JP2006202920A - 加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
本発明の加工装置(1)は,被加工材搭載基盤(2)と,被加工材の位置調整機構部(3)と,付加的素子搭載基盤(4)と,付加的素子の位置調整機構部(5)と,傾斜制御機構部(6,7)と,マーキング位置感知機構部(8)と,接触感知機構部(9)と,位置決め機構部(10)と,観測機構部(11)と,光導入機構部(12)と,位置調整機構部(13)と,光源(14a,14b,14c)と制御部(15)とを具備する加工装置に関し,所定の測定系(8,9,10)によって,付加的素子と被加工材との位置関係を制御し,さらには光により二次加工を可能とすることにより上記の課題を解決する。
【選択図】 図1
Description
所定箇所にマーキング箇所を有し,前記被加工材を搭載するための被加工材搭載基盤と,
前記被加工材搭載基盤の位置を変化させることにより前記被加工材の位置を調整するための被加工材の位置調整機構部と,
前記付加的素子を搭載するための付加的素子搭載基盤と,
前記付加的素子搭載基盤の位置を変化させることにより付加的素子の位置、及び前記付加的素子と前記被加工材との圧力を調整するための付加的素子の位置調整機構部と,
前記被加工材搭載基盤の傾斜を制御するための第1の傾斜制御機構部と,
前記付加的素子搭載基盤の傾斜を制御するための第2の傾斜制御機構部と,
前記被加工材搭載基盤上のマーキング箇所の位置を感知するためのマーキング位置感知機構部と,
前記被加工材搭載基盤上に搭載された被加工材と,前記付加的素子搭載基盤に搭載された付加的素子とが接触しているかどうかを感知するための接触感知機構部と,
前記被加工材搭載基盤上に搭載された被加工材と,前記付加的素子搭載基盤に搭載された付加的素子との空間的位置を計測するための位置決め機構部と,
前記位置決め機構部によって計測された前記被加工材と前記付加的素子との空間的位置を観測するための観測機構部と,
前記被加工材の位置調整機構部,前記付加的素子の位置調整機構部,前記第1の傾斜制御機構部,前記第2の傾斜制御機構部,前記マーキング位置感知機構部,前記接触感知機構部,前記位置決め機構部,及び前記観測機構部のうちいずれかひとつ以上の動作を制御するための制御部と,
を具備する加工装置である。
前記被加工材基盤,又は前記被加工材に光を導入するための光導入機構部と,
前記光導入機構部の位置を調整するための光導入機構部の位置調整機構部と,
前記光導入機構部に導入される光を発生する光源と,
前記被加工材の位置調整機構部,前記付加的素子の位置調整機構部,前記第1の傾斜制御機構部,前記第2の傾斜制御機構部,前記マーキング位置感知機構部,前記接触感知機構部,前記位置決め機構部,前記観測機構部,前記光導入機構部,前記光導入機構部の位置調整機構部及び前記光源のうちいずれかひとつ以上の動作を制御するための制御部と,
を具備する上記の加工装置である。
前記マーキング箇所が,前記被加工材又は前記付加的素子とは光学的反射率の異なる箇所であり,
前記マーキング位置感知機構部は,前記被加工材搭載基盤に前記光導入機構部から光を照射し,その反射像をCCDカメラ上に結像することによりフォーカス状態を認知し,これにより,前記被加工材搭載基盤と前記付加的素子搭載基盤の空間位置のずれを感知し, 前記空間位置のずれに関する情報を前記制御部へ伝え,
前記制御部は,前期空間位置のずれに関する情報に従って,前記第1の傾斜制御機構部,及び前記第2の傾斜制御機構部のいずれか1つ以上にフィードバックすることにより,
前記被加工材搭載基盤と前記付加的素子搭載基盤の空間位置を平行となるように制御する,上記の加工装置である。
2 被加工材搭載基盤
3 位置調整機構部
4 付加的素子搭載基盤
5 付加的素子の位置調整機構部
6 第1の傾斜制御機構部
7 第2の傾斜制御機構部
8 マーキング位置感知機構部
9 接触感知機構部
10 位置決め機構部
11 観測機構部
12 光導入機構部
13 光導入機構部の位置調整機構部
14 光源
14a 可視光源
14b 紫外線光源
14c フェムト秒レーザ
15 制御部
21 ミラーなどの光学系
22 光路の例
23 光ファイバ
23a 可視光用の光ファイバ
23b 紫外線用の光ファイバ
24 ステージコントローラ
25 土台
31 真空引き口
32 マーキング
33 マーキング
34 付加的素子
36 吸引口
40 CCDカメラ
Claims (8)
- 付加的素子を前記被加工材に押し付け,圧力を印加することにより被加工材を加工するための加工装置であって,
