JP2010034585A - チップ実装装置における平行度調整方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 平行度の調整において、非接触型の検出手段を用いることにより接触型検出手段による場合の不都合を生じさせることなく、かつ、従来法に比べ測定、調整精度を大幅に向上し得るチップ実装装置における平行度調整方法を提供すること。
【解決手段】 チップ又はヘッドと、基板又は基板保持ステージとに、それぞれ、互いに対応する少なくとも3点の認識マークを付し、オートフォーカス機能付き2視野の認識手段を挿入し、該2視野の認識手段のオートフォーカス機能により、チップ又はヘッドに付された各認識マークまでの距離および前記基板又は基板保持ステージに付された各認識マークまでの距離を測定し、対応する認識マークまでの各測定距離から、チップ又はヘッドと基板又は基板保持ステージとの間の平行度を算出するとともに、算出された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、チップ実装装置における平行度調整方法に関し、とくに、チップを基板に実装するに際し、チップと基板間の平行度を、とくに基板に対するチップ実装位置毎に、あるいは、交換されたヘッド毎に、精度良く調整できるようにした方法に関する。
回路基板や液晶基板にチップをボンディングするチップ実装装置は既に広く実施されているが、チップ実装の際、たとえばミクロン単位の精度が要求され、かつ、その精度に対する要求は益々高くなりつつある。そのため、ヘッドと基板保持ステージ、ひいては、ヘッドに保持されるチップと基板保持ステージに保持される基板との間の平行度は、極めて高精度に調整されなければならない。
従来、手作業により、ヘッドと基板保持ステージとの間に感圧紙を圧接して平行度の測定または確認を行っていたが、労力を要するとともに測定、調整にばらつきが生じるため、また、感圧紙(登録商標)による加圧範囲に制限があるため、調整精度に限界があるとともに調整に時間を要するという問題があった。
このような問題に対し、先に本出願人により、基板保持ステージに対するヘッドの平行度を、圧力量に対応した電流の変化を検出し得る平面センサーを用いて測定し、平行度の調整を自動化できるようにした方法が提案されている(特開平10−321674号公報)。
特開平10−321674号公報
しかしながら、上記方法により、平行度の調整を自動化できるようになったものの、現状、さらに高精度の調整が要求されつつある。また、上記方法では、平行度測定のための平面センサーが、基板保持ステージとヘッドに接触し両者間に挟まれるため、その挟圧による平行度の狂いの発生、挟圧時に各部に傷つきなどが発生するおそれがある。また、従来の方法では、感圧紙や平面センサーをヘッドと基板間に手挿入するため、生産中に平行度を自動測定することはできなかった。そのため、測定により、生産性を低下させることとなっていた。
また、上記方法においては、あるいはその他の従来法においても、平行度の調整は、ヘッドあるいはそれに保持されるチップと、基板保持ステージあるいはそれに保持される基板との間の、それぞれ単体同士の平行度を測定するのみであった。そのため、ある基板に対し、マルチポジションにて複数のチップを打つ場合、それぞれのチップを打つ位置における各平行度までは注目されていなかった。実際には、各位置毎に微妙に平行度が変化するので、それに応じた調整ができれば、実際に接合されるときのチップと基板との間の平行度は大幅に高精度化されることになるが、従来法はこのような調整には対応されていなかった。
また、条件に応じてヘッドを自動交換あるいは変更する場合にも次のような問題がある。すなわち、ヘッドが交換されれば、基板保持ステージとの間の平行度も変化することになるので、これに対応するためには、従来法では交換毎に平行度の測定、調整が必要になるが、測定、調整は通常ある期間毎に定期的にあるいはある期間をおいて不定期に行われているので、上記のような頻繁な測定、調整を自動で行うのは現実的には不可能であった。
そこで本発明の課題は、平行度の調整において、非接触型の検出手段を用いることにより接触型検出手段による場合の不都合を生じさせることなく、かつ、従来法に比べ測定、調整精度を大幅に向上し得るチップ実装装置における平行度調整方法を提供することにある。
