて、色分けやドット表示等を使用して表示してもよい。
次に、図１２に於いて、第６の実施例について説明する。尚、第６の実施例の構成は第２の実施例と同様であり、図１２中、図２と同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。
先ず、供給ガスを区分ａと、レギュレータ４を介して区分ｂ、区分ｃに充填し、区分ａ、区分ｂ、区分ｃはガスが充填していることを示す電子音等の音声、例えばピーピーピーという第１音声を出すことでガスが充填していることが表現される。
供給ガスを処理室３４に流す際には、ガス配管１内に設けられたガス供給用電磁バルブ２の開閉要求命令が、流量制御部４３から前記ガス供給用電磁バルブ２に出力される。
前記流量制御部４３内に具備されている判断プログラムは、開閉しようとしている電磁バルブの前段にガスが充填されているかを判断し、充填されていれば、区分ｄの音声出力は区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった音声、例えばピッピッピッという開閉要求命令が実行された時にガスが充填されることを示す第２音声が出力され、充填されていなかった場合には、区分ｄの音声出力は、例えばガスが充填されていないことを示す音声無しのまま音声出力は変化しない。
同時に、流量制御器５の前後配管に於いても同様に判断プログラムが実施される。所定の流量となる様に前記流量制御部４３からの流量命令が前記流量制御器５に出された際に、該流量制御器５の前後の配管には区分ａ、区分ｂ、区分ｃとは異なった音声出力によって区別する様に、前記流量制御部４３からシミュレーション結果として前記表示部付操作部４４に出力される。同判断を前記処理室３４（区分ｆ）迄実施し、前記ガス配管１内のガスの流れる予測状態が、第１音声、第２音声或は音声無しという音声出力の変化により、聴覚的に表現される。
尚、本実施例と他の実施例を併合し、前記ガス配管１内の状態を、音声出力による聴覚的表現に加えて色分け、ドット、表示形状の変化等の視覚的表示方法を用いることで、更に容易に認識できることは言う迄もない。
上述した様に、本発明に於いて、レシピ作成中及びメンテナンス中にガスを流す際に、ガスの微細化によるガスパターンの煩雑化に起因する、目視及び手動でガス流れを確認する困難さを解消できる。
又、レシピを作成する際に、複数のステップのうち１個だけバルブの設定ミスがあると該バルブの探索に時間が掛っていたが、本発明では設定ミスのバルブの探索に時間を必要とせず、各ステップに於いて所望のガスが設定通りに流れるかが目視或は聴覚で確認可能となる。
更に、流れるはずのガスが流れない等の設定ミスによる無駄なレシピを実行することがない等、設定ミスに気付かずにプロセス評価を実施してしまうことによるセットアップ作業の遅延を抑止できる。
尚、本発明では電磁バルブについて記載してきたが、電磁バルブの代りにエアバルブを用いてもよい。エアバルブを用いることで、電磁バルブを直接ガス配管に設けたことによる、電磁バルブの開閉動作の際に処理ガスが発火する可能性を防止できる。又、電磁バルブとエアバルブをＩＰ配管で接続する様に構成してもよい。テフロン（登録商標）系のエアチューブであるＩＰ配管を用いて接続することで、エアバルブが電気的に制御可能となる為、処理の精度を高めることができる。つまり、電磁バルブを電気的に操作（開閉）し、電磁バルブからエアチューブでエアバルブを操作（開閉）して実ガスを制御する為、処理ガスの流れを精度よく制御できる。
尚、本発明に於ける基板処理装置６は、半導体製造装置だけではなく、ＬＣＤ装置の様なガラス基板を処理する装置でも適用可能であり、又縦型装置だけではなく枚葉式装置や横型装置にも適用できる。更に、露光装置、リソグラフィ装置、塗布装置等他の基板処理装置に関しても同様に適用可能である。又、炉内の処理には何等関係なく、酸化、拡散、アニール等のＣＶＤ以外の処理に関しても適用可能であることは言う迄もない。
（付記）
又、本発明は以下の実施の態様を含む。
（付記１）ガス配管路に設けられたバルブの開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部とを具備することを特徴とする基板処理装置。
（付記２）前記ガス配管路を流れるガスの流量を検出する流量検出部を更に具備し、前記表示部は前記流量検出部が検出したガスの流量に応じた表示をする付記１の基板処理装置。
（付記３）前記表示部は、前記バルブの開閉要求状態により検出されたガスの流れる配管の予測状態を色分け表示すると共に、前記バルブを開いてガスを前記ガス配管路に流した状態で更に色分け表示する付記１の基板処理装置。
（付記４）前記表示部は、前記ガス配管路の配管状態を不活性ガスと危険性ガスとで色分け表示する付記１の基板処理装置。
（付記５）前記表示部は、前記ガス配管路の配管状態を単独のガスか混合されたガスかで色分け表示する付記１の基板処理装置。
（付記６）前記表示部は、前記バルブの開閉要求状態と、前記流量検出部により検出された前記ガス配管路内のガス流量を、ドットの動きの速さにより表示する付記２の基板処理装置。
（付記７）前記表示部は、複数の前記バルブの開閉要求状態に対して、該バルブの同時開放が危険である場合に警告画面を表示する付記１の基板処理装置。
（付記８）前記表示部は、前記バルブの開閉要求状態により検出されたガスの流れる配管の予測状態を形状の変化で表示すると共に、前記バルブを開いてガスを前記ガス配管路に流した状態で更に形状を変化させて表示する付記１の基板処理装置。
（付記９）前記表示部は、前記バルブの開閉要求状態により検出されたガスの流れる配管の予測状態を音声出力で表現すると共に、前記バルブを開いてガスを前記ガス配管路に流した状態で更に異なった音声出力で表現する付記１の基板処理装置。
１ ガス配管
２ ガス供給用電磁バルブ
３ インターロック用電磁バルブ
４ レギュレータ
５ 流量制御器
６ 基板処理装置
３３ 制御装置
３４ 処理室
３５ 排気系
３６ ハンドバルブ
３８ 置換用電磁バルブ
４３ 流量制御部
４４ 表示部付操作部
４５〜４９ 配管要素
５１〜５４ 配管要素

Claims (3)

  1. ガス配管路に設けられたバルブの開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部とを具備することを特徴とする基板処理装置。
  2. 前記ガス配管路内のガスを検知するガス検知部を更に具備し、前記表示部は前記ガス検知部が検知した前記配管路のガスの流れを表示する請求項１の基板処理装置。
  3. 前記ガス配管路を流れるガスの流量を検出する流量検出部を更に具備し、前記表示部は前記流量検出部が検出したガスの流量に応じた表示をする請求項１の基板処理装置。
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