JP2010040125A - 不揮発性半導体記憶装置の消去方法 - Google Patents
不揮発性半導体記憶装置の消去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010040125A JP2010040125A JP2008203422A JP2008203422A JP2010040125A JP 2010040125 A JP2010040125 A JP 2010040125A JP 2008203422 A JP2008203422 A JP 2008203422A JP 2008203422 A JP2008203422 A JP 2008203422A JP 2010040125 A JP2010040125 A JP 2010040125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- erase
- unit
- internal
- erasing
- erase unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/14—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
- G11C16/16—Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/34—Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
- G11C16/3436—Arrangements for verifying correct programming or erasure
- G11C16/344—Arrangements for verifying correct erasure or for detecting overerased cells
- G11C16/3445—Circuits or methods to verify correct erasure of nonvolatile memory cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
- G11C16/0483—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
Abstract
【課題】消去単位が大容量化しても、製造工程の変更が不要で、消去Vt分布および消去時間を従来と同等にできる不揮発性半導体記憶装置の消去方法を提供すること。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置として規定されている消去単位を、それより小さい複数の内部消去ユニットで構成した不揮発性半導体記憶装置とし、消去ベリファイ時に或る内部消去ユニットでフェイルを検出したとき、そのフェイル情報を記憶してその内部消去ユニットから次の内部消去ユニットへ移行して消去ベリファイを行い、この動作を消去単位内の全ての内部消去ユニットで行った後、前記フェイル情報を基に、消去ベリファイがフェイルした内部消去ユニットにのみ消去電圧を印加し、これらの動作を消去単位内の内部消去ユニットが全て消去ベリファイをパスするまで繰り返し、このとき、消去ベリファイがパスした内部消去ユニットに対しては消去ベリファイを行わないものとする。
【選択図】 図1
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置として規定されている消去単位を、それより小さい複数の内部消去ユニットで構成した不揮発性半導体記憶装置とし、消去ベリファイ時に或る内部消去ユニットでフェイルを検出したとき、そのフェイル情報を記憶してその内部消去ユニットから次の内部消去ユニットへ移行して消去ベリファイを行い、この動作を消去単位内の全ての内部消去ユニットで行った後、前記フェイル情報を基に、消去ベリファイがフェイルした内部消去ユニットにのみ消去電圧を印加し、これらの動作を消去単位内の内部消去ユニットが全て消去ベリファイをパスするまで繰り返し、このとき、消去ベリファイがパスした内部消去ユニットに対しては消去ベリファイを行わないものとする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、不揮発性半導体記憶装置の消去方法に係り、より詳しくは、NORフラッシュメモリの消去方法に関する。
NORフラッシュメモリは電気的に消去/プログラム可能な不揮発性の半導体メモリである。その消去モードには、特許文献1および2に開示されるように、ブロック消去、マルチブロック消去、チップ消去が存在する。
ところで、近年、NORフラッシュメモリでは、消去単位の大容量化が進んでいる。以前は消去単位は0.5メガビットであったが、今は2メガビットの容量のものが増えている。これは、MLC(マルチレベルセル)の適用される装置が増えてきたことと、チップサイズの縮小化を追求することによる。
これを実現させるためには、単純に消去単位内に含まれる物理的なメモリセル数を増やさなければならない。例えば、MLC技術を用いて2メガビットの消去単位を実現する場合は、その内部の物理的なメモリセルは1メガ個となり、いままでの倍のメモリセル数が必要となる。
特開2000−348492号公報
特開平8−77782号公報