上記の課題を解決するために、本発明に係るチップ実装装置における平行度調整方法は、ヘッドに保持されているチップを、前記ヘッドの下方に配されている基板保持ステージに保持されている基板に、ヘッドを下降させることにより接合するチップ実装装置における、前記チップと前記基板との平行度を調整する方法であって、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとに、それぞれ、互いに対応する少なくとも3点の認識マークを付し、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとの間に、オートフォーカス機能付き2視野の認識手段を挿入し、該2視野の認識手段のオートフォーカス機能により、前記チップ又はヘッドに付された各認識マークまでの距離および前記基板又は基板保持ステージに付された各認識マークまでの距離を測定し、対応する認識マークまでの各測定距離から、チップ又はヘッドと基板又は基板保持ステージとの間の平行度を算出するとともに、算出された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正することを特徴とする方法からなる。つまり、2視野の認識手段を用いて非接触にて平行度を測定、算出し、その際に2視野の認識手段のオートフォーカス機能により極めて高精度の検出が可能になる。
また、本発明においては、1視野の認識手段を用いることもできる。すなわち、本発明に係るチップ実装装置における平行度調整方法は、ヘッドに保持されているチップを、前記ヘッドの下方に配されている基板保持ステージに保持されている基板に、ヘッドを下降させることにより接合するチップ実装装置における、前記チップと前記基板との平行度を調整する方法であって、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとに、それぞれ、互いに対応する少なくとも3点の認識マークを付し、前記チップ又はヘッドと、前記基板保持ステージの基板保持面の下方に、オートフォーカス機能付き1視野の認識手段を挿入し、該1視野の認識手段のオートフォーカス機能により、前記基板又は基板保持ステージに付された各認識マークまでの距離および前記チップ又はヘッドに付された各認識マークまでの距離を測定し、対応する認識マークまでの各測定距離から、基板又は基板保持ステージとチップ又はヘッドとの間の平行度を算出するとともに、算出された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正することを特徴とする方法からなる。つまり、1視野の認識手段を用いて非接触にて、基板保持ステージの基板保持面の下方から、前記基板又は基板保持ステージに付された各認識マークまでの距離とともに、前記チップ又はヘッドに付された各認識マークまでの距離も測定して平行度を測定、算出し、その際に1視野の認識手段のオートフォーカス機能により極めて高精度の検出が可能になる。
上記のような2視野または1視野の認識手段を用いた方法において、検出の精度をさらに高めるためには、認識マークとして、通常の位置決め用のマークに比べて高精度検出が可能な認識マークを付すことが好ましく、たとえば前記認識手段による検出エッジ長が、単一図形マークの場合に比べて増大されているマークを付すことが好ましい。このような認識マークとして、たとえば格子状のマークやストライプ状のマーク、あるいは、多数の孔をあけてマークを形成したものを用いることができる。なお、本発明において、1視野または2視野の認識手段は、例えばCCDカメラ、赤外カメラ、X線カメラおよびセンサーなど認識マークを認識する全ての手段を含む。
