JP2010082581A - 微粒子塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 液晶表示装置において基板上の所定位置に精度よくスペーサを配置でき、その上、形成された各スペーサ部に含まれるスペーサの個数を均一にすることができる高い生産性の微粒子塗布方法を提供する。
【解決手段】基板Wを1軸方向に移動自在なステージ3で保持し、ステージの移動方向をX軸方向として、Y軸方向に移動自在な塗布ヘッド6のノズル7に対して微粒子を溶剤に分散させた分散液を供給し、塗布ヘッドと基板とを相対移動させてノズルにより基板上の所定位置に分散液を滴下して塗布する。基板上の同一位置へのノズルによる分散液の滴下を複数回行い、一回の塗布が終了する毎に分散液の溶剤を乾燥させる。
【選択図】 図4
【解決手段】基板Wを1軸方向に移動自在なステージ3で保持し、ステージの移動方向をX軸方向として、Y軸方向に移動自在な塗布ヘッド6のノズル7に対して微粒子を溶剤に分散させた分散液を供給し、塗布ヘッドと基板とを相対移動させてノズルにより基板上の所定位置に分散液を滴下して塗布する。基板上の同一位置へのノズルによる分散液の滴下を複数回行い、一回の塗布が終了する毎に分散液の溶剤を乾燥させる。
【選択図】 図4
Description
本発明は、微粒子塗布方法に関し、特に、液晶表示装置にてセルギャップを維持するスペーサ部を形成するために用いることができるインクジェット式のものに関する。
近年、パーソナルコンピューターや携帯情報端末などの機器の表示手段として、例えばアクティブマトリックス方式の液晶パネルを用いた液晶表示装置が用いられている。この液晶表示装置では、カラーフィルタと液晶駆動側基板とを対向させて1〜10μm程度の間隙部(セルギャップ)を設け、この間隙部内に液晶を充填してその周囲をシール材で密封している。そして、このような液晶表示装置において表示品質の良いものを得るには、上記セルギャップを一定かつ均一に維持することが必要となる。
セルギャップを一定かつ均一に維持する方法として、インクジェット式の塗布装置を用い、基板上の所定位置に、溶剤に粒状(球状)または棒粒状のスペーサを分散させた分散液を吐出し、複数個のスペーサの凝集体からなるスペーサ部を形成することが例えば特許文献1で知られている。上記特許文献1ではまた、例えば基板上の画素を囲むように設けられた遮光膜がT字状又は十字状に交差する部分に分散液を滴下することや複数の塗布ヘッドから同時に分散液を吐出させて生産性を向上させることも提案されている。
上記インクジェット式の塗布装置に用いられる塗布ヘッドとしては、液滴吐出量の調節が容易であることから、塗工液通路内に圧電素子(ピエゾ素子)を設けた複数のノズルを備えたものが一般に使用される。また、塗布ヘッドの各ノズルからの液滴の吐出に先立っては、ノズルから吐出(滴下)される液滴の大きさ(液滴吐出量)が塗工液の滴下速度に比例し、また、ノズルからの塗工液の滴下速度が圧電素子に印加する駆動パルス電圧に比例することに着目し、各ノズルからの塗工液の滴下速度が所望の規定速度範囲内となるように、各ノズル毎に圧電素子への駆動パルス電圧及びパルス幅(駆動電圧印加時間)が調節される。
但し、上記のように液滴吐出量を調節しても、各液滴に含まれるスペーサの個数にばらつきがあるため、形成された各スペーサ部に含まれるスペーサの個数にばらつきが生じ、各スペーサ部の高さを均一に形成することが難しいという問題がある。
このような問題の解決策として、同一または複数の塗布ヘッドから同時または連続してスペーサ部の形成位置に複数滴滴下することで、最終的に各スペーサ部に含まれるスペーサの個数を均一化することが例えば特許文献2で知られている。
然し、上記特許文献2のような塗布方法では、同時または連続して複数滴滴下することで、基板上の同一箇所での着弾径が大きくなるため、分散液が画素領域にまで拡がってはみ出し、当該領域にスペーサが配置される虞があり、スペーサ部の形成位置精度が悪くなるという不具合がある。