しかし、上記のような方法をとる場合、問題点が発生する。この問題点を、物理メモリセル数が1メガ個の場合を想定して説明すれば、まず、物理メモリセル数が倍になるので、消去終了時のメモリセルの閾値分布(Vt分布)が0.5メガの場合に比較して広くなる可能性が高い。図5に、予想される消去Vt分布の特性図を示す。これは、消去直後で、消去後のトリートメント前である。実線で示す1メガのメモリセルの消去Vt分布が、点線で示す0.5メガの消去Vt分布より広がっている。
NORフラッシュメモリの場合、過消去が発生しないように管理する必要があるので、Vt分布が広がるならば消去ベリファイのレベルを高くして過消去の発生率を抑える必要があるが、一方でこれは消去メモリセルのVtの上限があがることを意味するので、読出しマージンの悪化等の問題が発生する。
1メガメモリセルで0.5メガメモリセルと同等の消去Vt分布を実現させるためには、製造工程の変更も視野に入れて評価、調整を行う必要があると考えられ、製品への速やかな適用は難しい。
では、実際には0.5メガメモリセルの消去ユニットを構成し、この消去ユニットを2個使用して実際の消去単位を構成し、この消去ユニットをシリアルに消去するようにすればどうか。これならば、従来の0.5メガメモリセルの消去Vt分布幅に抑えることが可能となる。しかも、従来の消去と同様なので、製造工程の見直しや評価も必要ない。
しかし、この方法では、消去時間が問題となる。2つの消去ユニットをシリアルに消去するため、消去に必要な時間は当然従来の0.5メガメモリセルの消去のときの約2倍となる。これでは製品性能を満たせない可能性がある。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、製品消去単位が大容量化しても、消去Vt分布が0.5メガメモリセル消去のときと同等で、また消去時間も遜色無いレベルを実現できる不揮発性半導体記憶装置の消去方法を提供することを目的とする。
本発明の不揮発性半導体記憶装置の消去方法は、不揮発性半導体記憶装置として規定されている消去単位を、それより小さい複数の内部消去ユニットで構成した不揮発性半導体記憶装置とし、消去ベリファイ時に或る内部消去ユニットでフェイルを検出したとき、そのフェイル情報を記憶してその内部消去ユニットから次の内部消去ユニットへ移行して消去ベリファイを行い、この動作を消去単位内の全ての内部消去ユニットで行った後、前記フェイル情報を基に、消去ベリファイがフェイルした内部消去ユニットにのみ消去電圧を印加し、これらの動作を消去単位内の内部消去ユニットが全て消去ベリファイをパスするまで繰り返し、このとき、消去ベリファイがパスした内部消去ユニットに対しては消去ベリファイを行わない、ことを特徴とする。
このような消去方法において、消去単位を内部消去ユニット毎に分離する方法は、メモリセルアレイが構成されるウェルを内部消去ユニット毎に分離し、別制御とする方法とする。あるいは、メモリセルアレイが構成されるウェルは共有するが、ワード線を内部消去ユニット毎に別制御とする方法とする。あるいは、メモリセルアレイが構成されるウェルを内部消去ユニット毎に分離し、別制御とし、かつワード線も内部消去ユニット毎に別制御とする方法とする。
このような本発明の不揮発性半導体記憶装置の消去方法によれば、上記のような消去単位構造および消去アルゴリズムを採用することで、製品消去単位が大容量化しても、製造工程の変更なしに製品適用でき、消去Vt分布を従来と同等にでき、消去時間も従来と遜色なくし得る。
以下、図面を参照して本発明による不揮発性半導体記憶装置の消去方法の実施の形態を詳細に説明する。
図2は、フラッシュメモリセルの簡単な断面構造と消去動作時における電位状態を示す図である。このフラッシュメモリセルは、P型基板11にNウェル12とPウェル13が形成され、Pウェル13内にメモリセルのソース・ドレイン領域14が形成される。さらに、このソース・ドレイン領域14間でPウェル13上にフローティングゲート15とコントロールゲート16が積層して形成される。コントロールゲート16はワード線WLに接続される。
このようなフラッシュメモリセルを有する現在のNORフラッシュメモリでは、データ消去に際してワード線WLにチャージポンプから大きな負電圧Vneg(〜−9V)を印加し、ウェル12,13側には別のチャージポンプから大きな正電圧Vpm(〜9V)を印加する。すると、フローティングゲート15に存在する電子がFNトンネル現象によりウェル13,12側に引き抜かれ、データが消去される。また、消去ベリファイは、消去セルのスレッショルド電圧よりも大きい基準電圧をワード線WLに印加して読出しを行い、読出しがされれば消去が行われていると判断し、読出しがされない場合には、消去が不完全と判断して、再度の消去処理を行う。
図3は、上記のようなフラッシュメモリセルを有するNORフラッシュメモリのメモリセルアレイ構造を示す平面図である。このメモリセルアレイは、複数のワード線と、複数のビット線と、それらに接続された複数のメモリセルからなる、消去単位としてのブロックBLKを例えば256ブロック備える。
本発明の一実施形態では、NORフラッシュメモリとして規定されている消去単位(ブロック)を、図3に示すように、それより小さい複数の内部消去ユニットで構成する。いま、1メガメモリセルの消去単位(ブロック)を考え、これが内部的には0.5メガメモリセルの消去ユニット2個(ユニットA、ユニットB)で構成されているものとする。