さらに、本発明に係るチップ実装装置における平行度調整方法は、上述の方法と前述の方法を組み合わせたものからなり、上述の認識マーク、オートフォーカス機能付き認識手段を用いた方法において、(1)上記演算された平行度の算出および平行度補正量の演算を、水平方向における、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとの間の複数の対応位置毎に行い、各対応位置毎に、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正する方法、あるいは、(2)チップ実装装置がヘッドの自動交換機能を有しており、前記平行度の算出と平行度補正量の演算を交換されるヘッド毎に行い、各ヘッド毎に、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正する方法からなる。これら(1)、(2)の方法においては、上記演算された平行度補正量を記憶し、後続の基板へのチップ実装工程においては、前記平行度の算出を行うことなく、前記記憶された平行度補正量に基づいて、前記各対応位置毎に平行度の補正を行う、あるいは各ヘッド毎に平行度の補正を行うことができる。
これらの方法においても、上記平行度補正量に基づいて、基板保持ステージおよびヘッドの少なくとも一方を、水平方向における互いに直交する二軸周りに回動制御することにより平行度の補正を行うことができ、後述の実施態様に示す如く、ヘッド側を、たとえばα、βの二軸周り方向に回動させ、それによって平行度を自動で微調整することができる。
オートフォーカス機能付きの認識手段を用い、その情報から平行度補正量を演算するようにすれば、接触型検出手段による場合の不都合を生じさせることなく、従来法に比べ測定、調整精度を大幅に向上することが可能になる。
本発明の一実施態様に係るチップ実装装置の斜視図である。 図1の装置のヘッド側の下方からみた斜視図である。 図1の装置のヘッド部の横断面図である。 図1の装置のヘッド部の平行度調整機構を示す斜視図である。 マルチポジション対応基板の一例を示す斜視図である。 図1の装置における基板側の認識マーク検出の様子を示す概略斜視図である。 図1の装置におけるチップ側の認識マーク検出の様子を示す概略斜視図である。 チップと基板との認識マーク間距離(平行度)を示す概略斜視図である。 オートフォーカス機能付き2視野の認識手段による検出の様子を示す概略側面図である。 オートフォーカス機能付き2視野の認識手段における認識マーク認識の様子を示す特性図である。 格子状認識マークの一例を示す平面図である。 ストライプ状認識マークの一例を示す平面図である。 オートフォーカス機能付き1視野の認識手段を設ける場合の一例を示す概略部分斜視図である。 オートフォーカス機能付き1視野の認識手段による測定時の様子を示す概略斜視図である。 オートフォーカス機能付き1視野の認識手段による基板側の検出の様子を示す概略斜視図である。 オートフォーカス機能付き1視野の認識手段によるチップ側の検出の様子を示す概略斜視図である。 オートフォーカス機能付き1視野の認識手段による平行度調整の一例を示す概略斜視図である。
以下に、本発明の望ましい実施の形態を図面を参照して説明する。
図1ないし図4は、本発明の一実施態様に係る平行度調整方法を実施するためのチップ実装装置を示している。図1および図2において、チップ実装装置1は、チップ2を吸着等により保持するヘッド3と、回路基板や液晶基板等からなる基板4を保持する基板保持ステージ5を有している。ヘッド3は、ブロック6と、その下端に設けられたツール7と、ブロック6を支持し、装置フレームに対し上下方向(Z方向)に昇降される昇降テーブル8とを備えており、下降されることにより、チップ2を基板保持ステージ5上の基板4上に実装する。ツール7には、チップ2を基板4に接合する際に加熱できるよう、セラミックヒータ等の加熱ヒータ(図示略)を埋設しておくことができる。ただし、ツールとしては、ヒータを備えている形態であってもなくてもよい。このヘッド3、とくにそのブロック6下端に設けられたツール7の下面あるいはそこに保持されたチップ2の下面は、たとえば後述のような機構により、二軸周り方向に、たとえば図1に示すように、互いに直交する二軸周り方向(α、β方向)に回動できるようになっており、それによって平行度を調整できるようになっている。
