JPS63263719A - 半導体ウエ−ハの熱処理用加熱装置 - Google Patents

半導体ウエ−ハの熱処理用加熱装置

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JPS63263719A
JPS63263719A JP9849087A JP9849087A JPS63263719A JP S63263719 A JPS63263719 A JP S63263719A JP 9849087 A JP9849087 A JP 9849087A JP 9849087 A JP9849087 A JP 9849087A JP S63263719 A JPS63263719 A JP S63263719A
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JP
Japan
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lights
lamps
wafer
temperature
group
Prior art date
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JP9849087A
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English (en)
Inventor
アニタ エス ガット
ユージン アール ウェスターバーグ
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A G ASSOC
Original Assignee
A G ASSOC
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体材料の熱処理装置に関するもので、特に
、高輝度のCW電灯を使用して、改良された均一性およ
び最小の「すべり」 (スリッペイジ)で半導体ウェー
ハを熱処理する装置に関するものである。
従来の技術 現在、半導体ウェーハの熱処理に、高輝度の電灯を使用
する加熱装置が利用されている。例えば、カリフォルニ
ア州パロアルトのA、 G、 As5−ociates
により製造販売されているヒートパルマTMシステムは
、イオン打込みされた半導体ウェーハの急速な焼きなま
しにより、温度を1100℃まで急速に上昇(ランプア
ップ(ramp up))させて、10秒程度の時間、
この温度を維持することができる。次に、温度は迅速に
低下され、これによって、結晶格子構造中のドーパント
イオンの運動を最小にする。この装置は、燐ドープされ
た酸化物のりフロー金属珪化物の作成、焼きなまし、そ
の他の半導体の処理に使用できるであろう。
発明が解決しようとする問題点 1000℃またはそれ以上の温度で半導体ウェーハを熱
処理する時、熱的に導入されるストレスおよびこれによ
って生じる結晶構造の「すベリ」(スリッペイジ)を防
止するために、加熱の均一性が重要である。従来、ウェ
ーハを加熱するために、すべて平行に整列してウェーハ
の上下に配列された電灯列が使用されていて、各電灯に
おける電流は装置内に成る程度の温度の均一性を得て。
これを維持するように制御される。しかし、ウェーハ縁
付近における放射熱のために、均一の温度を維持するこ
とは出来なかった。この問題を解決する手段として、ウ
ェーハの縁部に密接してウェーハを取囲む全体的に円形
の形態の補助電灯を使用することが試みられた。このよ
うな補助電灯を使用することは、加熱電灯の列の複雑性
を増大するのみならず、このような補助電灯の使用の明
らかな欠点は、電灯をウェーハの1つの直径サイズに限
定することにある。しかし、実際上には、3インチ(7
,62cm)ないし6インチ(15゜24cm)の種々
の直径のウェーハに適用できなければならない。
従って1本発明の目的は、半導体ウェーハの輻射加熱の
ための改良された装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、種々の直径のウェーハの加熱にあ
たって容易に制御できる高温電灯加熱装置を提供するこ
