JP6002480B2 - オーバーレイ誤差測定装置、及びパターン測定をコンピューターに実行させるコンピュータープログラム - Google Patents
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Description
ずれ量=(x511+x512+x513)/3−(x514+x515)/2
…式(1)
ずれ量=x821−x820 …式(2)
ずれ量=x1210−(x1211+x1212)/2 …式(3)
102 引出電極
103 一次電子線
104 第一コンデンサレンズ
105 絞り
106 第二コンデンサレンズ
107 二次電子検出器
108 アライメントコイル
109 偏向コイル
110 対物レンズ
111、201 ウェーハ
112 ステージ
113 試料室
114 二次電子
115 高電圧制御装置
116 第一コンデンサレンズ制御部
117 第二コンデンサレンズ制御部
118 二次電子信号増幅器
119 アライメント制御部
120、122 偏向信号制御部
121 対物レンズ制御部
123 画像処理プロセッサ
124 二次電子像表示装置
125 全体制御部
126 電子光学系制御装置
127 ステージ制御装置
128 ユーザーインターフェース
202、203 下層パターン
204 上層パターン
205 反射防止膜
301、1001 電子顕微鏡像
302 基盤であるウェーハ表面からの二次電子信号部分
303 輝度が低く黒く見える部分
304 輝度が高く白く見える部分
401 二次電子プロファイル
402 上層パターンプロファイル
403 下層パターンプロファイル
501、1201 対称性プロファイル
x511、x512、x513、x514、x515 重心位置
x531、x532、x533、x1211、x1212 下層の各パターンの重心位置
x534、x535 上層の各パターンの重心位置
520 任意領域
521、522、621、810、811、1204 任意のしきい値
530 別の対称性プロファイル
601 ずれが大きい場合の電子顕微鏡像
602、701、702、1101 二次電子プロファイル
603 ずれが大きい場合の対称性プロファイル
703 合成プロファイル
710、720、730 左エッジ
711、721、731 右エッジ
802 反転プロファイル
x820、x1210 上層パターンの重心位置
x821 下層パターンの重心位置
903 内側のパターン
904 外側のパターン
1003 非対称なパターンの傾斜に相当する電子顕微鏡像上の領域
1102、1105 外側のエッジ輝度
1103、1106 内側のエッジ輝度
1104 内側パターンの右エッジの二次電子プロファイル上の輝度
2010 オーバーレイパターン計測のパラメータを設定するための画面
2011 オフセット入力ボックス
2012 パターン情報チェックボックス
2014 下層のパターン数入力ボックス
2015 上層のパターン数入力ボックス
2016 下層のパターン幅入力ボックス
2017 上層のパターン幅入力ボックス
2020 スキャンモード
2021 対称選択チェックボックス
2022 非対称選択チェックボックス
Claims (12)
- 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定を行う演算処理装置を備えたオーバーレイ誤差測定装置において、
前記演算処理装置は、前記信号波形の部分的な抽出に基づいて得られる部分波形を用いて、前記信号波形との相関を求め、当該相関を示す相関プロファイルを形成し、当該相関プロファイルを用いて異なるレイヤに属するパターン間の寸法を測定することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 請求項1において、
前記演算処理装置は、前記部分的に抽出された信号波形を反転して前記部分波形を生成することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 請求項1において、
前記演算処理装置は、前記異なるレイヤに属するパターンの重心位置間の寸法を測定することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 請求項3において、
前記演算処理装置は、上層のレイヤと下層のレイヤとの間の重心位置を測定すると共に、少なくとも当該下層のレイヤの重心位置を、前記相関プロファイルを用いて特定することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定をコンピューターに実行させるコンピュータープログラムにおいて、