特開平11−24083号公報
特開2007−139939号公報
本発明は、以上の点に鑑み、処理対象物上の所定位置に精度よくスペーサを配置でき、その上、形成された各スペーサ部に含まれるスペーサの個数を均一にすることができる高い生産性の微粒子塗布方法を提供することをその課題とする。
上記課題を解決するために、本発明は、処理すべき基板を1軸方向に移動自在なステージで保持し、前記ステージの移動方向をX軸方向として、当該Y軸方向に移動自在な塗布ヘッドの少なくとも1個のノズルに対して微粒子を溶剤に分散させた分散液を供給し、前記塗布ヘッドと基板とを相対移動させて前記ノズルにより基板上の所定位置に分散液を滴下して塗布する微粒子の塗布方法において、前記基板上の同一位置へのノズルによる分散液の滴下を複数回行い、一回の塗布が終了する毎に分散液の溶剤を乾燥させることを特徴とする。
本発明によれば、基板の所定位置に塗布ヘッドのノズルから液滴を塗布した後、分散液を乾燥させる。このとき、分散液中の微粒子は凝集する。この状態で、同一または他のノズルから微粒子が凝集した領域に分散液を塗布する。このとき、分散液の塗布位置が多少ずれていても、基板に着弾した分散液が拡がり、微粒子が凝集した領域に液滴の一部がかかっていると、乾燥時に、当初微粒子が凝集した位置に次の分散液中の微粒子が凝集するようになる。その結果、基板の所定位置に精度よく微粒子を配置でき、しかも、複数滴滴下することで微粒子の個数の均一化も図り易くすることが可能となる。
ところで、塗布ヘッドと基板とを相対移動させて塗布ヘッドのノズルにより基板上の所定位置に分散液を滴下する場合、相対速度が速くなるに従い、基板への役液滴の滴下位置の精度が悪くなる。このため、前記溶剤を蒸発させた後、基板の同一位置にノズルにより分散液を塗布する場合に、各ノズルと基板との相対移動速度を速くすれば、比較的遅い速度で当初は基板の所定位置への塗布を行い、精度よく分散液を塗布し、次に、乾燥後の塗布を比較的速い速度で行うことで、多少滴下位置の精度が悪くなっても、当初微粒子が凝集した位置に次の分散液中の微粒子が凝集するようになるため、従来技術のように微粒子の配置位置精度が悪くなることはなく、しかも、複数回に分けて微粒子を塗布するときの塗布速度を向上することができ、結果として高い生産性が達成できる。
本発明においては、生産性を一層向上させるためには、前記基板の全域に亘る複数箇所への分散液の塗布が終了した後、前記溶剤の乾燥を行うことが好ましい。
また、前記微粒子は、液晶表示装置にてセルギャップを維持するスペーサ部形成用のスペーサであれば、基板の所定位置に精度よく塗布され、その上、形成された各スペーサ部に含まれるスペーサの個数を均一にすることができる。
以下に図面を参照して、処理対象物としてカラーフィルタ用のガラス等の基板W上の画素Gを囲むように遮光膜Pが設けられたものを用い、当該遮光膜PがT字状又は十字状に交差する部分に複数個(2〜15個)のスペーサの凝集体からなるスペーサ部SPを形成することに本発明の微粒子塗布方法を適用した実施の形態について説明する。
図1及び図2に示すように、本実施の形態の微粒子塗布装置Mは、インクジェット式のものであり、プラットホーム1を備える。プラットホーム1上には直方体形状のベース板2が配置され、ベース板2上には、基板Wを吸着保持するステージ3がベース板2の上面に固定したガイドレール4に沿って水平の1軸方向(X軸方向)に移動自在に支持されている。そして、図示省略したモータにより送りねじ機構を介してステージ3がX軸方向に往復動されるようにしている。なお、本実施の形態では、スペーサ部SPを形成する際に図1中左側から右側へと基板Wが移動し、後述のフレームの上流側では、基板搬送手段Rによってステージ3上に基板Wを位置決め配置できるようになっている。
