JP2010060764A - 分極反転領域の形成方法、擬似位相整合素子の製造方法、電極、及び電極の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】まず、強誘電体結晶基板100の第1面に、強誘電体結晶基板100から独立して形成された第1電極240を重ね合わせる。そして、強誘電体結晶基板100の第1面の反対面である第2面上に形成された第2電極220と、第1電極240の間に電圧を印加することにより、強誘電体結晶基板100に分極反転領域110を形成する。第1電極240は、導電性の電極用基板242と、電極用基板242上にメッキ法により形成されていて分極反転領域110に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部244とを有する。そして強誘電体結晶基板100の第1面に第1電極240を重ね合わせる工程において、電極用凸部244を第1面に押し当てる。
【選択図】図3
Description
前記強誘電体結晶の前記第1面の反対面である第2面上に形成された第2電極と、前記第1電極の間に電圧を印加することにより、前記強誘電体結晶に分極反転領域を形成する工程と、
を備え、
前記第1電極は、導電性の電極用基板と、前記電極用基板に設けられていて前記分極反転領域に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部と、を有し、
前記第1面に前記第1電極を重ね合わせる工程において、前記電極用凸部を前記第1面に押し当てる分極反転領域の形成方法が提供される。
導電性の電極用基板と、
前記電極用基板に設けられており、前記分極反転領域に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部と、
を備える電極が提供される。
導電性の電極用基板の一面上に、前記分極反転領域に対応する開口パターンを有する絶縁膜を形成する工程と、
メッキ液に前記電極用基板の前記一面及び前記絶縁膜を接触させてメッキを行うことにより、前記一面上に、前記開口パターン内に位置する電極用凸部を形成する工程と、
前記絶縁膜を除去する工程と、
を備える電極の製造方法が提供される。
100 強誘電体結晶基板
110 分極反転領域
220 第2電極
240 第1電極
242 電極用基板
244 電極用凸部
300 絶縁膜
Claims (8)
- 強誘電体結晶の第1面に、前記強誘電体結晶から独立して形成された第1電極を重ね合わせる工程と、
前記強誘電体結晶の前記第1面の反対面である第2面上に形成された第2電極と、前記第1電極の間に電圧を印加することにより、前記強誘電体結晶に分極反転領域を形成する工程と、
を備え、
前記第1電極は、導電性の電極用基板と、前記電極用基板に設けられていて前記分極反転領域に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部と、を有し、
前記第1面に前記第1電極を重ね合わせる工程において、前記電極用凸部を前記第1面に押し当てる分極反転領域の形成方法。 - 請求項1に記載の分極反転領域の形成方法において、
前記電極用凸部は、メッキ法、金属型成型、またはナノインプリント法により前記電極用基板上に形成されている分極反転領域の形成方法。 - 請求項1または2に記載の分極反転領域の形成方法において、
前記強誘電体結晶はニオブ酸リチウム又はタンタル酸リチウムであり、かつ前記第1面は前記強誘電体結晶の結晶軸のa軸に平行であり、
前記電極用凸部は、Cu、Al、Cr、Au、Ti、及びTaからなる第1群から選ばれた少なくとも一つから形成され、
前記電極用基板は、前記第1群から選ばれた少なくとも一つから形成され、かつ複数の前記電極用凸部が一方向に沿って周期的に配置されており、
前記強誘電体結晶に分極反転領域を形成する工程において、前記第1電極を、複数の前記電極用凸部が前記強誘電体結晶の結晶軸のa軸に沿って周期的に位置するように前記第1面に重ね合わせる分極反転領域の形成方法。 - 請求項3に記載の分極反転領域の形成方法において、
前記電極用基板及び前記電極用凸部はCuから形成される分極反転領域の形成方法。 - 請求項1〜4のいずれか一つに記載の分極反転領域の形成方法により、強誘電体結晶に複数の前記分極反転領域を周期的に形成する工程を有する擬似位相整合素子の製造方法。
- 強誘電体結晶に分極反転領域を形成するための電極であって、
導電性の電極用基板と、
前記電極用基板に設けられており、前記分極反転領域に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部と、
を備える電極。 - 請求項6に記載の電極において、
前記電極用凸部は、メッキ法、金属型成型、またはナノインプリント法により前記電極用基板上に形成されている電極。 - 強誘電体結晶に分極反転領域を形成するための電極の製造方法であって、
導電性の電極用基板の一面上に、前記分極反転領域に対応する開口パターンを有する絶縁膜を形成する工程と、
メッキ液に前記電極用基板の前記一面及び前記絶縁膜を接触させてメッキを行うことにより、前記一面上に、前記開口パターン内に位置する電極用凸部を形成する工程と、
前記絶縁膜を除去する工程と、
を備える電極の製造方法。
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JP2008225495A JP2010060764A (ja) | 2008-09-03 | 2008-09-03 | 分極反転領域の形成方法、擬似位相整合素子の製造方法、電極、及び電極の製造方法 |
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2008
- 2008-09-03 JP JP2008225495A patent/JP2010060764A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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Title |
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JPN6013005293; LEOS '97 10th Annual Meeting.Conference Proceedings.,IEEE Vol.1, 1997, 178-179 * |
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