JP2009067627A5 - - Google Patents
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- 平均粒径が0.07μm以上0.5μm以下であり、結晶子径が8〜80nmである酸化セリウムであって、
前記酸化セリウムは、3質量%の食塩水中に、濃度2質量%の酸化セリウムを含む酸化セリウムスラリーとしたときに所定の沈降体積となるように沈降するものであり、
沈降体積は、酸化セリウムスラリーを撹拌後静置して24時間後に、2.5〜15.0mL/gとなることを特徴とする酸化セリウム。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007237484A JP4294710B2 (ja) | 2007-09-13 | 2007-09-13 | 酸化セリウム及びその製造方法 |
PCT/JP2008/065937 WO2009034905A1 (ja) | 2007-09-13 | 2008-09-04 | 酸化セリウム及びその製造方法 |
DE112008000366T DE112008000366T5 (de) | 2007-09-13 | 2008-09-04 | Ceroxid und Verfahren zu dessen Herstellung |
US12/514,824 US20100058671A1 (en) | 2007-09-13 | 2008-09-04 | Cerium oxide and method for producing the same |
KR1020097011413A KR20090079976A (ko) | 2007-09-13 | 2008-09-04 | 산화세륨 및 그 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007237484A JP4294710B2 (ja) | 2007-09-13 | 2007-09-13 | 酸化セリウム及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009067627A JP2009067627A (ja) | 2009-04-02 |
JP2009067627A5 true JP2009067627A5 (ja) | 2009-05-14 |
JP4294710B2 JP4294710B2 (ja) | 2009-07-15 |
Family
ID=40451914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007237484A Active JP4294710B2 (ja) | 2007-09-13 | 2007-09-13 | 酸化セリウム及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100058671A1 (ja) |
JP (1) | JP4294710B2 (ja) |
KR (1) | KR20090079976A (ja) |
DE (1) | DE112008000366T5 (ja) |
WO (1) | WO2009034905A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010275179A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-12-09 | Tsurumi Soda Co Ltd | セリウムの回収方法 |
JP5574527B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-08-20 | 日揮触媒化成株式会社 | 酸化セリウム微粒子の製造方法 |
KR20130136593A (ko) * | 2010-03-12 | 2013-12-12 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 슬러리, 연마액 세트, 연마액 및 이것들을 이용한 기판의 연마 방법 |
KR20130129398A (ko) * | 2010-11-22 | 2013-11-28 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 지립의 제조 방법, 슬러리의 제조 방법 및 연마액의 제조 방법 |
KR101886892B1 (ko) | 2010-11-22 | 2018-08-08 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 슬러리, 연마액 세트, 연마액, 기판의 연마 방법 및 기판 |
CN103497732B (zh) * | 2010-11-22 | 2016-08-10 | 日立化成株式会社 | 悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 |
KR102004570B1 (ko) | 2012-02-21 | 2019-07-26 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 연마제, 연마제 세트 및 기체의 연마 방법 |
SG10201606827RA (en) | 2012-02-21 | 2016-10-28 | Hitachi Chemical Co Ltd | Polishing agent, polishing agent set, and substrate polishing method |
SG11201407087XA (en) | 2012-05-22 | 2014-12-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | Slurry, polishing-solution set, polishing solution, substrate polishing method, and substrate |
KR102034331B1 (ko) | 2012-05-22 | 2019-10-18 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 슬러리, 연마액 세트, 연마액, 기체의 연마 방법 및 기체 |
JP5943074B2 (ja) | 2012-05-22 | 2016-06-29 | 日立化成株式会社 | スラリー、研磨液セット、研磨液及び基体の研磨方法 |
WO2014156114A1 (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP6424818B2 (ja) * | 2013-06-27 | 2018-11-21 | コニカミノルタ株式会社 | 研磨材の製造方法 |
JP2019131447A (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | ヒロセホールディングス株式会社 | 酸化セリウム微粒子の製造方法 |
WO2024135757A1 (ja) * | 2022-12-23 | 2024-06-27 | 東レ株式会社 | 酸化セリウムのナノ粒子およびその製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5174984A (en) * | 1987-06-29 | 1992-12-29 | Rhone-Poulenc Chimie | Ceric oxide with new morphological characteristics and method for obtaining same |
JP2746861B2 (ja) * | 1995-11-20 | 1998-05-06 | 三井金属鉱業株式会社 | 酸化セリウム超微粒子の製造方法 |
KR100336598B1 (ko) * | 1996-02-07 | 2002-05-16 | 이사오 우치가사키 | 산화 세륨 연마제 제조용 산화 세륨 입자 |
JP2000203834A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-25 | Kose Corp | 超微粒子酸化セリウム及び超微粒子金属酸化物・酸化セリウム複合体、その製造方法並びにそれを配合した樹脂組成物及び化粧料 |
JP2001253709A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 結晶性酸化第二セリウム粒子の製造方法 |
JP4067759B2 (ja) * | 2000-11-17 | 2008-03-26 | 株式会社コーセー | 酸化亜鉛固溶酸化セリウムの製造方法 |
JP2006249129A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤の製造方法及び研磨剤 |
WO2007043817A1 (en) * | 2005-10-14 | 2007-04-19 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing of cerium oxide powder for chemical mechanical polishing and method for preparing of chemical mechanical polishing slurry using the same |
-
2007
- 2007-09-13 JP JP2007237484A patent/JP4294710B2/ja active Active
-
2008
- 2008-09-04 DE DE112008000366T patent/DE112008000366T5/de not_active Ceased
- 2008-09-04 WO PCT/JP2008/065937 patent/WO2009034905A1/ja active Application Filing
- 2008-09-04 US US12/514,824 patent/US20100058671A1/en not_active Abandoned
- 2008-09-04 KR KR1020097011413A patent/KR20090079976A/ko not_active Application Discontinuation
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