JP2010086925A5 - - Google Patents
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- 荷電粒子線装置にて得られる画像上のパターンと、登録されたテンプレートとの間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、複数層からなるパターンが表現された画像情報と、当該複数層の内、パターンの上層が選択的に表現されたテンプレートとの間で、第１のパターンマッチングを行い、当該複数層からなるパターンの位置を特定することを特徴とするパターンマッチング方法。
- 請求項１において、
前記位置特定に基づいて得られた画像情報から、前記上層に関する情報を差し引くことを特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項１において、
前記位置特定に基づいて得られた画像情報と、前記複数層の内、パターンの下層が選択的に表現されたテンプレートとの間で、第２のパターンマッチングを行い、当該下層のパターン位置を特定することを特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項３において、
前記第２のパターンマッチングに供されるテンプレートは、前記試料に対する電子ビームの予備走査によって、前記試料上が正に帯電したときに取得された画像に基づいて形成されることを特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項１において、
前記複数層からなるパターンが表現された画像情報は、前記試料に対する電子ビームの予備走査によって、前記試料上が正に帯電したときに取得された画像に基づいて形成されることを特徴とするパターンマッチング方法。 - 荷電粒子線装置にて得られる画像上のパターンと、登録されたテンプレートとの間でパターンマッチングを行う画像処理装置において、
複数層からなるパターンが表現された画像情報と、当該複数層の内、パターンの上層が選択的に表現されたテンプレートとの間で、第１のパターンマッチングを行い、当該複数層からなるパターンの位置を特定することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項６において、
前記位置特定に基づいて得られた画像情報から、前記上層に関する情報を差し引くことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項６において、
前記位置特定に基づいて得られた画像情報と、前記複数層の内、パターンの下層が選択的に表現されたテンプレートとの間で、第２のパターンマッチングを行い、当該下層のパターン位置を特定することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項８において、
前記第２のパターンマッチングに供されるテンプレートは、前記試料に対する電子ビームの予備走査によって、前記試料上が正に帯電したときに取得された画像に基づいて形成されることを特徴とする画像処理装置。 - 請求項６において、
前記複数層からなるパターンが表現された画像情報は、前記試料に対する電子ビームの予備走査によって、前記試料上が正に帯電したときに取得された画像に基づいて形成されることを特徴とする画像処理装置。
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