当該プログラムは前記コンピューターに、前記信号波形の部分的な抽出に基づいて得られる部分波形と、前記信号波形との相関を求めさせ、当該相関を示す相関プロファイルを形成させ、当該相関プロファイルを用いて異なるレイヤに属するパターン間の寸法を測定させることを特徴とするコンピュータープログラム。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定を行う演算処理装置を備えたオーバーレイ誤差測定装置において、
前記演算処理装置は、前記信号波形について、所定値以上の輝度を持つ部分と、当該所定値未満の輝度を持つ部分とを識別し、当該所定値以上の輝度を持つ部分から第1の測定基準を抽出すると共に、当該所定値未満の輝度を持つ部分について、前記信号波形の部分的な抽出に基づいて得られる部分波形を用いて、前記信号波形との相関を求め、当該相関演算に基づいて、第2の測定基準を抽出し、当該第1の測定基準と第2の測定基準との間の寸法を測定することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定を行う演算処理装置を備えたオーバーレイ誤差測定装置において、
前記演算処理装置は、前記信号波形について、所定値以上の輝度を持つ部分と、当該所定値未満の輝度を持つ部分とを識別し、当該所定値以上の輝度を持つ部分から第1の測定基準を抽出すると共に、前記所定値未満の輝度を持つ部分から、パターンの重心位置を抽出し、当該重心位置に基づいて第2の測定基準を抽出し、当該第1の測定基準と第2の測定基準との間の寸法を測定することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定を行う演算処理装置を備えたオーバーレイ誤差測定装置において、
前記演算処理装置は、前記信号波形について、所定値以上の輝度を持つ部分と、当該所定値未満の輝度を持つ部分とを識別し、当該所定値以上の輝度を持つ部分から第1の測定基準を抽出すると共に、前記所定値未満の輝度を持つ部分の一部を抽出し、当該抽出された信号波形を反転して、部分波形を生成することによって第2の測定基準を抽出し、当該第1の測定基準と第2の測定基準との寸法を測定することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 請求項8において、
前記演算処理装置は、前記部分波形を用いて、前記信号波形をサーチすることによって、前記第2の測定基準、或いは前記第1の測定基準と第2の測定基準の双方を抽出することを特徴とするオーバーレイ誤差測定装置。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定をコンピューターに実行させるコンピュータープログラムにおいて、
当該プログラムは前記コンピューターに、前記信号波形について、所定値以上の輝度を持つ部分と、当該所定値未満の輝度を持つ部分とを識別させ、当該所定値以上の輝度を持つ部分から第1の測定基準を抽出させると共に、当該所定値未満の輝度を持つ部分について、前記信号波形の部分的な抽出に基づいて得られる部分波形を用いて、前記信号波形との相関を求めさせ、当該相関演算に基づいて、第2の測定基準を抽出させ、当該第1の測定基準と第2の測定基準との間の寸法を測定させることを特徴とするコンピュータープログラム。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定をコンピューターに実行させるコンピュータープログラムにおいて、
当該プログラムは前記コンピューターに、前記信号波形について、所定値以上の輝度を持つ部分と、当該所定値未満の輝度を持つ部分とを識別させ、当該所定値以上の輝度を持つ部分から第1の測定基準を抽出させると共に、当該所定値未満の輝度を持つ部分から、パターンの重心位置を抽出させ、当該重心位置に基づいて第2の測定基準を抽出させ、当該第1の測定基準と第2の測定基準との間の寸法を測定させることを特徴とするコンピュータープログラム。 - 荷電粒子線装置によって得られた信号波形に基づいて、試料上に形成されたパターンの測定をコンピューターに実行させるコンピュータープログラムにおいて、
当該プログラムは前記コンピューターに、前記信号波形について、所定値以上の輝度を持つ部分と、当該所定値未満の輝度を持つ部分とを識別させ、当該所定値以上の輝度を持つ部分から第1の測定基準を抽出させると共に、当該所定値未満の輝度を持つ部分の一部を抽出し、当該抽出された信号波形を反転して、部分波形を生成することによって、第2の測定基準を抽出させ、当該第1の測定基準と第2の測定基準との間の寸法を測定させることを特徴とするコンピュータープログラム。
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