ベース板2上には、X軸方向に直交する水平方向(Y軸方向)に長手の門型のフレーム5がステージ3の移動経路を跨ぐようにして配置されている。フレーム5には、インクジェット式の塗布ヘッド6が、図示省略の駆動手段によりY軸方向に沿って往復動自在に設けられている。塗布ヘッド6は、Y軸方向に所定の間隔を存して列設された複数個のノズル7を有する。この場合、各ノズル7相互の間隔は、上記遮光膜Pの交差する部分の間隔に一致させて設定されるが、その間隔を微調整するために、X軸方向に直行するZ軸方向の軸線周りに塗布ヘッド6を回転させる図示省略の回転機構を設ける構成を採用することが好ましい。
図3に示すように、各ノズル7は同一の構造を有し、塗工液通路7aと、塗工液通路7aの下端にチャンバ7bを介して連通するノズルヘッド7cとを備える公知のものであり、チャンバ7bに設けた圧電素子7d(例えばピエゾ素子)に図示省略の電圧制御回路によりパルス状に駆動電圧を印加することで適宜駆動させて後述の分散液をノズルヘッド7cから吐出、滴下するように構成されている。
ここで、液晶表示装置の製造においてスペーサ部SP形成に用いられる塗工液としては、特に制限はなく、公知のものを用いることができ、例えば所定の粒子径を有するスペーサを溶媒中に分散させてなる分散液を用いることが好ましい。スペーサSとしては、ガラス、アルミナ又はプラスチック等からなる球状又は棒状のものであって、その粒子径が1μm〜10μm程度の公知のものが用いられる。また、溶剤としては、常温で液体であり、上記スペーサSを分散させることができるものであれば、特に制限はないが、塗布ヘッド6から安定的に吐出可能なように、水または親水性の有機溶剤を用いることが好ましい。
また、上記溶剤は、基板W上に分散液を塗布した後、溶媒が低い温度で揮発するように、沸点(1気圧下)が100°以下の親水性有機溶剤を含むことが好ましい。このような親水性有機溶剤としては、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール等の低級モノアルコールやアセトンが例として挙げられ、これらは、単独または2種以上を併用するようにしてもよい。
このような分散液は、配管7eを介して塗布ヘッド6の塗工液通路7aに通じる塗工液収納部8に収容されている。塗工液収納部8は、相互に隔絶され、流体ポンプ8aを備えた配管8bを介して両槽間で分散液の移しかえを可能とする攪拌槽8cと超音波処理槽8dとを備えた公知のものである。そして、攪拌槽8cにて溶剤中のスペーサSを攪拌しつつ、また、超音波処理槽8dにて脱気しながら超音波により振動を加えて分散液中でスペーサSが凝集することを防止して、スペーサSが均等に分散した分散液が常時各ノズル7に供給されるようにしている。なお、基板Wの所定位置に分散液を塗布した後、強制的に溶剤を蒸発させて乾燥するために、ステージ3に例えば抵抗加熱式のヒータを組み付け、基板Wを加熱できる構成を採用してもよい。
また、微粒子塗布装置Mは、マイコンやシーケンサ等を備えた公知の制御手段Cを有し、基板Wの吸着保持、ステージ3の移動や圧電素子7dへの駆動電圧の制御による液滴吐出量等を統括制御できるようになっている。また、基板Wの移動方向下流側には、CCDカメラ9が設けられている。CCDカメラ9は、Y軸方向に移動自在な支持板(図示せず)に吊持され、分散液が塗布された基板Wの当該塗布位置を撮像し、撮像された画像を図示省略した公知の画像解析装置で解析した後、その画像データを制御手段Cに送信し、画像解析によりスペーサ部SPの個数や配置位置を確認できるようになっている。
以下に本発明の微粒子塗布方法について、基板W上で縦横に所定の間隔を存して列設された画素Gを囲むように遮光膜Pが設けられたものを用い、当該遮光膜が十字状に交差する部分に設定された目標個数のスペーサの凝集体からなるスペーサ部SPを形成する場合を例に説明する。
塗布ヘッド7の各ノズル7によるガラス基板Wへの分散液の塗布に先立って、各ノズル7からの塗工液の吐出可能なメニスカスの形成した後、各ノズル7からの液滴の滴下速度の調節(吐出準備)を行う。
