JP2010048553A - 複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート - Google Patents
複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010048553A JP2010048553A JP2006340812A JP2006340812A JP2010048553A JP 2010048553 A JP2010048553 A JP 2010048553A JP 2006340812 A JP2006340812 A JP 2006340812A JP 2006340812 A JP2006340812 A JP 2006340812A JP 2010048553 A JP2010048553 A JP 2010048553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distance measuring
- measuring device
- chart
- pattern
- geometric pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C3/00—Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders
- G01C3/02—Details
- G01C3/06—Use of electric means to obtain final indication
- G01C3/08—Use of electric radiation detectors
- G01C3/085—Use of electric radiation detectors with electronic parallax measurement
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/50—Depth or shape recovery
- G06T7/55—Depth or shape recovery from multiple images
- G06T7/593—Depth or shape recovery from multiple images from stereo images
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/10—Image acquisition modality
- G06T2207/10004—Still image; Photographic image
- G06T2207/10012—Stereo images
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30204—Marker
- G06T2207/30208—Marker matrix
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
【課題】複眼測距装置の距離情報を精度良く取得できる検査方法を実現する。
【解決手段】複数の撮像光学系間の視差によって撮像視野内の距離分布情報を取得する測距装置用のチャート(C1)において、所定の幾何学的パターン(A0)を2次元的にアレイ状に配列し、いずれの配列方向も該撮像光学系の基線方向に対して所定の角度(θ1、θ2)を成すように設定することで、該撮像光学系の撮像面に結像される該幾何学的パターンにおいて、幾何学的パターンの基線方向のピッチが測距範囲の最短距離から求められる視差よりも大きくなるように設定する。
【選択図】図1
【解決手段】複数の撮像光学系間の視差によって撮像視野内の距離分布情報を取得する測距装置用のチャート(C1)において、所定の幾何学的パターン(A0)を2次元的にアレイ状に配列し、いずれの配列方向も該撮像光学系の基線方向に対して所定の角度(θ1、θ2)を成すように設定することで、該撮像光学系の撮像面に結像される該幾何学的パターンにおいて、幾何学的パターンの基線方向のピッチが測距範囲の最短距離から求められる視差よりも大きくなるように設定する。
【選択図】図1
Description
本発明は、複数の撮像光学系間の視差によって測定対象物までの距離を測る複眼測距装置の測距精度を評価するための検査方法およびそれに用いるチャートに関する。
一対の撮像光学系を有する撮像装置により測定対象物を撮像し、左右画像または上下画像の2つの画像を取得する複眼測距装置は、三角測量の原理を用いて測定対象物までの距離を算出する。このような複眼測距装置は、自動車の車間距離測定や、カメラの自動焦点システム、3次元形状測定システムに用いられている。
図9は複眼測距装置の三角測量について説明する図である。図9において、G1は第1の撮像光学系の撮像レンズ、N1は第1撮像光学系の撮像面、G2は第2の撮像光学系の撮像レンズ、N2は第2撮像光学系の撮像面である。ここで、測定対象物O上の点Pを測定点とし、この点が第1の撮像光学系の光軸上に位置する場合、点Pは第1の撮像光学系では光軸a1上の撮像面に結像され、第2の撮像光学系では、光軸a2から基線方向にΔだけ離れた撮像面に結像される。ここで、撮像レンズから点Pまでの距離をZとし、2つの撮像光学系G1、G2の光軸間距離である基線長をDとし、撮像レンズの焦点距離をf(G1、G2とも同一とする)とし、視差量をΔとすると、次の様な近似式が成立する。