とにある。
問題点を解決するための手段 本発明の特徴は、種々のサイズの半導体ウェーハを加熱
するように構成され、ウェーハの縁に治う温度勾配を最
小とする高温電灯の列にある。
簡単にいえば、本発明は、高輝度の電灯を2列使用し、
その間でウェーハを加熱するものである。各列は複数個
の電灯を含み、1つの列における電灯は他の列における
電灯に対して角度をもっている。好ましくは、電灯の各
列は平行で、2つの電灯の列は互いに直角に配置される
いずれのサイズのウェーハでもウェーハを横切って大体
均一の温度を維持するために、電灯は2またはそれ以上
のグループで独立に付勢され、1つの列における1つの
グループは他の列における1つのグループと共に付勢さ
れるように相互接続されて、電灯の2つのグループを同
時に且つ同等に付勢できるようになっている。全ての電
灯は外方にのびる複数の加熱区域を与えるように接続さ
れる。電灯のグループは独立に制御されるので、ウェー
ハの縁付近の熱を増大して、ウェーハ内の温度勾配を最
小とすることができる。
ウェーハの1つの特定のサイズについて望ましい温度を
得るために、予め設定された電球電流に従って、電灯へ
供給されるパワーを制御できる。
これに代えて、加熱されたウェーハの温度を感知するセ
ンサを設は電灯のグループを自動的に制御するフィード
バックループを設けることもできる。
さらに、電力定格に関して個々の電灯を注意深く選択す
ることにより、電灯のグループの相対的パワーを調節す
ることによって、所望の温度勾配のプロフィールを与え
ることができる。
本発明の目的および特徴は、次に説明する詳細説明から
容易に理解できるであろう。
実施例 以下、図面に示す実施例について説明する。
第1図は本発明による加熱装置の分解斜視図である。全
体的に30によって指示し、1−10の番号を付した第
1の電灯列がウェーハの位置の上側にあり且つ全体的に
32で指示し11−20の番号を付した第2の電灯列が
ウェーハの位置の下側にある。これらの電灯は従来のタ
ングステンハロゲン灯でよい。電灯32の列の下に光反
射器34が配置され、電灯30の列の上に光反射器36
が配置されている。加熱されたウェーハの温度を感知す
る2つの温度センサ38が反射器34に指示されている
。適当なセンサは、イリノイ州スユーキの1. R,C
on、 Inc、により製造販売されている光学高温計
である。
第2図は第1図の装置の側面図で、電灯30゜32の間
のウェーハ4oの配置を示す。センサ38の1つばウェ
ーハ40中心の下に位置し、他のセンサ38はウェーハ
40の縁近くに位置する。
第3図は2つの電灯列、およびこれらの電灯の十文字の
パターンに整列して電灯列の間に位置したウェーハ40
を示す。この図に示すように、各列における電灯は最外
列の電灯1.1oおよび11.20から始めて順次に対
をなしていて、最内側の電灯の対5.6および15.1
6まで内方に向けて作用する。2つの列の中の電灯の対
応する対は、好ましくは、並列に、相互に接続されて、
同時的に且つ同等に付勢されるようになっている。
例えば、第3図に示すように、電灯の上部列における2
つの電灯3.8は電灯の上部列の対応する対の電灯13
.18と接続されて、4個の電灯は並列に接続され、パ
ワー制御ユニット42により同時に付勢される。
1つの動作モードにおいては電灯を通るパワーは、一定
のピーク振巾をもつ電圧を位相変調することにより、或
いは、そのデユーティサイクルを制御することによって
制御される。これらの電灯の対にEP加される電圧は、
各サイズのウェーハについて、および、特定の熱処理に
ついて予め設定できる0例えば、温度が3秒で700”
Cにランプアップ(ramp up)L、 10秒間安
定状態に維持され、次に3秒でランプダウン(ramp
 do%in)する。4インチ(10,16c m)の
ウェーハの熱処理は次表に従ってなし得る。
ランプ状態表 正規強さ=1=30%ピーク 3秒   10秒   3秒 ランプアップ 安定   ランプダウン1秒   2秒
   3秒 グループ!     1   .80   .7   
.4   02    1.1  .80   .7 
  .4   03    1.2  .85   .
