JP2010055763A - フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 - Google Patents
フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010055763A JP2010055763A JP2008216265A JP2008216265A JP2010055763A JP 2010055763 A JP2010055763 A JP 2010055763A JP 2008216265 A JP2008216265 A JP 2008216265A JP 2008216265 A JP2008216265 A JP 2008216265A JP 2010055763 A JP2010055763 A JP 2010055763A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filament
- light emitting
- filament lamp
- tube
- lamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 46
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 56
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 55
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 55
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 22
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/38—Seals for leading-in conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/40—Leading-in conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K5/00—Lamps for general lighting
- H01K5/02—Lamps for general lighting with connections made at opposite ends, e.g. tubular lamp with axially arranged filament
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K7/00—Lamps for purposes other than general lighting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K9/00—Lamps having two or more incandescent bodies separately heated
- H01K9/08—Lamps having two or more incandescent bodies separately heated to provide selectively different light effects, e.g. for automobile headlamp
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/0033—Heating devices using lamps
- H05B3/0038—Heating devices using lamps for industrial applications
- H05B3/0047—Heating devices using lamps for industrial applications for semiconductor manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
【解決手段】発光部20と、発光部の両端に連続して形成された一対の扁平な封止部22a,bとを有する直管状の発光管を備え、複数のコイル状のフィラメントを有し、当該各フィラメントの両端に一対の内部リードがそれぞれ連結され、複数の金属箔27,28,29が互いに離間して各封止部にそれぞれ埋設され、各内部リードが各金属箔に対してそれぞれ接続され、各外部リードが各金属箔に対してそれぞれ接続されてなるフィラメントランプにおいて、前記封止部は、前記発光部の外径よりも幅広となるよう構成され、前記発光管の管軸に直交する方向の両端に配置された2つの金属箔の側縁部を、前記管軸と平行に伸びる2直線で挟んだ幅は、前記発光部の内径よりも大きくした。
【選択図】図1
Description
フィラメントランプは、光透過性材料からなる発光管の内部にフィラメントが配設されてなり、投入電力の90%以上が全放射され、被処理体に接触することなく加熱することが可能である。したがって、フィラメントランプを半導体ウエハの加熱用熱源として使用した場合には、抵抗加熱法に比して被処理体の温度を急速に昇降温させること、具体的には、例えば被処理体を1000℃以上の温度にまで、数秒から数十秒で昇温させることが可能であると共に光照射停止後、被処理体を急速に冷却することができる。