基板保持ステージ5は、本実施態様では、水平面内で回動制御され、回動方向の角度θを制御する回転テーブル9上に設置されており、回転テーブル9は、水平面内でY方向に位置制御されるテーブル10およびX方向に位置制御されるテーブル11からなる平行移動制御機構12上に設置されている。回転テーブル9と平行移動制御機構12により、基板保持ステージ5の水平位置および回転位置がX、Y、θ方向に制御される。これら平行度調整のための制御は、数値制御化されており、指令された目標とする数値に対応する位置や角度になるように、自動制御される。目標とする数値は、後述の平行度測定機能により測定された平行度に対し、望ましい補正が加えられた値として演算される。
ヘッド3と基板保持ステージ5との間には、本実施態様では、上下2方向に視野を有する2視野の認識手段13が、出没可能に設けられている。この2視野の認識手段13は、いわゆるオートフォーカス機能付きの2視野の認識手段からなる。オートフォーカス機能付き2視野の認識手段13は、X、Y、Z方向に位置制御可能に設けられており、ヘッド3又はチップ2に付された少なくとも3点(本実施態様では4点)の認識マーク14と、基板保持ステージ5又は基板4に付された少なくとも3点(本実施態様では4点)の認識マーク15を、それぞれ検知する。本実施態様では、認識マーク14はチップ2に、認識マーク15は基板4に付されているが、ヘッド3や基板保持ステージ5に付すこともでき、さらには、平行度調整用の校正用チップや校正用基板(図示略)を用い、それらに付すこともできる。このオートフォーカス機能付き2視野の認識手段13により、後述の如く各認識マーク14、15までの基準位置に対する距離がオートフォーカス機能を用いて測定され、それに基づいて、ヘッド3又はチップ2と基板保持ステージ5又は基板4との間の平行度が測定される。測定された平行度に基づいて、それを目標精度範囲内に納めるための平行度補正量が演算され、演算された平行度補正量に基づいて平行度が補正される。なお、実装するチップ及び/または基板において、サイズが小さいために認識マークを付けることができない場合には、例えば校正板(ガラス、シリコン、セラミックなど周囲環境の影響を限りなく受けにくい材質からなるもの)に認識マークを設け、ダミーを使用して平行度を出す形態であってもよい。また、ヘッドに保持されたチップまたは校正板と基板保持ステージに保持された基板または校正板の組合せはどのような形態であってもよい。
上記図1は、平行度の調整において、非接触型の検出手段を用いることにより接触型検出手段による場合の不都合を生じさせることなく、かつ、従来法に比べ測定、調整精度を大幅に向上し得るチップ実装装置における平行度調整方法を提供すること、および、ヘッド自動交換の際のヘッド毎の高精度の平行度調整を達成するための図として示したので、基板4上に4点の認識マーク15のみ図示してあり、図2のチップ2上には、それらに対応する4点の認識マーク14のみ図示してある。マルチポジション対応の場合のチップと基板との各対応位置毎の高精度の平行度調整を達成するには、たとえば図5に示すように、基板21又は基板保持ステージ上に、各チップの接合位置毎に、4点ずつの認識マーク22を付しておくことができる。この場合、各チップと各認識マーク22との対応位置は、基板保持ステージ5側をX、Y、θ方向に平行移動および回転制御することによって制御でき、各対応位置における平行度の補正は、ヘッド3側を前記α、β方向に調整することによって行うことができる。ただし、ヘッド3側による平行移動および回転制御も可能であり、基板保持ステージ5側による平行度補正も可能である。
本実施態様では、ヘッド3側においてα、β方向の調整が行われ、平行度が補正される。この平行度補正のための機械的なα、β方向調整機構は、本実施態様では図3、図4に示すように構成されている。図3は、図1におけるヘッド3部分の横断面図、図4は、斜視図を示している。
ブロック6は、本実施態様では外ハウジング31と内ハウジング32との二重ハウジング構造を有している。装置フレーム33にZ方向に位置制御可能に支持された昇降テーブル8に、ヘッドブラケット34が固着されており、このヘッドブラケット34に、軸35、36が回動可能に支持されている。軸35、36の内端は外ハウジング31に固着されているので、外ハウジング31は、ヘッドブラケット34に対して、軸35、36を介して回動(揺動)可能に支持されている。内ハウジング32は、外ハウジング31に対し回転自在に支持された軸37、38を介して回動(揺動)可能に支持されている。軸37、38の内端は内ハウジング32に固着されているので、内ハウジング32は、軸37、38を介して回動(揺動)可能に支持されている。軸35、36と軸37、38は、水平面内において、互いに直交する方向に延びている。この内ハウジング32内に、下方に突出するように、ツール7を備えた加圧機構7aが固定されている。なお、内ハウジング32と加圧機構7aとの間には、図示は省略するが、適当な加圧手段や、過加圧時の上方への逃げ機構を介在させることもできる。