所定箇所にマーキング箇所を有し,前記被加工材を搭載するための被加工材搭載基盤と,
前記被加工材搭載基盤の位置を変化させることにより前記被加工材の位置を調整するための被加工材の位置調整機構部と,
前記付加的素子を搭載するための付加的素子搭載基盤と,
前記付加的素子搭載基盤の位置を変化させることにより付加的素子の位置、及び前記付加的素子と前記被加工材との圧力を調整するための付加的素子の位置調整機構部と,
前記被加工材搭載基盤の傾斜を制御するための第1の傾斜制御機構部と,
前記付加的素子搭載基盤の傾斜を制御するための第2の傾斜制御機構部と,
前記被加工材搭載基盤上のマーキング箇所の位置を感知するためのマーキング位置感知機構部と,
前記被加工材搭載基盤上に搭載された被加工材と,前記付加的素子搭載基盤に搭載された付加的素子とが接触しているかどうかを感知するための接触感知機構部と,
前記被加工材搭載基盤上に搭載された被加工材と,前記付加的素子搭載基盤に搭載された付加的素子との空間的位置を計測するための位置決め機構部と,
前記位置決め機構部によって計測された前記被加工材と前記付加的素子との空間的位置を観測するための観測機構部と,
前記被加工材の位置調整機構部,前記付加的素子の位置調整機構部,前記第1の傾斜制御機構部,前記第2の傾斜制御機構部,前記マーキング位置感知機構部,前記接触感知機構部,前記位置決め機構部,及び前記観測機構部のうちいずれかひとつ以上の動作を制御するための制御部と,
を具備する加工装置。 - 付加的素子を前記被加工材に押し付け,圧力を印加することにより被加工材を1次加工し,圧力の印加中,又はその後にレーザにより2次加工するための加工装置であって,
前記被加工材基盤,又は前記被加工材に光を導入するための光導入機構部と,
前記光導入機構部の位置を調整するための光導入機構部の位置調整機構部と,
前記光導入機構部に導入される光を発生する光源と,
前記被加工材の位置調整機構部,前記付加的素子の位置調整機構部,前記第1の傾斜制御機構部,前記第2の傾斜制御機構部,前記マーキング位置感知機構部,前記接触感知機構部,前記位置決め機構部,前記観測機構部,前記光導入機構部,前記光導入機構部の位置調整機構部及び前記光源のうちいずれかひとつ以上の動作を制御するための制御部と,
を具備する請求項1に記載の加工装置。 - 前記マーキング箇所は,前記被加工材又は前記付加的素子の少なくとも3箇所に設けられ,
前記マーキング箇所が,前記被加工材又は前記付加的素子とは光学的反射率の異なる箇所であり,
前記マーキング位置感知機構部は,前記被加工材,又は前記付加的素子に前記光導入機構部から光を照射し,その反射像をCCDカメラ上に結像することによりフォーカス状態を認知し,これにより,前記被加工材搭載基盤又は前記被加工材と,前記付加的素子搭載基盤又は前記付加的素子の空間位置のずれを感知し,前記空間位置のずれに関する情報を前記制御部へ伝え,
前記制御部は,前期空間位置のずれに関する情報に従って,前記第1の傾斜制御機構部,及び前記第2の傾斜制御機構部のいずれか1つ以上にフィードバックすることにより,
前記被加工材搭載基盤又は前記被加工材と前記付加的素子搭載基盤又は前記付加的素子の空間位置を平行となるように制御する,請求項2に記載の加工装置。 - 前記付加的素子,前記被加工材のいずれか又は両方は,光透過性を有する材料により構成される,請求項2に記載の加工装置。
- 前記被加工材の位置調整機構部は,エアーベアリングにより被加工材搭載基盤の水平位置を調整するものである,請求項2に記載の加工装置。
- 前記付加的素子の位置調整機構部は,クロスローラーベアリングにより付加的素子搭載基盤の垂直位置を調整するものである,請求項2に記載の加工装置。
- 前記光源は,前記被加工材の加工に用いられるフェムト秒レーザを放射できるフェムト秒レーザ装置を含む,請求項2に記載の加工装置。
- 光硬化性樹脂を含む被加工材を加工するために用いられる,請求項2に記載の加工装置。
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---|---|---|---|
JP2005012054A JP2006202920A (ja) | 2005-01-19 | 2005-01-19 | 加工装置 |
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JP2005012054A JP2006202920A (ja) | 2005-01-19 | 2005-01-19 | 加工装置 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009208316A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置および転写方法 |