このフィラメントランプを、図8を参照して説明すると、両端が端部封止部2a、2bで気密に封止された直管状の発光管1内には、コイル状のフィラメント4、5、6が発光管1の管軸方向に伸びるよう順次に並んで配置され、各フィラメント4、5、6の両端には、それぞれ、給電用の内部リード4a、4b、5a、5b、6a、6bが連結されている。
即ち、各フィラメント4、5、6の一端側の内部リード4a、5a、6aは、それぞれ、一端側封止部2aの金属箔7a、8a、9aを介して、一端側の外部リード10a、11a、12aに電気的に接続されている。
同様に、他端側の内部リード4b、5b、6bは、それぞれ、他端側封止部2bの金属箔7b、8b、9bを介して、他端側の外部リード10b、11b、12bに電気的に接続されている。
なお、16は、各フィラメント4、5、6の内部リード4b、5a、5b、6aに被嵌された絶縁管で、他のフィラメント4、5、6に対向する部位に設けられている。
また、17は、発光管1の内壁と絶縁管16との間の位置において、発光管1の管軸方向に並設された環状のアンカーである。各フィラメント4、5、6は、それぞれ、例えば2個のアンカーによって発光管1と接触しないよう支持されている。
これに伴い、加熱処理装置用のフィラメントランプにおいては、フィラメントに大きな電流を流すことが必要となるため、フィラメントランプの点灯時に金属箔が過剰に高温になって溶断することを回避しなければならない。
そのため、金属箔の、発光管の管軸に直交する方向の幅を広くすることが必要になる。図8の例に基いて説明すると、金属箔7a、7b、8a、8b、9a、9bの、発光管1の管軸に直交する方向の幅を広くすることが必要とされている。
しかしながら、加熱処理装置においては、被処理体の高精度な温度均一性を実現するために被処理体に対して多数のフィラメントランプを密接に並べて配置する必要があるため、フィラメントランプの発光管の外径を大きくする構成を採用することはできない。
したがって、図8に示す従来のフィラメントランプは、従来より幅広に形成された金属箔を封止部に配置することができない、という問題があった。
また、本発明は、被処理体の高精度の温度均一性を実現するために、フィラメントランプの発光管の外径を従来と同等か或いはそれよりも小さくした場合であっても、金属箔を確実に封止部に埋設することを可能にすることを目的とする。
前記封止部は、前記発光部の外径よりも幅広となるよう構成され、
前記発光管の管軸に直交する方向の両端に配置された2つの金属箔の側縁部を、前記管軸と平行に伸びる2直線で挟んだ幅は、前記発光部の内径よりも大きいことを特徴とする。
このフィラメントランプ100は、発光部21と、その両端に連続する封止部22a、22bとよりなる直管状の発光管20を備えている。発光管20は、例えば石英ガラスなどの光透過性材料によって構成され、内部にハロゲンサイクルを行うためのハロゲンガス及び不活性ガスが所定の圧力で封入されている。
発光管20の内部には、複数(図1の実施例では3つ)のコイル状のフィラメント24、25、26が、それぞれ発光管20の管軸に沿って伸びるよう順次に並んで配設されている。
中央部に配置されたフィラメント25の内部リード25a、25bは、それぞれ封止部22a、22b方向に延在し、当該封止部で金属箔28a、28bと接続されている。
他端側の封止部22bの直近に配置されたフィラメント26の内部リード26a、26bは、封止部22bから延在してそれぞれフィラメント26の端部に接続されている。これら内部リード26a、26bは、共に同一の封止部22bに保持され、金属箔29a、29bと接続されている。
金属箔27a、27b、28a、28b、29a、29bには、それぞれ外部リード30a、30b、31a、31b、32a、32bが接続されている。
絶縁管36は、その外周面が発光部21の内壁に当接するように、発光部21の内部に配置される。こうすることにより、フィラメントランプの点灯時に絶縁管36の熱が発光部21を介して放熱されるため、絶縁管36が高温状態になることが防止される。
各フィラメント24、25、26は、環状のアンカー37によって、発光部21の管軸上に配置されると共に重力方向に垂下がることが防止され、発光部21の内壁に接触することが無い。したがって、フィラメントランプ100の点灯時に高温となるフィラメント24〜26が発光部21の内壁に接触することがないので、発光部21が失透することが確実に防止される。
発光部21の外径(図2のDO)が10mm〜20mm、発光部21の内径(図2のDI)が8mm〜17mm、各封止部22a、22bの幅(図2のWH)が12mm〜22mm、各封止部に埋設された複数の金属箔の幅(図2のWK)が9mm〜18mm、隣り合う金属箔の間隔(図2のP)が1mm以上である。
また、上記の仕様を有するフィラメントランプ100の最大定格電流値の数値例を以下に示す。
(実施例1)
WK=9mm
各金属箔28a、28bの幅=3mm
各金属箔27a、27b、29a、29bの幅=2mm
隣り合う金属箔の間隔P=1mm
フィラメント25の最大定格電流=12A
フィラメント24、26の最大定格電流=10A
(実施例2)
WK=18mm
各金属箔28a、28bの幅=6mm
各金属箔27a、27b、29a、29bの幅=5mm
隣り合う金属箔の間隔P=1mm
フィラメント25の最大定格電流=20A
フィラメント24、26の最大定格電流=16A