75   .43   04    1.3  .90
   .8   .45   05    1.5  
1.0    .9   .50   0上記の電灯に
ついて所定の電源を使用する開ループシステムは、10
秒の安定状態に対して700℃プラス、マイナス7℃の
焼なまし温度を与え得る。他のサイズのウェーハおよび
他の焼なましパターンについては正規の電流の強さは変
化する。
本発明の他の実施例においては、第2図に示す温度セン
サ38が電灯電流のコンピュータによるコントロールの
ためのフィードバックを与えることができるようにされ
る。第5図はセンサが使用されるコントロール装置の作
用を示すブロックダイアグラムである。温度センサ38
からの信号は信号調節器44において適当に調節され、
マルチプレクサ46を通ってアナログ/デジタル変換器
48にEP加される。次に、変換器48からのデジタル
信号はマイクロプロセッサ50に印加される。マイクロ
プロセッサ50は感知された温度に応対して、T4電灯
56を付勢する際にタイマ52および位相制御器54を
制御するようにプログラムされている。この電流センサ
を使用する閉グループシステムはウェーハを熱処理する
のに使用される温度のプロフィールを、より容易に変化
できる。2以上の温度センサを使用することによって、
より大なるコントロールをなし得る。
別の動作モードにおいては、単一の中央センサを使用し
て、電灯の中央グループを制御するようにすることがで
きる。その他の電灯は中央のグループの強さから所定の
偏差をもつものとし、中央グループの強さが変化するの
に伴って、他のグループが自動的に変化するようにする
ことができる。
2つのセンサを使用する時には、中央のセンサが電灯の
中央グループを制御することができ、また、2つのセン
サの間の温度差が外側の電灯の外側グループの偏差を制
御することができる。
他の動作モードにおいては、これらの電灯のグループが
、成る電圧に対して、それぞれ異なる安定状態の強さを
有し所望の温度勾配をつくるようにすることができる。
各ウェーハのサイズに、電子的制御と無関係の特定の勾
配を与えることができる。
発明の効果 本発明による高輝度のCW電灯を使用する加熱装置は、
ウェーハの温度をより精密に制御し。
ウェーハ内に所望の温度勾配を維持する。温度センサお
よびフィードバックを使用することによって、ウェーハ
の熱処理の際に、温度のプロフ!−ルを、より大なる融
通性をもって制御することができ、且つ電灯を適当に選
択することによって、電子的制御の必要なしに、所望の
温度勾配を得ることができる。
ここに1本発明の特定の実施例について説明したが、上
記の説明は本発明の例示であって、本発明を限定しよう
とするものではない。本発明の技術的範囲を逸脱するこ
となしに、当業者は種々の変型をなし得るであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による加熱装置の分解斜視図
である。 第2図は第1図の加熱装置の側面図で、その中のウェー
ハを示す。 第3図は2つの電灯列を示す概略上面図で、その間にお
けるウェーハの配置、および対をなして電灯を付勢する
状態を示す。 第4図は第2図の列における電灯の2つの対の付勢状態
を示、す概略図である。 第5図は本発明の一実施例における電灯列を制御する制
御回路の作用を示すブロックダイアグラムである。 1−10.30・・・第1の電灯列 11−20.32・・・第2の電灯列 36・・・反射器   38・・・温度センサ4o・・
・ウェーハ ゛ 42・・・パワー制御ユニット 44・・・信号調整器 46・・・マルチプレクサ 48・・・アナログ/デジタル変換器 50・・・マイクロプロセッサ 図面の浄書 眠 ;内容に変更なL′) 1、事件の表示  昭和62年特許願第98490号2
9発明の名称  半導体ウェーハの熱処理用加熱装置3
、補正をする者 事件との関係  出願人 名 称  エイジ−アソシェイッ 4、代理人

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所望の径方向温度勾配に従って、種々のサイズの
    半導体ウェーハを加熱する装置において、第1の複数個
    の電灯と、 第2の複数個の電灯とを備え、上記の第2の複数個の電
    灯は上記の第1の複数個の電灯から間隔を隔て、且つこ
    れに対して角度をもっていて、これらの間に半導体ウェ
    ーハを配置できるようになっていて、 上記の第1の複数個の電灯における電灯の複数グループ
    を電気的に接続する手段および上記の第2の複数個の電
    灯における電灯の複数グループを電気的に相互接続する
    手段を備え、それぞれの複数個の電灯における電灯は最
    内側の電灯から始めて最外側の電灯までグループ化され
    ていて且つ上記の第1の複数個の電灯における各電灯グ
    ループを上記の第2の複数個の電灯における電灯の1グ
    ループに電気的に相互接続する手段を備え、これにより
    、相互接続された電灯グループにおける複数の電灯が同
    時に且つ同等に付勢されるようにしたことを特徴とする
    加熱装置。
  2. (2)電灯の各グループは少なくとも2つの電灯を含む
    特許請求の範囲第(1)項記載の装置。
  3. (3)複数個の電灯の各々における電灯は平行に整列さ
    れている特許請求の範囲第(2)項記載の装置。
  4. (4)電灯の相互接続されたグループへのパワーを制御
    する手段を含み、これにより、上記の第1の複数個の電
    灯と上記の第2の複数個の電灯との間でウェーハを加熱
    する時に、所望の可変の温度勾配を維持できるようにし
    た特許請求の範囲第(3)項記載の装置。
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Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010055763A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Ushio Inc フィラメントランプおよび光照射式加熱処理装置

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