軸35の外端には、揺動アーム39が固着されており、軸37の外端には、揺動アーム40が固着されている。揺動アーム39の上方には、ヘッドブラケット34に固着された固定アーム41が設けられており、揺動アーム40の上方には、ヘッドブラケット34に固着された固定アーム42が設けられている。固定アーム41と固定アーム42には、それぞれ、アクチュエータ43、44が装着されており、アクチュエータ43、44のロッド45、46は、固定アーム41、42に固着された筒ケーシング47、48内に嵌挿されている。ロッド45、46の先端は、固定アーム41と揺動アーム39間を連結しているコイルバネ49、固定アーム42と揺動アーム40間を連結しているコイルバネ50の引張力に抗して、各揺動アーム39、40を下方に押圧、揺動できるようになっている。この揺動アーム39、40の揺動量を調整することにより、ヘッド3側においてα、β方向の調整が行われ、平行度が補正されるようになっている。ただし、このα、β方向の調整機構は上記機構に限定されるものではなく、二軸周りの回動動作により平行度の調整ができるものであれば、いかなる機構であってもよい。たとえば、上記のような揺動動作による平行度調整に限定されず、また、アクチュエータについても、サーボモータを使用したものや減速機を介在させたもの等いかなるものであってもよい。
前記オートフォーカス機能付き2視野の認識手段13は、図6に示すように、一方の視野で、基板4の各認識マーク15([1]、[2]、[3]、[4])に対応する位置に制御されて、上下方向基準位置に対する各認識マーク15([1]、[2]、[3]、[4])までの距離A、B、C、Dを検出する。同時に、他方の視野で、図7に示すように、チップ2の対応する各認識マーク14([5]、[6]、[7]、[8])までの上下方向基準位置に対する距離E、F、G、Hを検出する。検出した距離に基づいて、チップ2と基板4との間の平行度を算出することができる。
平行度の算出は、たとえば、上記各検出距離A、B、C、DおよびE、F、G、Hと、認識マーク、間および認識マーク、間の寸法L1(α方向)と、認識マーク、間および認識マーク、間の寸法L2(β方向)とを用い、α方向平行度を角度α、β方向平行度を角度βを次式のように算出できる。基板4側のα方向平行度については、
α=tan-1[((A+D)/2-(B+C)/2)/L1]
チップ2側のα方向平行度については、
α=tan-1[((E+H)/2-(F+G)/2)/L1]
として算出でき、基板4側のβ方向平行度については、
β=tan-1[((A+B)/2-(C+D)/2)/L2]
チップ2側のα方向平行度については、
β=tan-1[((E+F)/2-(G+H)/2)/L2]
として算出できる。
また、先に各検出距離A、B、C、DとE、F、G、Hとを加算し、図8に示すような、チップ2と基板4との対応する各認識マーク間距離I、J、K、Lを算出し、上記同様の計算式にて、チップ2と基板4との間の平行度を算出することができる。
上記各認識マークまでの距離を検出するに際しては、2視野の認識手段13のオートフォーカス機能が利用される。たとえば図9に示すように、2視野の認識手段13を下降または上昇させていくと、2視野の認識手段13の焦点位置51と基板4(又はチップ2)との位置関係が変化する。このとき、カメラ13が認識する認識マークのヒストグラムは、合焦点位置では、図10(A)に示すように、白と黒とが明確にピーク状に認識されたパターンとなり、焦点がずれた位置では、図10(B)に示すように、グレー領域が合焦点位置と比較すると広くなる。2視野の認識手段13の下降または上昇に伴って複数点あるいは連続的に観測すれば、合焦点位置を検出することができ、この合焦点位置から、基準位置(基準高さ)に対する前記各認識マークまでの距離を検出することができる。検出した値は記憶され、前述の平行度の算出に供せられる。