また、この種のフィラメントランプは、被処理体の温度をより精密にコントロールするため、多数の(少なくとも3つ)フィラメントを発光部21内に配置することが好ましい。
すなわち、単一の封止部に対して多数かつ幅広の金属箔が配置されることが予想されるが、前述のとおり、発光部21の外径を大きくすることはできない。
したがって、発光部の外径を従来のものと同等に維持しつつ、各封止部22aの幅を発光部21の外径よりも相対的に大きくすることが重要になる。
このような要望に対応するための発光管の製造方法について、図2を用いて説明する。
(第1の手順)
図3(A)は、第1のガラス管を作製する手順を示す。直管状の第1のガラス管22´の一端をチャックし、第1のガラス管の一端側の開口から窒素ガスなどの不活性ガスをガラス管の内部に導入しながら、第1のガラス管を管軸中心に回転させる。この状態で、第1のガラス管22´の端部をバーナーを用いて加熱して縮径させ、第1のガラス管の端部に縮径部22a´を形成する。
(第2の手順)
図3(B)は、上記の第1のガラス管に、第2のガラス管を繋ぎ合わせる手順を示す。第2のガラス管21´は、第1のガラス管22´に比べて外径が小さい。直管状の第2のガラス管21´の一端部を、上記の第1のガラス管の縮径部22a´に突き合わせて配置する。この状態で、第1のガラス管の縮径部22a´と、第2のガラス管21´の一端部とを、バーナーで加熱して溶着する。
(第3の手順)
(1)と同様にして、第1のガラス管と同じ構成を有する第3のガラス管22´を作製する。
(第4の手順)
図3(C)は、上記の第2のガラス管21´の他端に、第3のガラス管22´を繋ぎ合わせる手順を示す。第3のガラス管の縮径部22a´を、第2の手順で作製した第2のガラス管21´の他端側の開口端に突き合わせて配置する。この状態で、第3のガラス管の縮径部22a´と、第2のガラス管21´の他端とを、バーナーで加熱して溶着する。
このようにして、第1および第3のガラス管22´が、第1および第3のガラス管よりも外径の小さい第2のガラス管21´の両端に連続する構成の発光管構成体20´を作製する。
(第1の手順)
図4(A)は、マウント101の構成を示す。マウント101は、フィラメント24、25、26と、内部リード24a、24b、25a、25b、26a、26bと、金属箔27a、27b、28a、28b、29a、29bと、外部リード30a、30b、31a、31b、32a、32bと、絶縁管36とを備えて構成される。
マウントは、以下のようにして作製される。各フィラメント24、25、26の両端に、各内部リード24a、24b、25a、25b、26a、26bを接続し、各内部リード24b、25a、25b、26bの外周を覆うように絶縁管36を配置する。各内部リードの24a、24b、25a、25b、26a、26bの端部を、各金属箔27a、27b、28a、28b、29a、29bに接続する。各外部リード30a、30b、31a、31b、32a、32bの端部は予め、各金属箔27a、27b、28a、28b、29a、29bの端部に接続してある。
(第2の手順)
図4(B)は、図4(A)の手順で作製したマウントを、図3の手順で作製した発光管構成体の内部に配置して、封止部を作製する手順を示す。
マウント101を、発光管構成体20´内に挿入する。マウント101は、金属箔27a、27b、28aが一端側のガラス管22´の内部に、金属箔28b、29a、29bが他端側のガラス管22´の内部に位置するよう配置される。
そして、発光管構成体20´のガラス管22´を火炎などを用いて所望の温度まで加熱し、金型に挟んで圧潰する、所謂ピンチシールを行うことにより、各金属箔によって気密に封止された扁平な板状の封止部を形成する。
(関係1) WK>DI
さらに、上記のようにして作製された本発明のフィラメントランプは、封止部22aの、発光管20の管軸Lに直交する方向の幅をWHとし、発光部21の外径をDOとしたとき、次の関係2を満たすように構成される。
(関係2) WH>DO
説明は省略するが、封止部22b側も、上記の関係1および2を共に満たすように構成されている。
このように、多数かつ幅広の金属箔を使用する場合であっても、発光管の両端に大径部が形成されているために、当該大径部を利用することで、多数かつ幅広の金属箔が配置された封止部を確実に作製することができる。したがって、被処理体の昇温速度を向上させるため、発光管内に配置された複数のフィラメントの各々に対して大電流を供給した場合であっても、個々の金属箔が幅広であるため、金属箔が溶断する心配が無い。
しかも、上記のようにして作製された発光管を用いることにより、封止部が幅広でありながら、発光部の外径は従来のものと同程度にすることができるため、後述するように、複数のフィラメントランプを被処理体に対して密接するように配置することができる。したがって、被処理体の温度均一性を損なう虞が無い。
図5は、本発明の光照射式加熱処理装置の一例における構成の概略を示す正面断面図、図6は、図5に示す光照射式加熱処理装置におけるランプユニットを構成するフィラメントランプの配列例を示す斜視図、図7は、図5に示す光照射式加熱処理装置におけるランプユニットを構成するフィラメントランプの配列例を被処理体と共に示す平面図である。
ランプユニット60をこのように構成することにより、発光部21の外径よりも幅広に形成された各封止部22a、22bが互いに接触することが防止されると共に、隣接する発光部21間の離間距離を可及的に小さくすることができる。したがって、被処理体Wに対して多数のフィラメントランプを並列配置することができるため、被処理体Wの高精度の温度均一性を達成することができる。