そして、本発明の一実施形態では、上記のような消去単位構造に対して次のような消去アルゴリズムで消去動作を実施する。
・初めは、内部消去ユニット全てに同時に消去電圧を印加する。
・消去ベリファイは各消去ユニット毎にシリアルに行う。
・最初のユニットAで消去ベリファイのフェイルを検出したら、そこでそのユニットAの消去ベリファイを中止し、消去ベリファイフェイルのフラグを記憶部に記憶してユニットBに移行する。
・次にユニットBの消去ベリファイを行い、ここでも消去ベリファイのフェイルを検出したら、そこでユニットBの消去ベリファイを中止し、消去ベリファイフェイルのフラグを記憶部に記憶する。
・両消去ユニットの消去ベリファイがフェイルしたので、記憶したフラグに基づき、両消去ユニットに対して消去電圧を印加する。
・この動作を繰り返す。
・その繰り返しの中で、或る時点でユニットAの消去ベリファイがフェイルし、その後のユニットBの消去ベリファイがパスした場合は、次の消去電圧はユニットAにのみ印加する。
・或いは、その繰り返しの中で、或る時点でユニットAの消去ベリファイがパスし、その後のユニットBの消去ベリファイがフェイルした場合は、次の消去電圧はユニットBにのみ印加する。
・このようにして、両消去ユニットの消去ベリファイがパスするまで上記動作を繰り返す。
・そのとき、消去ベリファイがパスした消去ユニットに対しては消去ベリファイを行わない。
・初めは、内部消去ユニット全てに同時に消去電圧を印加する。
・消去ベリファイは各消去ユニット毎にシリアルに行う。
・最初のユニットAで消去ベリファイのフェイルを検出したら、そこでそのユニットAの消去ベリファイを中止し、消去ベリファイフェイルのフラグを記憶部に記憶してユニットBに移行する。
・次にユニットBの消去ベリファイを行い、ここでも消去ベリファイのフェイルを検出したら、そこでユニットBの消去ベリファイを中止し、消去ベリファイフェイルのフラグを記憶部に記憶する。
・両消去ユニットの消去ベリファイがフェイルしたので、記憶したフラグに基づき、両消去ユニットに対して消去電圧を印加する。
・この動作を繰り返す。
・その繰り返しの中で、或る時点でユニットAの消去ベリファイがフェイルし、その後のユニットBの消去ベリファイがパスした場合は、次の消去電圧はユニットAにのみ印加する。
・或いは、その繰り返しの中で、或る時点でユニットAの消去ベリファイがパスし、その後のユニットBの消去ベリファイがフェイルした場合は、次の消去電圧はユニットBにのみ印加する。
・このようにして、両消去ユニットの消去ベリファイがパスするまで上記動作を繰り返す。
・そのとき、消去ベリファイがパスした消去ユニットに対しては消去ベリファイを行わない。
図1は、上記のような消去アルゴリズムをより具体的に示すフローチャートである。このフローチャートに従って上記の消去アルゴリズムをより具体的に説明すると、消去動作が開始され、ステップS1で消去前トリートメントが行われると、次にステップS2でA=1,B=1のフラグが図示しない記憶部に記憶される。ここで、フラグAは図3のユニットAのためのフラグであり、フラグBはユニットBのためのフラグである。
次に、ステップS3で、A=1およびB=1であるから、ユニットAおよびBの両方に対して消去電圧が印加され、消去動作が実施される。次に、ステップS4でA=1であることを検出した上で、ステップS5で、A=0に記憶部をリセットすると同時に、ユニットAの消去ベリファイを実施し、ユニットAの消去ベリファイがパスしたことがステップS6で検出されれば、ステップS7でB=1を検出した上で、ステップS8で、B=0に記憶部をリセットすると同時に、ユニットBの消去ベリファイを実施する。そして、ステップS9で、ユニットBの消去ベリファイがパスしたことが検出され、さらにA=0およびB=0すなわち、ユニットA,Bが共に消去ベリファイがパスしたことがステップS10で検出されれば、ステップS11の消去後トリートメントを行った後、“終了”となる。
このような消去アルゴリズムにおいて、いま、ステップS6でユニットAの消去ベリファイのフェイルを検出したら、そこでこのユニットAの消去ベリファイを中止し、消去ベリファイフェイルのフラグすなわちA=1をステップS12で記憶部に記憶して、ステップS8のユニットBの消去ベリファイに移行する。
また、ユニットBの消去ベリファイにおいて、消去ベリファイフェイルをステップS9で検出したら、そこでこのユニットBの消去ベリファイを中止して、同時にステップS13でユニットBの消去ベリファイフェイルのフラグすなわちB=1を記憶部に記憶する。
そして、この場合は、A,Bのフラグが“0”でないことをステップS10で検出するのでステップS3に戻って、フラグ“1”のユニットすなわちユニットA,Bに対して再度消去電圧が印加される。
このとき、前回の消去電圧印加および消去ベリファイでユニットAの消去ベリファイがパスしていればフラグAがステップS12で“1”にセットされておらず、A=0であるので、ユニットAに対する消去電圧の印加は行われず、B=1のユニットBのみに消去電圧が印加される。また、前回の消去電圧印加および消去ベリファイでユニットBの消去ベリファイがパスしていればフラグBがステップS13で“1”にセットされておらず、B=0であるので、ユニットBに対する消去電圧の印加は行われず、A=1のユニットAのみに消去電圧が印加される。