この吐出準備は公知の方法で行われる。例えば、塗布装置Mにストロボ発光装置と、ノズルヘッド7cから吐出された液滴の位置を検出するCCDカメラ等の観察装置とを設け、ストロボ発光間隔内における液滴の移動距離から液滴の吐出速度及びノズルヘッド7cからの延長線に対する液滴の飛翔角を検出する。そして、吐出速度及び飛翔角が所定の範囲に含まれるように、制御手段Cにより電圧制御回路を介して印加すべき駆動電圧またはパルス幅(駆動電圧印加時間)が調節される。
吐出準備が完了すると、ステージ3が図1中右側に存する状態で当該ステージ3上に、公知の多関節式の搬送ロボットRにより上記基板Wを搬送して位置決め配置した後、吸着保持させる(図1参照)。この状態でステージ3上の基板WをX軸方向に沿って塗布ヘッド6のノズル7直下の位置まで移動させる。そして、駆動手段により塗布ヘッド6をY軸方向に移動させ、ノズル7が基板Wの移動方向の最下流側で遮光膜Pの交差部分直上に位置するように位置決する。この状態で、各ノズル7から上記交差部分にそれぞれに分散液を1滴ずつ滴下して塗布する(このとき、1滴中の分散液のスペーサ個数は10個以内が好ましい)。そして、ステージ3を所定の速度でX軸方向に沿って移動させると共に、このステージ3の移動に同期して塗布ヘッド6を走査移動させながら、基板Wの全面に亘って上記交差部分にそれぞれに分散液を1滴ずつ滴下して塗布していく(1回目の塗布)。
このとき、ステージ3や塗布ヘッド6の移動速度は、塗布ヘッド6の各ノズル7から上記交差部分にそれぞれに分散液を1滴ずつ滴下して塗布する際に、目標とする滴下位置の精度が悪くならない範囲に設定する(低速塗布)。そして、ステージ3を逆方向に移動させながら、自然または強制的に溶剤を乾燥させる。このように分散液を滴下して乾燥させると、分散液中のスペーサSが略目標とする位置に凝集する(図4(a)参照)。
次に、同一のノズル7が基板Wの移動方向の最下流側で遮光膜Pの交差部分直上に位置するように再度位置決した後、圧電素子への駆動電圧を変えずに、上記と同様に、ステージ3を所定の速度でX軸方向に沿って移動させると共に、このステージ3の移動に同期して塗布ヘッド6を走査移動させながら、基板Wの全面に亘って上記交差部分にそれぞれに分散液を1滴ずつ滴下して塗布していく(2回目塗布)。
このとき、ステージ3や塗布ヘッド6の移動速度は、1回目の塗布のときより速い速度であって、分散液を滴下し、基板Wの所定位置に着弾した分散液の一部、好ましくは分散液の略半分が上記凝集したスペーサSの領域にかかるように分散液を滴下できる速度に設定する(高速塗布)。これにより、2回目塗布におけるスペーサSが、1回目塗布の後凝集した位置に凝集するようになり、基板の所定位置に精度よくスペーサが配置される(図4(b)参照)。
このように本発明においては、1回目塗布を比較的遅い速度で行い、精度よく分散液を塗布し、乾燥後の2回目塗布を比較的速い速度で行うことで、2回目塗布時に多少滴下位置の精度が悪くなっても、当初スペーサSが凝集した位置に次の分散液中のスペーサSが凝集するようになる。このため、従来技術のように、複数個のスペーサSが凝集して形成されるスペーサ部SPの配置位置精度が悪くなることはなく、しかも、複数回に分けてスペーサSを塗布するときの塗布速度を向上することができ、結果として、スペーサSの個数の揃ったスペーサ部SPを高い生産性で形成できる。
また、複数回に分けて塗布する際に、圧電素子7dに異なるパルス波形の駆動電圧を印加するものではないので、サテライトやミストといった吐出不良が発生し難くでき、基板Wの全面に亘る複数箇所への分散液の塗布が終了した後に、ステージ3を移動させながら溶剤の乾燥を行うこと相まって一層生産性を向上することができる。
なお、上記実施の形態では、分散液の塗布を2回に分けて行うものを例として説明したが、塗布の回数には制限はなく、本発明を適用してスペーサ部SPを形成できる。また、同一のノズル7で同一位置への分散液の滴下を行うようにしたが、吐出速度及び飛翔角が所定の範囲に含まれるように各ノズル7が調節されているような場合には、ノズル7を代えて塗布することも可能である。