例えば被処理体Wが円形状の半導体ウエハであるとすると、半導体ウエハの表面をその形状中心を中心とする同心状の複数の円環状の領域Z1、Z2(一番内側の領域Z1は円形)に分割し、各領域Z1、Z2毎に、半導体ウエハの物理特性等に応じた条件で各フィラメントランプ100に係るフィラメント24〜26の点灯制御を行うことによって、所望の光放射照度分布が得られる。
ランプユニット60を構成するフィラメントランプ100の本数をn1、フィラメントランプ100が有するフィラメントの個数をm1とするとき、各フィラメント全てに独立に電力が供給される構成とされている場合には、n1×m1組の、一対の固定台62A,62Bが必要とされる。
この実施例においては、電源供給ポート56Aは、一方の固定台62Aの導電台63と電気的に接続されており、この固定台62Aの導電台63は、一のフィラメントランプにおける一のフィラメントに係る一端側の外部リードと電気的に接続されている。また、電源供給ポート56Bは、他方の固定台62Bの導電台63と電気的に接続されており、この固定台62Bの導電台63は、フィラメントに係る他端側の外部リードと電気的に接続されている。
これにより、電源部55における給電装置に対して、ランプユニット60を構成する1つのフィラメントランプ100におけるフィラメント24が電気的に接続される。また、このフィラメントランプ100の他のフィラメント25、26についても、他の一対の電源供給ポートによって、各々、給電装置に対して同様の電気的接続がなされる。
そして、ランプユニット60を構成する他のフィラメントランプ100の各フィラメントについても、各々、対応する給電装置に対して同様の電気的接続がなされる。
このような構成とされていることにより、各フィラメントランプ10に係るフィラメントを選択的に発光させることにより、あるいは各フィラメントへの供給電力の大きさを個別に調整することにより、被処理体W上の放射照度分布を任意に、かつ、高精度に設定することができる。なお、ランプユニットにおける一のフィラメントランプのみを選択的に点灯制御することもできる。
具体的には、チャンバ51の外部に設けられた冷却風ユニット65からの冷却風がチャンバ51に設けられた冷却風供給ノズル66の吹出し口66Aを介してランプユニット収容空間S1に導入され、当該冷却風がランプユニット60における各フィラメントランプ100に吹き付けられることにより、各フィラメントランプ100における発光管20が冷却され、その後、熱交換により高温になった冷却風がチャンバ51に形成された冷却風排出口67から外部に排出される。
このような冷却機構は、各フィラメントランプ100の各封止部22は他の箇所に比して耐熱性が低いため、冷却風供給ノズル66の吹出し口66Aが、各フィラメントランプ100の封止部22に対向するよう形成され、各フィラメントランプ100の封止部22が優先的に冷却されるように構成されていることが望ましい。
なお、ランプユニット収容空間S1に導入される冷却風の流れは、熱交換されて高温になった冷却風が逆に各フィラメントランプ100を加熱しないよう、また、反射鏡61も同時に冷却するよう、設定されている。また、反射鏡61が図示を省略した水冷機構により水冷される構成のものである場合には、必ずしも反射鏡61も同時に冷却されるように冷却風の流れが設定されていなくともよい。
処理台53は、例えば被処理体Wが半導体ウエハである場合には、モリブデンやタングステン、タンタルのような高融点金属材料やシリコンカーバイド(SiC)などのセラミック材料、または石英、シリコン(Si)からなる薄板の環状体であって、その円形開口部の内周部に半導体ウエハを支持する段差部が形成されてなるガードリング構造のものにより構成されていることが好ましい。
処理台53は、処理台53それ自体も光照射によって高温とされるので、対面する半導体ウエハの外周縁が補助的に放射加熱され、これにより、半導体ウエハの外周縁からの熱放射などに起因する半導体ウエハの周縁部の温度低下が補償される。
主制御部75は、被処理体W上の各測定地点における温度情報に基づいて、被処理体W上の温度が所定の温度で均一な分布状態となるように指令を温度制御部72に送出する機能を有する。
温度制御部72は、主制御部75からの指令に基づいて、電源部55から各フィラメントランプ100のフィラメントに供給される電力の大きさを制御する機能を有する。
また、主制御部75は、ランプユニット60におけるフィラメントランプ100の点灯時において、冷却風ユニット65に指令を送出し、冷却風ユニット65は、この指令に基づいて、発光管20および反射鏡61、窓板52が高温状態とならないよう冷却風を供給する。
例えば、熱酸化プロセスを行なう場合は、加熱処理空間S2に酸素ガス、および、加熱処理空間S2をパージするためのパージガス(例えば、窒素ガス)を導入・排気するプロセスガスユニット77が接続される。
プロセスガスユニット77からのプロセスガス、パージガスはチャンバ51に設けられたガス供給ノズル78の吹出し口78Aを介して加熱処理空間S2内に導入されると共に排出口79を介して外部に排出される。