上記認識マークを2視野の認識手段13で認識するに際しては、各認識マークの形状や形態を工夫することによって、より高精度の検出が可能になる。たとえば、図11に示すように、格子状の認識マーク52を使用すれば、白部分53に対する黒部分54の長さ(エッジ長)が増大するので、検出精度の向上が可能になる。また、図示は省略するが、たとえば、一群の多数の孔によって認識マークを形成することによっても検出精度の向上が可能になる。いずれの場合にも、単一マーク(たとえば、単なる円形マーク)の場合に比べ、検出のためのエッジ長が増大されることにより検出精度が向上する。なお、認識マークは格子状だけでなく、図12に示すようにストライプ状の認識マーク55などでもよく、いずれの場合にも、黒と白の間隔が限りなく狭い方が好ましい。
上記のように算出された平行度に基づいて、該平行度を、あらかじめ定められた目標精度範囲内に納めるための平行度補正量が演算される。演算は、2視野の認識手段13からの検出情報に基づいて、コンピュータによって行えばよい。演算された平行度補正量に基づいて、実際に平行度が補正される。この補正は、前述のα、β方向の補正機構によればよい。
上記実施態様では、オートフォーカス機能付き2視野の認識手段13による検出情報に基づいて平行度の補正が行われるので、極めて高精度の調整が可能になる。また、たとえばヘッドの自動交換機能を有するチップ実装装置においては、各ヘッド毎の平行度補正量を演算し、この演算された平行度補正量を記憶しておくことにより、後続の基板へのチップ実装工程においては、ヘッドを自動交換毎に再度平行度の測定を行うことなく、記憶された平行度補正量に基づいて、各ヘッド毎に平行度の補正を行うことが可能になる。
また、基板4に対し複数の位置に複数のチップ2を打って行く場合にも、つまり、マルチポジションに対応させる場合にも、各チップ2と基板4の各位置との対応位置毎に前記平行度補正量を演算すれば、各対応位置毎に高精度の平行度調整を行うことができる。そしてこの場合にも、各対応位置毎の平行度補正量を記憶しておくことにより、後続の基板へのチップ実装工程においては、再度平行度の測定を行うことなく、記憶された平行度補正量に基づいて、各対応位置毎に高精度の平行度の補正を行うことができる。最初に平行度の補正量を決めるに際しては、前述したように、予め準備した校正用のチップや基板を用いることもでき、それによって求められた平行度補正量を記憶しておき、しかる後に、実際のチップと基板との接合工程を開始するようにすることもできる。
さらに、本発明における、チップと基板との各対応位置毎に、測定された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正するという技術思想、および、ヘッドの自動交換機能を有する場合にあって、測定された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて、各ヘッド毎に平行度を補正するという技術思想は、上記実施態様のようなオートフォーカス機能付き2視野の認識手段13を用いない場合にも成立するものである。つまり、平行度の測定手法やその補正機構がいかなるものである場合にも、マルチポジションにおける各実装位置毎に平行度補正量を把握、あるいは交換されるヘッド毎に平行度補正量を把握するという技術思想は、本発明の顕著な特徴を表すものである。また、演算された平行度補正量を記憶しておき、記憶された平行度補正量に基づいて後続の基板へのチップ実装工程において平行度を調整するという技術思想も、本発明の顕著な特徴を表すものである。
また、前記実施態様では、オートフォーカスセンシング機能を使用し、カメラZ軸およびツールZ軸を動かし、フォーカスの一番合った位置からカメラZ軸およびツールZ軸のエンコーダ又はリニアスケールの数値に基づきツールとステージ側の間隔を測定するわけであるが、オートフォーカスセンシング機能に代えて、うず電流、静電容量センサ等の測長器も使用可能である。