Δは第1の撮像光学系から得られた画像と第2の撮像光学系から得られた画像をパターンマッチングすることで抽出できるので、(数1)を変形する事により点Pまでの距離Zを抽出することが可能である。パターンマッチングの相関度は第1の撮像光学系から得られる基準画像の小領域と第2の撮像光学系から得られる参照画像の小領域との間の各画素の輝度の差分(絶対値)の総和である評価関数SAD(Sum of Absolute Difference)によって求められる。ここで、小領域の演算ブロックサイズをm×n画素とすると、SADは(数2)によって求めることができる。
(数2)において、x、yは撮像面の座標であり、I0、I1はそれぞれ括弧内で示した座標における基準画像の輝度値と参照画像の輝度値である。図10はSAD演算について説明する図である。SAD演算では、基準画像の基準ブロック領域に対して参照画像の探索ブロック領域の位置を図10のように基線方向にdxだけずらしながら演算し、SADが極小値となるdxが(数1)の視差量Δとなる。SADは任意の座標で演算できるので、撮像視野内の全領域の距離情報を取得することができる。
複眼測距装置では、撮像光学系や撮像素子等の持つ性能ばらつきや組立誤差、校正誤差等に起因して取得した距離情報がばらついてしまため、測距精度が定められた規格内に入っているかどうかを検査する工程が必要となる。
複眼測距装置の測距精度を検査するためのチャートとしては、図11に示すような2階調の格子パターンが描かれたチャートC2や、特許文献1のように複数の階調の輝度パターンをランダムに配列して描かれたものが知られている。
特開2001−091247号公報
複眼測距装置で測定対象物を撮像したときに得られる視差量は、測定対象物までの距離によって変化するため、SADの探索範囲は測距対象範囲の最長距離から最短距離まで撮像したとき得られる視差の範囲をカバーするように設定する必要がある。一方、測距の面分解能を上げるにはチャートのパターンを細かくする必要があるが、図11のような格子パターンのチャートにおいて、格子パターンのピッチを細かく設定すると、撮像面で結像される格子パターンのピッチも細かくなり、SADの探索範囲が広ければ、探索範囲内に格子パターンが複数存在することになるため、SADの探索範囲内にマッチング箇所が複数出現し、正しく視差を検出することができない。よって、視差を正しく検出するためには、探索範囲内におけるマッチング箇所が1つになるように格子パターンのピッチを大きく設定しなければならない。ところが、格子パターンのピッチを大きく設定すると、演算ブロックサイズが格子パターンよりも小さく設定された場合では、演算ブロック内にコントラストが存在しない箇所が発生しパターンマッチングができなくなるため、その箇所では測距ができないという問題が生じる。逆に演算ブロック内に必ずコントラストが存在するようするには、演算ブロックサイズを大きくしなければならいため、測距の面分解能が下がってしまうという問題がある。
また、SAD演算において測距対象物のコントラストが高い場合は極小値が鮮鋭に現れるが、対象物のコントラストが低い場合は極小値が鮮鋭に現れないため検出しにくくなる。従って、輝度パターンがランダムに配列されたチャートでは、隣接する輝度パターンのコントラストが場所によって異なるため、SAD演算によるパターンマッチングの精度がコントラストに応じてばらつく場合や、ランダム配列によって探索範囲内に周期性のある輝度パターンが偶然存在してしまうと、ほぼ等しい極小値が探索範囲内に複数存在してしまい、正しく測距できない箇所が発生するという問題が生じる。
本発明の目的はこのような問題を解決し、撮像視野内の全領域を精度良く検査できるチャートと検査方法を提供することである。
前記課題を解決するために、本発明の複眼測距装置の検査方法は、少なくとも2つの撮像光学系間の視差によって測定対象物までの距離情報を取得する複眼測距装置の測距精度を評価する検査方法であって、前記撮像光学系の光軸上で前記撮像光学系から所定距離にチャートを配置する工程と、前記複眼測距装置によって前記チャートまでの距離を測定する工程とを有し、前記チャートは所定の幾何学的パターンが2つの配列方向に2次元的に配列されたものであり、前記2つの配列方向が前記2つの撮像光学系間の基線方向に対して所定の角度を成すように配置されている。
また、前記所定の角度は、前記撮像光学系により撮像された画像上において、前記幾何学的パターンの前記基線方向のピッチが前記所定距離における前記視差よりも大きくなるような角度であることが好ましい。
上記検査方法により、前記幾何学的パターンとその配列ピッチを適正に設定することで、全ての演算ブロックに必ずコントラストが存在するように調節することができ、SADの探索範囲内では探索ブロックのパターンを基準画像の基準ブロックのパターンに対して常に異ならせることができるため、撮像視野内の全ての領域の距離情報を精度良く取得することが可能となる。
また、前記幾何学的パターンの階調が前記基線方向に周期的に変化していることが好ましい。また、前記幾何学的パターンの形状が前記基線方向に周期的に変化していることが好ましい。また、前記幾何学的パターンの大きさが前記基線方向に周期的に変化していることが好ましい。また、前記幾何学的パターンの向きが前記基線方向に周期的に変化していることが好ましい。
これらにより、SAD演算値において最も小さい極小値とその前後に存在する極小値との差を大きくすることができ、視差を誤検出する確率を減少させることができる。
また、本発明のチャートは、上記複眼測距装置の検査方法に用いるチャートであって、幾何学的パターンが2つの配列方向に2次元的に配列されたチャートである。
本発明により、撮像視野内の全域において任意の面分解能で距離情報を取得することが可能となり、高精度に複眼測距装置の測距精度を検査することが可能となる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1(a)は本発明の実施形態に係る測距評価用のチャートC1の構成例を示す図である。チャートC1は、例えばシート状の媒体にパターンを印刷したもの、画像表示モニターによってパターンを表示したもの、投影機によってスクリーン上にパターンを投影したもの等である。図1(a)では、幾何学的パターンとして円形パターンA0を、2つの配列方向x、yに2次元的にアレイ状に配列している。幾何学的パターンとしては円形に限らず、三角形、矩形、多角形等の幾何学的パターンとしてもよい。図1(a)において、配列方向xはチャートの底辺に対してθ1だけ傾けてあり、もう1つの配列方向yは底辺に対してθ2だけ傾けてある。
図1(a)は本発明の実施形態に係る測距評価用のチャートC1の構成例を示す図である。チャートC1は、例えばシート状の媒体にパターンを印刷したもの、画像表示モニターによってパターンを表示したもの、投影機によってスクリーン上にパターンを投影したもの等である。図1(a)では、幾何学的パターンとして円形パターンA0を、2つの配列方向x、yに2次元的にアレイ状に配列している。幾何学的パターンとしては円形に限らず、三角形、矩形、多角形等の幾何学的パターンとしてもよい。図1(a)において、配列方向xはチャートの底辺に対してθ1だけ傾けてあり、もう1つの配列方向yは底辺に対してθ2だけ傾けてある。
図1(b)は、本実施の形態に係る複眼測距装置の検査方法を示す上面図である。C1はチャートであり、1は複眼撮像装置である。2a、2bは、それぞれ第1の撮像光学系および第2の撮像光学系であり、3a、3bは、第1の撮像光学系および第2の撮像光学系のそれぞれに対応する第1の撮像素子および第2の撮像素子である。チャートC3は、撮像光学系の光軸上であって、各撮像光学系から距離Zだけ離して配置している。また、チャートの底辺が複眼測距装置の2つの撮像光学系の光軸間の基線方向と平行になるように配置する。
図1(a)において、B1は、円形パターンの底辺方向(基線方向)のピッチ、即ち、基線方向にみた時の円形パターンの位置が一致する繰り返し周期であり、前記θ1を変化させることでB1を変化させることができる。
図2(a)は、図1(a)のチャートを複眼測距装置で撮像したときに第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部と、第2の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。A1は撮像面上に結像された円形パターンであり、b1は撮像面上において基線方向と直交する直交軸方向の円形パターンの位置が一致するときの基線方向の繰り返し周期である。なお、撮像パターンはチャートのパターンに対して上下左右反転して結像されるため、図2(a)に示しているθ1は図1のθ1と等しくなる。また、図2(a)において破線によって形成されたマス目の一つは複数の画像で構成された演算ブロックサイズである。図1(a)のチャートのパターンの大きさと配列ピッチを適正に設定することで、全ての演算ブロックに必ずコントラストが存在するように設定することができる。
ここで、図2(a)を基準画像とし、図2(b)を参照画像とする。図2(a)の基準画像のブロックLに着目すると、図2(b)の参照画像のブロックL’はS1で示したSAD演算の探索範囲で演算される。従って、周期b1の値がSAD演算の探索範囲S1よりも大きくなるように図1のチャートの周期B1を設定すれば、SAD演算の探索範囲内では探索ブロックのパターンを基準画像の基準ブロックのパターンに対して常に異ならせることができ、パターンが一致する箇所は一箇所のみとなる。
次に前記SAD演算について説明する。図3は前記SAD演算値の変化を示したグラフであり、横軸は探索位置、縦軸はSAD演算値である。図3におけるb1、S1、Δ1は図2(b)で示した符号に対応しており、探索範囲S1でSAD演算値が最も小さくなる探索位置が視差量Δ1である。また、図2(a)の円形パターンは基線方向と直交する直交軸方向に少しずつずれて結像されているため、SAD演算値の極小値は図3のように探索範囲内に複数出現する。また、探索範囲に制限がなければ、図3の破線で示したSAD演算値のように最も小さい極小値も周期b1で繰り返し出現するが、探索範囲S1を周期b1より小さく設定することにより探索囲内に最も小さい極小値は1つしか存在しなくなり、視差量を誤検出することはない。したがって、本実施の形態の検査方法によれば、複眼撮像装置の測距精度を高精度に検査することが可能となる。
なお、本実施の形態では、チャートの底辺を基線方向に平行に配置したが、底辺に平行に幾何学的パターンを配置したチャートを用いても、チャートの底辺を複眼撮像装置の基線方向に対してθ1だけ傾けて配置すれば同様の効果が得られる。即ち、幾何学的パターンの配列方向と複眼測距装置の基線方向とをθ1だけ傾けさせれば良い。
(実施の形態2)
図4はチャートの幾何学的パターンの階調を基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図4において、A1とA2はそれぞれ階調の異なる円形パターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図4ではチャートの円形パターンの階調を2種類として基線方向に交互に配列した構成としているが、3種類以上の階調によって周期的に変化させてもよい。測距範囲の最短距離で得えられる視差量が大きくパターンの配列方向と基線方向とが成す角を小さくしなければならない場合には、前記の実施の形態1のようにアレイ状に配列されたパターンが全て同じ階調であると、SAD演算値の最も小さい極小値と隣接する極小値との差が小さくなってしまい、視差量を誤検出してしまう可能性がある。
図4はチャートの幾何学的パターンの階調を基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図4において、A1とA2はそれぞれ階調の異なる円形パターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図4ではチャートの円形パターンの階調を2種類として基線方向に交互に配列した構成としているが、3種類以上の階調によって周期的に変化させてもよい。測距範囲の最短距離で得えられる視差量が大きくパターンの配列方向と基線方向とが成す角を小さくしなければならない場合には、前記の実施の形態1のようにアレイ状に配列されたパターンが全て同じ階調であると、SAD演算値の最も小さい極小値と隣接する極小値との差が小さくなってしまい、視差量を誤検出してしまう可能性がある。
図8(a)、(b)は、幾何学的パターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合のSAD演算を示す図であり、Δ2は視差量、S2はSAD演算の探索範囲、b2は撮像面上において基線方向と直交する直交軸方向の円形パターンの位置が一致するときの基線方向の繰り返し周期である。図8(a)は、同じ階調でパターンを配列した場合のSAD演算を示す図であり、図8(b)は本実施例のようにパターンの階調を交互に配列した場合のSAD演算を示す図である。パターンの階調を基線方向に交互に繰り返すことにより、SAD演算値は図8(b)のように隣接する極小値の差を大きくすることができる。従って、最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差も図8(a)と比べて大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
(実施の形態3)
図5はチャートの幾何学的パターンの形状を基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図5において、A1とA3はそれぞれ形状の異なるパターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図4ではチャートの円形パターンと正方形パターンを基線方向に交互に繰り返した構成としているが、3種類以上の形状によって周期的に変化させてもよい。本実施形態も実施の形態2と同様にパターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合にSAD演算における最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差を大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
図5はチャートの幾何学的パターンの形状を基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図5において、A1とA3はそれぞれ形状の異なるパターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図4ではチャートの円形パターンと正方形パターンを基線方向に交互に繰り返した構成としているが、3種類以上の形状によって周期的に変化させてもよい。本実施形態も実施の形態2と同様にパターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合にSAD演算における最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差を大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
(実施の形態4)
図6はチャートの幾何学的パターンの大きさを基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図6において、A1とA4はそれぞれ大きさの異なるパターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図6ではチャートの円形パターンの大きさを2種類として基線方向に交互に繰り返した構成としているが、3種類以上の大きさによって周期的に変化させてもよい。本実施形態も実施の形態2と同様にパターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合にSAD演算における最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差を大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
図6はチャートの幾何学的パターンの大きさを基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図6において、A1とA4はそれぞれ大きさの異なるパターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図6ではチャートの円形パターンの大きさを2種類として基線方向に交互に繰り返した構成としているが、3種類以上の大きさによって周期的に変化させてもよい。本実施形態も実施の形態2と同様にパターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合にSAD演算における最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差を大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
(実施の形態5)
図7はチャートの幾何学的パターンの向きを基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図7において、A1とA5はそれぞれ向きの異なるパターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図7ではチャートの正方形パターンの向きを2種類として基線方向に交互に繰り返した構成としているが、3種類以上の向きによって周期的に変化させてもよい。本実施形態も実施の形態2と同様にパターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合にSAD演算における最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差を大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
図7はチャートの幾何学的パターンの向きを基線方向に周期的に変化させた場合の第1の撮像光学系の撮像面で形成される結像パターンの一部を示している。図7において、A1とA5はそれぞれ向きの異なるパターンであり、配列方向の1つが基線方向に対してθ3だけ傾いている。図7ではチャートの正方形パターンの向きを2種類として基線方向に交互に繰り返した構成としているが、3種類以上の向きによって周期的に変化させてもよい。本実施形態も実施の形態2と同様にパターンの配列方向の基線方向と成す角が小さい場合にSAD演算における最も小さい極小値とその前後に隣接する極小値との差を大きくすることができ、視差量を誤検出する可能性を低減することができる。
以上のように、実施の形態1〜5の検査方法を用いることにより、任意の演算ブロックサイズで撮像視野内全域の距離情報を取得できる。したがって、領域毎に良否規格を設定した検査や、取得データの分布状態に良否規格を設定した検査などが可能となる。
本発明に係る複眼測距装置の検査方法は、車載用、監視カメラ用、3次元形状測定システム用等の複眼測距装置の測距精度の検査に有用である。
C1,C2 測距チャート
A0 測距チャート上の幾何学的パターン
A1〜A5 撮像面に結像された幾何学的パターン
θ1,θ2 円形パターン配列方向の基線方向と成す角
L 基準画像の演算ブロック
L’ 参照画像の演算ブロック
S1,S2 SAD演算の探索範囲
b1,b2 幾何学的パターンの基線方向のピッチ
Δ1,Δ2 視差量
A0 測距チャート上の幾何学的パターン
A1〜A5 撮像面に結像された幾何学的パターン
θ1,θ2 円形パターン配列方向の基線方向と成す角
L 基準画像の演算ブロック
L’ 参照画像の演算ブロック
S1,S2 SAD演算の探索範囲
b1,b2 幾何学的パターンの基線方向のピッチ
Δ1,Δ2 視差量
Claims (7)
- 少なくとも2つの撮像光学系間の視差によって測定対象物までの距離情報を取得する複眼測距装置の測距精度を評価する検査方法であって、
前記撮像光学系の光軸上で前記撮像光学系から所定距離にチャートを配置する工程と、
前記複眼測距装置によって前記チャートまでの距離を測定する工程と、を有し、
前記チャートは所定の幾何学的パターンが2つの配列方向に2次元的に配列されたものであり、前記2つの配列方向が前記2つの撮像光学系間の基線方向に対して所定の角度を成すように配置されている、複眼測距装置の検査方法。 - 前記所定の角度は、前記撮像光学系により撮像された画像上において、前記幾何学的パターンの前記基線方向のピッチが前記所定距離における前記視差よりも大きくなるような角度である、請求項1に記載の複眼測距装置の検査方法。
- 前記幾何学的パターンの階調が前記基線方向に周期的に変化している、請求項1に記載の複眼測距装置の検査方法。
- 前記幾何学的パターンの形状が前記基線方向に周期的に変化している、請求項1に記載の複眼測距装置の検査方法。
- 前記幾何学的パターンの大きさが前記基線方向に周期的に変化している、請求項1に記載の複眼測距装置の検査方法。
- 前記幾何学的パターンの向きが前記基線方向に周期的に変化している、請求項1に記載の複眼測距装置の検査方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の複眼測距装置の検査方法に用いるチャートであって、幾何学的パターンが2つの配列方向に2次元的に配列されたチャート。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006340812A JP2010048553A (ja) | 2006-12-19 | 2006-12-19 | 複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート |
PCT/JP2007/074173 WO2008075632A1 (ja) | 2006-12-19 | 2007-12-14 | 複眼測距装置の検査方法および検査装置並びにそれに用いるチャート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006340812A JP2010048553A (ja) | 2006-12-19 | 2006-12-19 | 複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010048553A true JP2010048553A (ja) | 2010-03-04 |
Family
ID=39536263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006340812A Pending JP2010048553A (ja) | 2006-12-19 | 2006-12-19 | 複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010048553A (ja) |
WO (1) | WO2008075632A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014104783A1 (ko) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 미래나노텍 주식회사 | 백라이트 유닛을 위한 광학 시트의 구조 |
WO2015034049A1 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | アルプス電気株式会社 | 3次元形状計測方法及び3次元形状計測装置 |
KR101865126B1 (ko) * | 2016-08-04 | 2018-06-08 | 광주과학기술원 | 촬상장치, 촬상방법, 거리측정장치, 및 거리측정방법 |
JP2018205325A (ja) * | 2018-08-27 | 2018-12-27 | 株式会社リコー | 視差演算システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム |
JP2020118697A (ja) * | 2020-04-21 | 2020-08-06 | 株式会社リコー | 視差演算システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム |
JP2022050708A (ja) * | 2016-12-07 | 2022-03-30 | マジック アイ インコーポレイテッド | 平行パターンを投射する距離センサ |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4423347B2 (ja) * | 2008-02-26 | 2010-03-03 | パナソニック株式会社 | 複眼測距装置の検査方法及び検査装置並びにそれに用いるチャート |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63217214A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-09-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 3次元位置計測装置 |
JPH04181106A (ja) * | 1990-11-15 | 1992-06-29 | Komatsu Ltd | 位置寸法計測装置のキャリブレーション装置 |
JPH0799327B2 (ja) * | 1993-01-22 | 1995-10-25 | 日本電気株式会社 | カメラの焦点距離較正方法及び装置 |
JPH07229736A (ja) * | 1994-02-18 | 1995-08-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 三次元計測器校正装置 |
JP3453734B2 (ja) * | 1996-08-07 | 2003-10-06 | 株式会社小松製作所 | キャリブレーション方法 |
JP3255360B2 (ja) * | 1999-09-22 | 2002-02-12 | 富士重工業株式会社 | 距離データの検査方法およびその検査装置 |
JP3689720B2 (ja) * | 2000-10-16 | 2005-08-31 | 住友大阪セメント株式会社 | 三次元形状測定装置 |
JP4778156B2 (ja) * | 2001-03-23 | 2011-09-21 | オリンパス株式会社 | 距離情報取得装置又はシステム、パターン投影装置、及び、距離情報取得方法 |
JP4018950B2 (ja) * | 2002-08-05 | 2007-12-05 | 富士重工業株式会社 | ステレオカメラの位置ずれ検査装置および位置ずれ検査方法 |
-
2006
- 2006-12-19 JP JP2006340812A patent/JP2010048553A/ja active Pending
-
2007
- 2007-12-14 WO PCT/JP2007/074173 patent/WO2008075632A1/ja active Search and Examination
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014104783A1 (ko) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 미래나노텍 주식회사 | 백라이트 유닛을 위한 광학 시트의 구조 |
WO2015034049A1 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | アルプス電気株式会社 | 3次元形状計測方法及び3次元形状計測装置 |
KR101865126B1 (ko) * | 2016-08-04 | 2018-06-08 | 광주과학기술원 | 촬상장치, 촬상방법, 거리측정장치, 및 거리측정방법 |
JP2022050708A (ja) * | 2016-12-07 | 2022-03-30 | マジック アイ インコーポレイテッド | 平行パターンを投射する距離センサ |
JP2018205325A (ja) * | 2018-08-27 | 2018-12-27 | 株式会社リコー | 視差演算システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム |
JP2020118697A (ja) * | 2020-04-21 | 2020-08-06 | 株式会社リコー | 視差演算システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム |
JP7243671B2 (ja) | 2020-04-21 | 2023-03-22 | 株式会社リコー | 視差演算システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008075632A1 (ja) | 2008-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4885584B2 (ja) | レンジファインダ校正方法及び装置 | |
US20090058993A1 (en) | Cmos stereo camera for obtaining three-dimensional image | |
KR101639227B1 (ko) | 3차원 형상 측정장치 | |
JP3937024B2 (ja) | モアレ縞を用いたずれ、パタ−ンの回転、ゆがみ、位置ずれ検出方法 | |
JP5633058B1 (ja) | 3次元計測装置及び3次元計測方法 | |
JP2010048553A (ja) | 複眼測距装置の検査方法およびそれに用いるチャート | |
JP6566768B2 (ja) | 情報処理装置、情報処理方法、プログラム | |
JP5385703B2 (ja) | 検査装置、検査方法および検査プログラム | |
US10841561B2 (en) | Apparatus and method for three-dimensional inspection | |
JP2006010392A (ja) | 貫通穴計測システム及び方法並びに貫通穴計測用プログラム | |
JP4837538B2 (ja) | 端部位置測定方法および寸法測定方法 | |
KR100577954B1 (ko) | 선형 레이저빔을 이용한 비접촉 적응형 치수 측정 장치 및측정 방법 | |
JP4423347B2 (ja) | 複眼測距装置の検査方法及び検査装置並びにそれに用いるチャート | |
JP2008275366A (ja) | ステレオ3次元計測システム | |
JP2013178174A (ja) | 複数の格子を用いた三次元形状計測装置 | |
JP2017198470A (ja) | 計測装置、計測方法、システム及び物品の製造方法 | |
JP2008241609A (ja) | 距離計測システム及び距離計測方法 | |
JP2015206654A (ja) | 情報処理装置、情報処理方法、プログラム | |
WO2020075213A1 (ja) | 計測装置、計測方法および顕微鏡システム | |
JP2008145121A (ja) | 三次元形状測定装置 | |
JP5968370B2 (ja) | 三次元計測装置、三次元計測方法、及びプログラム | |
JP2012026816A (ja) | 寸法測定方法および装置 | |
JP2008170282A (ja) | 形状測定装置 | |
JP2006349443A (ja) | カメラ校正装置 | |
JP2006349351A (ja) | 3次元微細形状測定方法 |