CN103658974A (zh) * | 2012-09-21 | 2014-03-26 | 昆山思拓机器有限公司 | 一种用于双面ito激光刻蚀设备的手动升降机构 |
JP2020511795A (ja) * | 2017-03-16 | 2020-04-16 | モレキュラー インプリンツ, インコーポレイテッドMolecular Imprints,Inc. | 光学ポリマーフィルムおよびそれを鋳造する方法 |
US11320591B2 (en) | 2018-10-16 | 2022-05-03 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
US11318692B2 (en) | 2017-10-17 | 2022-05-03 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000511704A (ja) * | 1997-03-10 | 2000-09-05 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 2個の物品ホルダを有する位置決め装置 |
US20040124566A1 (en) * | 2002-07-11 | 2004-07-01 | Sreenivasan Sidlgata V. | Step and repeat imprint lithography processes |
-
2005
- 2005-01-19 JP JP2005012054A patent/JP2006202920A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000511704A (ja) * | 1997-03-10 | 2000-09-05 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 2個の物品ホルダを有する位置決め装置 |
US20040124566A1 (en) * | 2002-07-11 | 2004-07-01 | Sreenivasan Sidlgata V. | Step and repeat imprint lithography processes |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009208316A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Toshiba Mach Co Ltd | 転写装置および転写方法 |
CN103658974A (zh) * | 2012-09-21 | 2014-03-26 | 昆山思拓机器有限公司 | 一种用于双面ito激光刻蚀设备的手动升降机构 |
JP2020511795A (ja) * | 2017-03-16 | 2020-04-16 | モレキュラー インプリンツ, インコーポレイテッドMolecular Imprints,Inc. | 光学ポリマーフィルムおよびそれを鋳造する方法 |
US11298856B2 (en) | 2017-03-16 | 2022-04-12 | Molecular Imprints, Inc. | Optical polymer films and methods for casting the same |
JP7149284B2 (ja) | 2017-03-16 | 2022-10-06 | モレキュラー インプリンツ, インコーポレイテッド | 光学ポリマーフィルムおよびそれを鋳造する方法 |
US11318692B2 (en) | 2017-10-17 | 2022-05-03 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
US11787138B2 (en) | 2017-10-17 | 2023-10-17 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
US11320591B2 (en) | 2018-10-16 | 2022-05-03 | Magic Leap, Inc. | Methods and apparatuses for casting polymer products |
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