すなわち、ランプユニット60は、複数のフィラメントが発光管20内においてその管軸方向に沿って伸びるよう順次に並んで配設され、各フィラメントに対して独立に給電されるフィラメントランプ100が複数本並列に配置されて構成されていることにより、発光管の管軸方向およびこれと垂直な方向の両方向について光強度分布の調整をすることができるので、被照射体Wの表面における放射照度分布を2次元方向に対して高精度に設定することができる。
例えばフィラメントランプ100の発光長よりも全長が短い狭小な特定領域のみに限定して、この特定領域上の放射照度を設定することができるので、この特定領域とその他の領域において、それぞれの特性に対応した放射照度分布を設定することができる。
例えば、図7に示す被処理体Wにおける、円環状の領域Z2内におけるフィラメントランプ100Aおよびフィラメントランプ100Bの直下の領域(領域1ともいう)の温度が、被処理体Wにおける他の領域(領域2ともいう)の温度に比して低いような場合、或いは、領域1における温度上昇の度合いが領域2における温度上昇の度合いより小さいことがあらかじめ判明しているような場合を想定する。
この場合は、フィラメントランプ100Aおよびフィラメントランプ100Bが有する各フィラメントのうち、領域1に対応するフィラメントへの給電量を増加させることにより、領域1と領域2との温度が均一となるように温度調整することができる。従って、被処理体Wの全体にわたって均一な温度分布で加熱処理を行うことができる。
特に、太陽電池パネル用の各種材質の基板には四角形基板が多用されており、このような被処理体の加熱処理に用いられる光照射式加熱処理装置の多くのものは、四角形基板を水平移動させながら、管軸が基板移動方向と直交する方向に伸びるよう配置された単一のフィラメントランプによって、あるいは、各々管軸が基板移動方向と直交する方向に伸びるよう並設された複数本のフィラメントランプによって、帯状の光を照射して加熱処理を行う構成とされている。
このような場合には、3つ以上のフィラメントが配設された、本発明に係るフィラメントランプが用いられることにより、基板の移動方向に平行な2辺部(帯状の両端部)の温度低下を補償しつつ、基板中央部(帯状の中央部)の放射照度分布を調整することができるので、より高精度の温度制御を確実に行うことができる。
20 発光管
21 発光部
21A スロープ部
22a、22b 封止部
24、25、26 フィラメント
24a、24b、25a、25b、26a、26b 内部リード
27a、27b、28a、28b、29a、29b 金属箔
30a、30b、31a、31b、32a、32b 外部リード
33、34、35 給電装置
36 絶縁管
37 アンカー
50 光照射式加熱処理装置
51 チャンバ
52 窓板
53 処理台
55 電源部
56A、56B 電源供給ポート
60 ランプユニット
61 反射鏡
62A,62B 固定台
63 導電台
64 保持台
65 冷却風ユニット
66 冷却風供給ノズル
66A 吹出し口
67 冷却風排出口
S1 ランプユニット収容空間
S2 加熱処理空間
70 温度計
71 温度測定部
72 温度制御部
75 主制御部
77 プロセスガスユニット
78 ガス供給ノズル
78A 吹出し口
79 排出口
Claims (2)
- 直管状の発光部と、当該発光部の両端に連続して形成された一対の扁平な封止部とを有する発光管を備え、複数のコイル状のフィラメントが発光部の内部にそれぞれ発光管の管軸方向に順次に並んで配設され、当該各フィラメントの両端に一対の内部リードがそれぞれ連結され、複数の金属箔が互いに離間して各封止部にそれぞれ埋設され、各内部リードが各金属箔に対してそれぞれ接続され、各外部リードが各金属箔に対してそれぞれ接続されてなるフィラメントランプにおいて、
前記封止部は、前記発光部の外径よりも幅広となるよう構成され、
前記発光管の管軸に直交する方向の両端に配置された2つの金属箔の側縁部を、前記管軸と平行に伸びる2直線で挟んだ幅は、前記発光部の内径よりも大きいことを特徴とするフィラメントランプ。 - 請求項1に記載の複数のフィラメントランプが、各々の扁平な封止部が被処理体に対して垂直方向において互いに平行に伸びるよう並列に配置されてなるランプユニットを有し、当該ランプユニットから放出される光を被処理体に照射して被処理体を加熱することを特徴とする光照射式加熱処理装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008216265A JP4821819B2 (ja) | 2008-08-26 | 2008-08-26 | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 |
TW098119054A TW201009901A (en) | 2008-08-26 | 2009-06-08 | Filament lamp and light irradiation heat treatment device |
KR1020090064192A KR20100024892A (ko) | 2008-08-26 | 2009-07-14 | 필라멘트 램프 및 광조사식 가열 처리 장치 |
EP09010678A EP2159824B1 (en) | 2008-08-26 | 2009-08-19 | Filament lamp and light irradiation heat treatment device |
AT09010678T ATE545948T1 (de) | 2008-08-26 | 2009-08-19 | Glühlampe und vorrichtung zur wärmebehandlung mittels lichtbestrahlung |