上記実施態様では、認識マークの認識手段として2視野の認識手段を用いたが、本発明では1視野の認識手段を用いることも可能である。たとえば図13に示すように、基板保持ステージ61の基板62を保持する基板保持面63の下方に1視野の認識手段64を進退可能に配置し、その1視野の認識手段64のオートフォーカス機能により、基板62または前述のような校正用基板(以下、単に「校正板」と言うこともある。)に付した各認識マーク65までの距離を測定する。1視野の認識手段64は、たとえば、可動テーブル66の回転テーブル67上に移動可能に設けられる。図14は、1視野の認識手段64が基板62の下方に挿入された状態を示している。
上記のような1視野の認識手段64を用いて、図15に示すように、基板62または校正板の各認識マーク65a〜65dが、各対応位置64a〜64dに移動された1視野の認識手段64によって認識され、そのオートフォーカス機能により、各認識マーク65a〜65dまでの距離M、N、O、Pが測定される。また、図16に示すように、同様に、チップ68または校正板の各認識マーク69a〜69dが、各対応位置64e〜64hに移動された1視野の認識手段64によって認識され、そのオートフォーカス機能により、各認識マーク69a〜69dまでの距離Q、R、S、Tが測定される。チップ68または校正板の各認識マーク69a〜69dの認識は、基板62が空の状態のとき、あるいは、基板用校正板が透明ガラスからなる場合にはそれを透過して認識すればよい。このようにすれば、1視野の認識手段64でありながら、基板側とチップ側の両方の認識マークを認識できる。基板側の各認識マーク65a〜65dまでの距離M、N、O、Pと、チップ側の各認識マーク69a〜69dまでの距離Q、R、S、Tから、前述の実施態様と同様の手法により平行度が演算され、その平行度測定に基づいて平行度の調整を行うことができる。
このような1視野の認識手段を用いた平行度の調整は、たとえば図17に示すように実施できる。図17に示す例では、バックアップガラス部材71上に配置された液晶ディスプレイ72の端部にチップ73を実装する場合を示しており、下方に配されたオートフォーカスレンズ74付きの1視野の認識手段75(たとえば、CCDカメラ)により、バックアップガラス部材71を通して液晶ディスプレイ72の端部に付された認識マーク76a〜76dまでの距離を測定するとともに、チップ73に付された認識マーク77a〜77dまでの距離を測定し、両者間の平行度を演算して、平行度が所望の範囲内に入るように調整される。
1 チップ実装装置
2 チップ
3 ヘッド
4 基板
5 基板保持ステージ
6 ブロック
7 ツール
7a 加圧機構
8 昇降テーブル
9 回転テーブル
10 Y方向に位置制御されるテーブル
11 X方向に位置制御されるテーブル
12 平行移動制御機構
13 オートフォーカス機能付き2視野の認識手段
14 チップ側認識マーク
15 基板側認識マーク
21 マルチポジション対応基板
22 各認識マーク
31 外ハウジング
32 内ハウジング
33 装置フレーム
34 ヘッドブラケット
35、36、37、38 軸
39、40 揺動アーム
41、42 固定アーム
43、44 アクチュエータ
45、46 ロッド
47、48 筒ケーシング
49、50 コイルバネ
51 2視野の認識手段の焦点位置
52 格子状の認識マーク
53 白部分
54 黒部分
55 ストライプ状の認識マーク
61 基板保持ステージ
62 基板
63 基板保持面
64 1視野の認識手段
64a、64b、64c、64d、64e、64f、64g、64h 1視野の認識手段の位置
65、65a、65b、65c、65d 基板側の認識マーク
66 可動テーブル
67 回転テーブル
68 チップ
69a、69b、69c、69d チップ側の認識マーク
71 バックアップガラス部材
72 液晶ディスプレイ
73 チップ
74 レンズ
75 1視野の認識手段
76a、76b、76c、76d 液晶ディスプレイ側の認識マーク
77a、77b、77c、77d チップ側の認識マーク

Claims (9)