そして、消去電圧が印加された後、ユニットに対する消去ベリファイが最初と同様に実施される。このとき、例えばユニットAの消去ベリファイが既にパスしていれば、AがステップS5で“0”にリセットされており、かつステップS12で“1”にセットされておらず、A=0であるから、ステップS4からステップS7にジャンプし、ユニットAの消去ベリファイは省略される。また、ユニットBの消去ベリファイが既にパスしていれば、BがステップS8で“0”にリセットされており、かつステップS13で“1”にセットされておらず、B=0であるから、ステップS7からステップS10にジャンプし、ユニットBの消去ベリファイは省略される。
そして、このように動作してユニットA,Bの消去ベリファイが両方ともパスし、フラグA,Bが両方とも“0”になれば、ステップS10,S11を介して“終了”となる。
このような本発明の一実施形態によれば、以下の効果を期待できる。
1.個々の消去ユニット毎に消去ベリファイを行い、その結果にしたがって各消去ユニットへの次の消去電圧印加の可否を判断しているので、実際には0.5メガメモリセルの消去動作と同等となり、従来の0.5メガメモリセルの消去Vt分布と同等の分布を期待できる
2.消去電圧は各消去ユニットに同時に印加されるので、従来の0.5メガメモリセルの消去時間と同等の消去時間を期待できる
3.従来の0.5メガメモリセル消去と同等なので、現行の製造工程を変更することなく適用可能である。
1.個々の消去ユニット毎に消去ベリファイを行い、その結果にしたがって各消去ユニットへの次の消去電圧印加の可否を判断しているので、実際には0.5メガメモリセルの消去動作と同等となり、従来の0.5メガメモリセルの消去Vt分布と同等の分布を期待できる
2.消去電圧は各消去ユニットに同時に印加されるので、従来の0.5メガメモリセルの消去時間と同等の消去時間を期待できる
3.従来の0.5メガメモリセル消去と同等なので、現行の製造工程を変更することなく適用可能である。
なお、消去単位を内部消去ユニット毎に分離して内部消去ユニット毎に消去電圧印加の可否を制御可能とする方法は、以下の方法が考えられる。
1.消去ユニット毎にメモリセルアレイが構成されているウエルを分離、別制御とする。
2.メモリセルアレイが構成されているウェルは共有するが、ワード線を消去ユニット毎に別制御とする。
3.消去ユニット毎にメモリセルアレイが構成されているウェルを分離し別制御とし、かつワード線も消去ユニット毎に別制御とする。
1.消去ユニット毎にメモリセルアレイが構成されているウエルを分離、別制御とする。
2.メモリセルアレイが構成されているウェルは共有するが、ワード線を消去ユニット毎に別制御とする。
3.消去ユニット毎にメモリセルアレイが構成されているウェルを分離し別制御とし、かつワード線も消去ユニット毎に別制御とする。
図4は、上記2の場合の消去単位および消去ユニットの構成例を示す平面図で、これは1メガメモリセルの消去単位の場合である。この構成例について説明すれば、21は消去ユニットで共有する消去単位としてのPウェル領域であり、このPウェル領域21のx方向中央部には4本のダミーワード線D1〜D4が配置される。このダミーワード線D1〜D4を境としてPウェル領域21の一方側の領域にはユニットA用の256本のワード線WL1が配置される。他方、Pウェル領域21の他方側の領域にはユニットB用の256本のワード線WL2が配置される。また、ダミーワード線D1〜D4部分で分断して、Pウェル領域21の一方側の領域にはユニットAのための2048本のビット線BL1が配置され、Pウェル領域21の他方側の領域にはユニットBのための2048本のビット線BL2が配置される。
以上、本発明の実施の形態について説明した。本発明の実施の形態は、本発明をNORフラッシュメモリに適用した場合であるが、本発明はNAND型のフラッシュメモリにも適用できる。
Claims (4)
- 不揮発性半導体記憶装置として規定されている消去単位を、それより小さい複数の内部消去ユニットで構成した不揮発性半導体記憶装置とし、
消去ベリファイ時に或る内部消去ユニットでフェイルを検出したとき、そのフェイル情報を記憶してその内部消去ユニットから次の内部消去ユニットへ移行して消去ベリファイを行い、
この動作を消去単位内の全ての内部消去ユニットで行った後、前記フェイル情報を基に、消去ベリファイがフェイルした内部消去ユニットにのみ消去電圧を印加し、
これらの動作を消去単位内の内部消去ユニットが全て消去ベリファイをパスするまで繰り返し、
このとき、消去ベリファイがパスした内部消去ユニットに対しては消去ベリファイを行わない、
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の消去方法。 - 消去単位を内部消去ユニット毎に分離する方法は、メモリセルアレイが構成されるウェルを内部消去ユニット毎に分離し、別制御とする方法であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置の消去方法。
- 消去単位を内部消去ユニット毎に分離する方法は、メモリセルアレイが構成されるウェルは共有するが、ワード線を内部消去ユニット毎に別制御とする方法であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置の消去方法。