US12/544,385 US8145045B2 (en) | 2008-08-26 | 2009-08-20 | Filament lamp and light irradiation heat treatment device |
CN200910163491A CN101661868A (zh) | 2008-08-26 | 2009-08-21 | 白炽灯及光照射式加热处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008216265A JP4821819B2 (ja) | 2008-08-26 | 2008-08-26 | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010055763A true JP2010055763A (ja) | 2010-03-11 |
JP4821819B2 JP4821819B2 (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=41416244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008216265A Expired - Fee Related JP4821819B2 (ja) | 2008-08-26 | 2008-08-26 | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8145045B2 (ja) |
EP (1) | EP2159824B1 (ja) |
JP (1) | JP4821819B2 (ja) |
KR (1) | KR20100024892A (ja) |
CN (1) | CN101661868A (ja) |
AT (1) | ATE545948T1 (ja) |
TW (1) | TW201009901A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011190511A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Ushio Inc | 加熱装置 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5282409B2 (ja) * | 2008-02-25 | 2013-09-04 | ウシオ電機株式会社 | 光照射式加熱方法及び光照射式加熱装置 |
JP2009238552A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Ushio Inc | フィラメントランプ |
FR3008019B1 (fr) * | 2013-07-04 | 2015-07-17 | Sidel Participations | Module de chauffage comportant une lampe et une lentille fixee par une bride sur une partie non emissive de la lampe |
WO2016126381A1 (en) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Applied Materials, Inc. | Rapid thermal processing chamber with linear control lamps |
JP2020136118A (ja) * | 2019-02-21 | 2020-08-31 | 東芝ライテック株式会社 | ヒータ |
JP7232415B2 (ja) * | 2019-07-17 | 2023-03-03 | ウシオ電機株式会社 | 加熱用フィラメントランプ |
US11680338B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-06-20 | Applied Materials, Inc. | Linear lamp array for improved thermal uniformity and profile control |
KR20210095059A (ko) * | 2020-01-21 | 2021-07-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 불균일한 열 출력의 필라멘트 램프를 갖는 반도체 처리 챔버 |
CN114126101B (zh) * | 2021-11-02 | 2024-01-26 | Tcl华星光电技术有限公司 | 石英红外加热装置及其对基板加热的方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61237363A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-22 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | ランプ |
JPS63263719A (ja) * | 1987-04-21 | 1988-10-31 | エイジー プロセッシング テクノロジーズ インコーポレーテッド | 半導体ウエ−ハの熱処理用加熱装置 |
