JP5953117B2 - パターン評価装置、及びコンピュータープログラム - Google Patents
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- 238000011156 evaluation Methods 0.000 title claims description 165
- 238000004590 computer program Methods 0.000 title claims description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 123
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 98
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 60
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 57
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 238000000611 regression analysis Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 16
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
スコア値=W1*X1+W2*X2+W3*X3 …式1
となる。また、それ以外にも線形計画法を用いて求めることが考えられる。
11,21 画像データ記憶部
12,22 輪郭線データ生成部
13,23 表示部
14,24 目視評価値入力部
15,25 特徴量算出部
16,26 スコア算出部
17,27 欠陥判定部
140,141 目視評価値入力部
151 直線検出部
152 コーナー検出部
153 端点検出部
154,155,156 特徴量算出部
157,165,265 加算部
161,162,163 計算式生成部
171 公差内外判定部
172 識別部
261,262,263 スコア計算部
264 統合スコア算出部
Claims (12)
- 撮像画像を用いてパターンを評価するパターン評価装置において、
撮像装置にて取得されたパターン画像、或いは当該パターン画像から抽出された輪郭線を表示する表示装置と、
パターンの目視評価結果を入力、或いは選択する入力装置と、
前記パターン画像、或いは前記輪郭線のデータからパターンの複数の特徴量を算出する演算装置を備え、当該演算装置は、前記入力装置によって入力されたパターンの目視評価結果と、前記複数の特徴量に基づいて、パターンの評価値を計算する計算式を導出することを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項1において、
前記演算装置では、2つのパターン形状で対応する画素間の距離値を複数点で求め、その平均値、分散値若しくは標準偏差の値の内、少なくとも2つを前記特徴量として求めることを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項1において、
前記演算装置では、パターンの部位を検出して部位毎に分けて、複数の特徴量を検出し、パターンの部位毎に計算式を求めることを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項3において、
前記パターンの部位は、直線部、コーナー部、端点部の少なくとも2つの部位であることを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項3において、
前記演算装置は、前記計算式を用いて評価値を求める際、部位毎に計算式で求めた評価値を用いて画像全体の評価値を求めることを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項1において、
前記表示装置は、前記目視評価結果に対応する各値に相当する形状例を、表示することを特徴とするパターン評価装置。 - 撮像画像を用いてパターンを評価するパターン評価装置において、
設計データと評価するパターンの2つのパターン形状を表示する表示装置と、
パターン形状の目視評価結果を入力する入力装置と、
前記2つのパターン形状を用いて複数の特徴量を算出する演算装置を備え、当該演算装置は、前記入力されたパターンの形状の目視評価結果から抽出される欠陥の前記特徴量を除外した複数の特徴量と、前記入力装置から入力されたパターンの目視評価結果を用いてパターン形状の評価値を計算する計算式を求めることを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項7において、
前記演算装置では、特定の前記評価値に対応するパターンを判別することを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項7において、
前記演算装置は、前記求めた計算式を用いて評価値を求める際、部位毎に計算式で求めた評価値を用いて特定の値を出力することを特徴とするパターン評価装置。 - 撮像画像を用いてパターンを評価するパターン評価装置において、
撮像装置にて取得されたパターン画像、或いは当該パターン画像から抽出された輪郭線を表示する表示装置と、
パターンの目視評価結果を入力、或いは選択する入力装置と、
前記パターン画像、或いは前記輪郭線のデータからパターンの複数の特徴量を算出する演算装置を備え、当該演算装置は、前記入力装置によって入力されたパターンの目視評価結果を回帰分析のための目的変数とし、前記複数の特徴量を回帰分析のための説明変数とした計算式を導出することを特徴とするパターン評価装置。 - 請求項10において、
前記演算装置は、
前記説明変数の係数を求めることを特徴とするパターン評価装置。 - 撮像画像を用いて、コンピューターにパターンを評価させるコンピュータープログラムにおいて、
撮像装置にて取得されたパターン画像、或いは当該パターン画像から抽出された輪郭線を表示装置に表示させ、
前記コンピューターに入力、或いは当該コンピューターを用いて選択されるパターンの目視評価結果と、前記撮像画像から求められるパターンの複数の特徴量に基づいて、前記パターンの評価値を計算する計算式を導出させることを特徴とするコンピュータープログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012115178A JP5953117B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | パターン評価装置、及びコンピュータープログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012115178A JP5953117B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | パターン評価装置、及びコンピュータープログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013243230A JP2013243230A (ja) | 2013-12-05 |
JP5953117B2 true JP5953117B2 (ja) | 2016-07-20 |
Family
ID=49843844
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012115178A Expired - Fee Related JP5953117B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | パターン評価装置、及びコンピュータープログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5953117B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6456301B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2019-01-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像処理方法、画像処理装置、画像処理プログラム、及び画像処理プログラムを記憶した記憶媒体 |
JP6345937B2 (ja) * | 2014-01-29 | 2018-06-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン形状検査装置及びパターン形状検査方法 |
JP2021140524A (ja) * | 2020-03-06 | 2021-09-16 | 株式会社東芝 | 検査端末装置、検査装置、検査システム、及び、検査プログラム |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100625168B1 (ko) * | 2004-08-23 | 2006-09-20 | 삼성전자주식회사 | 기판에 형성된 패턴의 검사방법 및 이를 수행하기 위한검사장치 |
JP5276854B2 (ja) * | 2008-02-13 | 2013-08-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン生成装置およびパターン形状評価装置 |
JP5114302B2 (ja) * | 2008-06-12 | 2013-01-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン検査方法,パターン検査装置及びパターン処理装置 |
JP5388703B2 (ja) * | 2009-06-03 | 2014-01-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 表面観察装置および表面観察方法 |
JP5537282B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2014-07-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
-
2012
- 2012-05-21 JP JP2012115178A patent/JP5953117B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013243230A (ja) | 2013-12-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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