- 消去単位を内部消去ユニット毎に分離する方法は、メモリセルアレイが構成されるウェルを内部消去ユニット毎に分離し、別制御とし、かつワード線も内部消去ユニット毎に別制御とする方法であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置の消去方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008203422A JP2010040125A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 不揮発性半導体記憶装置の消去方法 |
KR1020090068260A KR20100018457A (ko) | 2008-08-06 | 2009-07-27 | 비휘발성 반도체 메모리 장치의 소거 방법 |
US12/535,903 US8264891B2 (en) | 2008-08-06 | 2009-08-05 | Erase method and non-volatile semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008203422A JP2010040125A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 不揮発性半導体記憶装置の消去方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010040125A true JP2010040125A (ja) | 2010-02-18 |
Family
ID=42012510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008203422A Pending JP2010040125A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | 不揮発性半導体記憶装置の消去方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010040125A (ja) |
KR (1) | KR20100018457A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111951861A (zh) * | 2019-05-14 | 2020-11-17 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种控制擦除性能的方法和装置 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9324440B2 (en) | 2010-02-09 | 2016-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same |
KR101691088B1 (ko) | 2010-02-17 | 2016-12-29 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
KR101691092B1 (ko) | 2010-08-26 | 2016-12-30 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
KR101658479B1 (ko) | 2010-02-09 | 2016-09-21 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
US9378831B2 (en) | 2010-02-09 | 2016-06-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same |
KR102342849B1 (ko) * | 2015-03-04 | 2021-12-23 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 메모리 시스템, 상기 비휘발성 메모리 장치의 동작 방법 및 상기 메모리 시스템의 동작 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08129893A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Nec Corp | 消去可能な不揮発性半導体記憶装置 |
JP2000331485A (ja) * | 1999-05-17 | 2000-11-30 | Nec Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びその消去方法 |
JP2002150785A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2005501368A (ja) * | 2001-08-24 | 2005-01-13 | マイクロン・テクノロジー・インコーポレイテッド | ブロック消去機能を有する不揮発性メモリ |
-
2008
- 2008-08-06 JP JP2008203422A patent/JP2010040125A/ja active Pending
-
2009