JPH02183961A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-07-18 | Philips Gloeilampenfab:Nv | ハロゲン白熱ランプおよびその製造方法 |
JP2000306657A (ja) * | 1999-04-16 | 2000-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外線電球 |
JP2002258646A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Ushio Inc | 加熱ローラ用ヒータランプ装置 |
JP2005032552A (ja) * | 2003-07-14 | 2005-02-03 | Ushio Inc | 熱源用ヒータランプ |
JP2006279008A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-10-12 | Ushio Inc | ヒータ及びヒータを備えた加熱装置 |
JP2008108504A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Harison Toshiba Lighting Corp | 管型白熱電球、管型白熱電球の製造方法、加熱装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE544825A (ja) * | 1953-08-24 | |||
US3483609A (en) * | 1967-10-31 | 1969-12-16 | Gen Electric | Incandescent lamp manufacture |
GB8308103D0 (en) * | 1983-03-24 | 1983-05-05 | Emi Plc Thorn | Quartz infra-red lamps |
US4710676A (en) * | 1985-08-15 | 1987-12-01 | Gte Products Corporation | Multi-level fuser lamp |
GB8926139D0 (en) * | 1989-11-18 | 1990-01-10 | Emi Plc Thorn | Tungsten halogen lamp |
US6399955B1 (en) * | 1999-02-19 | 2002-06-04 | Mark G. Fannon | Selective electromagnetic wavelength conversion device |
JP4692249B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2011-06-01 | ウシオ電機株式会社 | フィラメントランプ |
KR20080081250A (ko) | 2005-12-22 | 2008-09-09 | 하리슨 도시바 라이팅 가부시키가이샤 | 히터 램프 |
DE102006024238A1 (de) * | 2006-05-23 | 2007-11-29 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Hochdruckentladungslampe |
JP4935417B2 (ja) * | 2007-02-26 | 2012-05-23 | ウシオ電機株式会社 | 光照射式加熱処理装置 |
JP4893474B2 (ja) * | 2007-05-29 | 2012-03-07 | ウシオ電機株式会社 | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 |
-
2008
- 2008-08-26 JP JP2008216265A patent/JP4821819B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-06-08 TW TW098119054A patent/TW201009901A/zh unknown
- 2009-07-14 KR KR1020090064192A patent/KR20100024892A/ko active IP Right Grant
- 2009-08-19 AT AT09010678T patent/ATE545948T1/de active
- 2009-08-19 EP EP09010678A patent/EP2159824B1/en not_active Not-in-force
- 2009-08-20 US US12/544,385 patent/US8145045B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-08-21 CN CN200910163491A patent/CN101661868A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61237363A (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-22 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | ランプ |