実施例1では、図1に示すインクヘッド式の微粒子塗布装置Mを用い、また、基板として、サイズが370×470mmで64列の画素を囲むように遮光膜Pが設けられたものを用いて、当該遮光膜がT字状又は十字状に交差する部分に、スペーサの凝集体からなるスペーサ部を形成した。この場合、微粒子塗布装置Mの1個の塗布ヘッド6のノズル本数は64本、各ノズルのノズル径が27μmとした。さらに、スペーサとして、積水化学工業社製で平均粒子径が3.6μm、溶剤としてイソプロピルアルコール、エチレングリコール等の混合液を用い、これに上記スペーサを分散させた分散液を用いた(濃度1.8重量%)。
そして、液滴の吐出速度を4m/s、吐出液滴の体積を15plに設定し、塗布ヘッド6の各ノズル7から分散液を基板上に滴下して塗布した後(1回目塗布)、1回目塗布時から移動速度を代えて同一のノズル7から分散液を基板上に滴下して塗布した(2回目塗布)。このときの1回目塗布の移動速度は100mm/s(低速)、及び2回目塗布の移動速度500mm/s(高速)とした。なお、以下においては、低速及び高速の移動速度は、上記と同じ速度をいう。
比較例として、上記実施例1と同一の条件で塗布を行ったが、移動速度を変えた。ここで、比較例1では、移動速度を低速に設定して1回だけ塗布を行い、比較例2では、移動速度を高速に設定して1回だけ塗布を行い、比較例3では、移動速度を低速に設定して1回目塗布を行い、乾燥後に再度低速に設定して2回目塗布を行い、比較例4では、移動速度を高速に設定して1回目塗布を行い、乾燥後に低速に設定して2回目塗布を行い、比較例5では、移動速度を低速に設定して1回目塗布を行い、乾燥前に高速に設定して2回目塗布を行った。
図5は、1列あたりのスペーサの個数の平均値及び標準偏差値、CCDカメラ9を用いて滴下位置dX、dYの平均値及び標準偏差値並びに塗布時間を測定した結果を示す表である。なお、滴下位置dX、dYは、基板W上での目標滴下位置からのずれを測定したときの「標準偏差値×3」(3σ)を表しており、値か小さい程、精度が向上していることを示す。
これによれば、実施例1の塗布方法を用いれば、滴下位置dX、dYの精度がばらつくことなく、スペーサのばらつきを一回で塗布した場合と比較して小さくでき、その上、塗布時間も比較的短くできることが判る。
M インクジェット式の塗布装置
3 ステージ
6 塗布ヘッド
7 ノズル
7d 圧電素子
9 CCDカメラ(測定手段)
G 遮光膜
S スペーサ(微粒子)
SP スペーサ部
W 基板(処理対象物)
3 ステージ
6 塗布ヘッド
7 ノズル
7d 圧電素子
9 CCDカメラ(測定手段)
G 遮光膜
S スペーサ(微粒子)
SP スペーサ部
W 基板(処理対象物)
Claims (4)
- 処理すべき基板を1軸方向に移動自在なステージで保持し、
前記ステージの移動方向をX軸方向として、当該Y軸方向に移動自在な塗布ヘッドの少なくとも1個のノズルに対して微粒子を溶剤に分散させた分散液を供給し、前記塗布ヘッドと基板とを相対移動させて前記ノズルにより基板上の所定位置に分散液を滴下して塗布する微粒子の塗布方法において、
前記基板上の同一位置へのノズルによる分散液の滴下を複数回行い、一回の塗布が終了する毎に分散液の溶剤を乾燥させることを特徴とする微粒子塗布方法。 - 前記溶剤を蒸発させた後、基板の同一位置にノズルにより分散液を塗布する場合に、各ノズルと基板との相対移動速度を速くすることを特徴とする請求項1記載の微粒子塗布方法。
- 前記基板の全域に亘る複数箇所への分散液の塗布が終了した後、前記溶剤の乾燥を行うことを特徴とする請求項1または請求項2記載の微粒子塗布方法。
- 前記微粒子は、液晶表示装置にてセルギャップを維持するスペーサ部形成用のスペーサであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の微粒子塗布方法。
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2008
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130604 |