- 2009-07-27 KR KR1020090068260A patent/KR20100018457A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08129893A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Nec Corp | 消去可能な不揮発性半導体記憶装置 |
JP2000331485A (ja) * | 1999-05-17 | 2000-11-30 | Nec Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びその消去方法 |
JP2002150785A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2005501368A (ja) * | 2001-08-24 | 2005-01-13 | マイクロン・テクノロジー・インコーポレイテッド | ブロック消去機能を有する不揮発性メモリ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111951861A (zh) * | 2019-05-14 | 2020-11-17 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种控制擦除性能的方法和装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100018457A (ko) | 2010-02-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9589660B1 (en) | Semiconductor pillars charged in read operation | |
JP5259666B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US9070460B2 (en) | Non-volatile semiconductor memory | |
US9070474B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US9324406B2 (en) | Semiconductor memory device | |
US20140063965A1 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
KR100960352B1 (ko) | 선 소거 단계를 이용하여 플래시 메모리를 소거하는 방법 | |
JP4593159B2 (ja) | 半導体装置 | |
US10720208B2 (en) | Semiconductor memory device | |
KR20120121170A (ko) | 반도체 장치 및 이의 동작 방법 | |
JP2012160237A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
KR20100034614A (ko) | 낸드 플래시 메모리소자의 프로그램 방법 | |
JP2010040125A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置の消去方法 | |
JP2009104729A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
JP2011198437A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
JP2009134848A (ja) | 揮発性メモリ素子の消去方法 | |
JP2010134992A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置とその書き込み方法 | |
US7768833B2 (en) | Method of programming non-volatile memory device | |
US9208896B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US8264891B2 (en) | Erase method and non-volatile semiconductor memory | |
JP2011134416A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
JP5787921B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US10176874B2 (en) | Storage device and method of controlling the storage device | |
JP2010033682A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
JP6226809B2 (ja) | 半導体記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130312 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130612 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131217 |