JPS63263719A (ja) * | 1987-04-21 | 1988-10-31 | エイジー プロセッシング テクノロジーズ インコーポレーテッド | 半導体ウエ−ハの熱処理用加熱装置 |
JPH02183961A (ja) * | 1988-11-15 | 1990-07-18 | Philips Gloeilampenfab:Nv | ハロゲン白熱ランプおよびその製造方法 |
JP2000306657A (ja) * | 1999-04-16 | 2000-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外線電球 |
JP2002258646A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Ushio Inc | 加熱ローラ用ヒータランプ装置 |
JP2005032552A (ja) * | 2003-07-14 | 2005-02-03 | Ushio Inc | 熱源用ヒータランプ |
JP2006279008A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-10-12 | Ushio Inc | ヒータ及びヒータを備えた加熱装置 |
JP2008108504A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Harison Toshiba Lighting Corp | 管型白熱電球、管型白熱電球の製造方法、加熱装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011190511A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Ushio Inc | 加熱装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100054719A1 (en) | 2010-03-04 |
KR20100024892A (ko) | 2010-03-08 |
CN101661868A (zh) | 2010-03-03 |
JP4821819B2 (ja) | 2011-11-24 |
ATE545948T1 (de) | 2012-03-15 |
EP2159824A2 (en) | 2010-03-03 |
EP2159824A3 (en) | 2010-12-01 |
EP2159824B1 (en) | 2012-02-15 |
US8145045B2 (en) | 2012-03-27 |
TW201009901A (en) | 2010-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4821819B2 (ja) | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 | |
US7471885B2 (en) | Filament lamp | |
JP4935417B2 (ja) | 光照射式加熱処理装置 | |
KR101083576B1 (ko) | 광 조사식 가열 장치 및 광 조사식 가열 방법 | |
KR101004871B1 (ko) | 필라멘트 램프 및 광 조사식 가열 처리 장치 | |
TWI381430B (zh) | Light irradiation method | |
JP4893474B2 (ja) | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 | |
US20090116824A1 (en) | Light irradiation type heat treatment device | |
JP2007149614A (ja) | フィラメントランプ及びフィラメントランプを備えた光照射式加熱処理装置 | |
JP2008041267A (ja) | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 | |
JP4915532B2 (ja) | フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置 | |
JP4687615B2 (ja) | フィラメントランプ | |
JP6438326B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP5041332B2 (ja) | フィラメントランプ | |
JP6791693B2 (ja) | 熱処理装置 | |
JP5286802B2 (ja) | 光照射式加熱装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100318 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100629 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110524 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110809 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |