JP2010044113A5 - - Google Patents
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- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 9
- 230000002209 hydrophobic Effects 0.000 claims 8
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N Strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- KREXGRSOTUKPLX-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid;zinc Chemical compound [Zn].CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O KREXGRSOTUKPLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 3
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
Claims (5)
- 結着樹脂及び着色剤を含有するトナー母粒子に外添剤が添加されてなるトナーと、キャリアとを含有してなる二成分現像剤であって、
前記外添剤が、トナー母粒子100重量部に対して、
個数平均粒径が5〜20nmの疎水性シリカＡを0.05〜2.0重量部、
個数平均粒径が5〜40nmの疎水性チタニアを0.05〜2.0重量部、
個数平均粒径が20nmを超えて、70nm以下の疎水性シリカＢを1.0〜5.0重量部、
重量平均粒径が30〜75nmのチタン酸ストロンチウムを0.1〜1.0重量部、及び
体積中位粒径が1.5〜12μmのステアリン酸亜鉛を0.01〜0.1重量部
を含有してなる二成分現像剤。 - チタン酸ストロンチウムとステアリン酸亜鉛の重量比(チタン酸ストロンチウム／ステアリン酸亜鉛)が、4/1〜35/1である、請求項１記載の二成分現像剤。
- 疎水性チタニアとチタン酸ストロンチウムの重量比(疎水性チタニア／チタン酸ストロンチウム)が、1/1〜7/1である、請求項１又は２記載の二成分現像剤。
- 疎水性チタニアとステアリン酸亜鉛の重量比(疎水性チタニア／ステアリン酸亜鉛)が、10/1〜30/1である、請求項１〜３いずれか記載の二成分現像剤。
- チタン酸ストロンチウムの重量平均粒径が疎水性シリカＢの個数平均粒径より大きい、請求項１〜４いずれか記載の二成分現像剤。
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