  1. ヘッドに保持されているチップを、前記ヘッドの下方に配されている基板保持ステージに保持されている基板に、ヘッドを下降させることにより接合するチップ実装装置における、前記チップと前記基板との平行度を調整する方法であって、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとに、それぞれ、互いに対応する少なくとも3点の認識マークを付し、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとの間に、オートフォーカス機能付き2視野の認識手段を挿入し、該2視野の認識手段のオートフォーカス機能により、前記チップ又はヘッドに付された各認識マークまでの距離および前記基板又は基板保持ステージに付された各認識マークまでの距離を測定し、対応する認識マークまでの各測定距離から、チップ又はヘッドと基板又は基板保持ステージとの間の平行度を算出するとともに、算出された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正することを特徴とする、チップ実装装置における平行度調整方法。
  2. ヘッドに保持されているチップを、前記ヘッドの下方に配されている基板保持ステージに保持されている基板に、ヘッドを下降させることにより接合するチップ実装装置における、前記チップと前記基板との平行度を調整する方法であって、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとに、それぞれ、互いに対応する少なくとも3点の認識マークを付し、前記チップ又はヘッドと、前記基板保持ステージの基板保持面の下方に、オートフォーカス機能付き1視野の認識手段を挿入し、該1視野の認識手段のオートフォーカス機能により、前記基板又は基板保持ステージに付された各認識マークまでの距離および前記チップ又はヘッドに付された各認識マークまでの距離を測定し、対応する認識マークまでの各測定距離から、基板又は基板保持ステージとチップ又はヘッドとの間の平行度を算出するとともに、算出された平行度を目標精度範囲内に納めるための平行度補正量を演算し、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正することを特徴とする、チップ実装装置における平行度調整方法。
  3. 前記演算された平行度の算出および平行度補正量の演算を、水平方向における、前記チップ又はヘッドと、前記基板又は基板保持ステージとの間の複数の対応位置毎に行い、各対応位置毎に、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正する、請求項1または2のチップ実装装置における平行度調整方法。
  4. 前記演算された平行度補正量を記憶し、後続の基板へのチップ実装工程においては、前記平行度の算出を行うことなく、前記記憶された平行度補正量に基づいて、前記各対応位置毎に平行度の補正を行う、請求項3のチップ実装装置における平行度調整方法。
  5. チップ実装装置がヘッドの自動交換機能を有しており、前記平行度の算出と平行度補正量の演算を交換されるヘッド毎に行い、各ヘッド毎に、演算された平行度補正量に基づいて平行度を補正する、請求項1または2のチップ実装装置における平行度調整方法。
  6. 前記演算された平行度補正量を記憶し、後続の基板へのチップ実装工程においては、前記平行度の算出を行うことなく、前記記憶された平行度補正量に基づいて、各ヘッド毎に平行度の補正を行う、請求項5のチップ実装装置における平行度調整方法。
  7. 前記平行度補正量に基づいて、前記基板保持ステージおよびヘッドの少なくとも一方を、水平方向における二軸周りに回動制御することにより平行度の補正を行う、請求項1〜6のいずれかに記載のチップ実装装置における平行度調整方法。
  8. 前記認識手段により検出される認識マークとして、位置決め用のマークに比べて高精度検出が可能な認識マークを付す、請求項1〜7のいずれかに記載のチップ実装装置における平行度調整方法。
  9. 前記認識マークとして、前記認識手段による検出エッジ長が、単一図形マークの場合に比べて増大されているマークを付す、請求項8のチップ実装装置における平行度調整方法。
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