JP2010029995A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】単繊維直径が5〜150μm、目開きが10〜150μmであるモノフィラメント織物と支持体とが積層されている研磨パッド。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の研磨パッドは、繊維径が5〜150μm、目開きが10〜150μmであるモノフィラメント織物と支持体とが積層されていることを特徴とするものであるが、これは以下の技術思想に基づいて設計されている。
研磨評価は、公知の研磨機、研磨スラリー、バッキング材、研磨物(半導体ウエーハ、ガラスなど)を用いて行うことができるが、その一例を次に示す。研磨機としてはラップマスターSFT株式会社製の片面研磨機である「“ラップマスターLM−15E”(登録商標)」を用い、研磨スラリーにはコロイダルシリカの水分散体である株式会社フジミインコーポレーテッド製“GLANZOX1302”(登録商標)を用いる。研磨物としては4インチのシリコンウエーハ(エッチドウエーハ)を用い、下記のような粗研磨の研磨条件で研磨を行う。なお、研磨する際にはセラミックス製プレートに市販のPUスエードをバッキング材としたテンプレートを貼り付けて、それにウエーハを保持する。
定盤回転数 : 50rpm
研磨圧力 : 255gf/cm2
研磨時間 : 15分
スラリー濃度 : 1%
スラリー供給量 : 30mL/分
ところで、本発明では白色干渉顕微鏡を用いて研磨物の平坦性・平滑性の評価を行うが、ここで対物レンズ倍率を高倍率から低倍率まで、すなわち高分解能から低分解能、また測定エリアも狭い領域から広い領域まで変化させて評価を行う。高倍率レンズを用いる高分解能測定では、短波長(高周波)の表面粗さである平滑性を評価し、低倍率レンズを用いる低分解能測定では、長波長(低周波)の表面粗さである平坦性を評価する。なお、低倍率レンズでは分解能が低くなるのみならず測定視野も大きくなるため長波長粗さを捉え易くなるのである。粗さ値としては主としてRaを用いて評価を行う。測定エリアでの山と谷の差の最大値であるPV値はウエーハ表面にゴミなどが付着していると異常値として出るため、明らかにゴミと思われる大きな値は無視して評価を行う。Ra、PVとも値が低いほど平坦性・平滑性に優れている。また、レンズ倍率を横軸(高倍率が左、低倍率が右)にRa、PVの変化の折れ線グラフを描いた場合(図6、7)、折れ線の傾きが大きいと、粗さの長波長成分が加算されていることを表すため、平坦性が悪く、レンズ倍率を変えてもRa、PVが変化しないと粗さの長波長成分が加算されないため平坦性が良いと判断できる。
サンプルに白金を蒸着し、超高分解能電解放射型走査型電子顕微鏡で観察した。
SEM装置:日立製作所(株)製UHR−FE−SEM S−5000
B.繊維の数平均直径
上記SEMで倍率50倍で観察し、その観察画像から、三谷商事(株)製の画像処理ソフト(WINROOF)を用いて、繊維長手方向に対して垂直な方向の最大繊維幅を繊維の直径として算出した(ただし、織物の経糸と緯糸の交錯点では単繊維が潰れやすいので、交錯点以外の部分を測定するものとする)。この際、同一横断面内で無作為に抽出した20本の単繊維の直径を測定し、これを3カ所で行い、合計60本の単繊維の直径を測定して、これを単純平均して数平均直径を求めた。
研磨パッド表面をSEMにより100倍で観察することで目開きを特定し、目開き面積を異なる20カ所で測定し、その平方根の平均値を目開きサイズとした。
モノフィラメント織物の表面積全体に占める目開き部分の面積の比率を開孔率として定義する。この時は、モノフィラメント織物、縦×横=2mm×2mm中の目開き数と目開き1つ当たりの面積から開孔率(%)=(目開き総面積/(織編物表面積=4mm2))×100(%)を計算した。目開きはSEM観察(150倍)により行った。
接着層によりモノフィラメント織物が支持体に積層された研磨パッドをカミソリで切断することで、織物断面の面出しを行った。そして、織物断面をできる限り垂直に立ててSEM観察し、図2のように経糸と緯糸の交錯点における織物表面の経糸表面と織物裏面の緯糸表面との距離を測定した。なお、測定は同一織物内で異なる5カ所で行い、その平均値を織物の厚みとした。また、SEM観察倍率は300倍とした。
本実施例では織物に積層する前の支持体となるPU樹脂板そのもので測定を行った。高分子計器株式会社製のアスカーゴム硬度計A型を定圧荷重器(CL−150L型)に取り付け、荷重1000gで支持体の硬度を測定した。支持体の厚みが6mm以下の場合には、厚みが6mm以上となるように支持体を複数枚重ねて測定を行った。なお、測定はサンプルの異なる5カ所で行い、その平均値をアスカーA硬度とする。
本実施例では織物に積層する前の支持体となるPU樹脂板そのもので測定を行った。支持体表面(織物接着面になる表面)にマイクロゴムA硬度計(高分子計器(株)製マイクロゴム硬度計MD−1)の針を押し当て硬度を測定した。測定はサンプルの異なる5カ所で行い、その平均値を湿潤時のマイクロゴムA硬度とした。
研磨定盤との接着のための両面テープを貼り付ける前の研磨パッドから小片サンプルを切り出し、これを20℃のイオン交換水に完全に浸漬し、10分間保持した後、これを取り出し、ティッシュペーパーで研磨パッド表面の余分な水分を丁寧に除去した。そして、まず研磨パッドの表側すなわち研磨層であるモノフィラメント織物側からカトーテック(株)社製のKES“KES FB3”(登録商標)により圧縮試験を荷重50gf/cm2として行い、この時の圧縮量を測定する。測定は研磨パッドの異なる位置で3回行い、これの平均値を研磨層側、すなわちモノフィラメント織物側の圧縮量とした。次に、別途準備したモノフィラメント織物に積層する前の支持体の小片サンプルをモノフィラメント織物側の圧縮量測定の場合と同様に前処理し、今度は支持体表面(モノフィラメント織物との接着面になる表面)の圧縮量を測定した。こちらも3回の測定を行い、これの平均値を支持体側の圧縮量とした。測定は20℃、65%RHに調湿された測定室で行い、支持体を水から取り出した後、2分で測定を開始した。
研磨機はラップマスターSFT株式会社製の片面研磨機である“ラップマスターLM−15E”(登録商標)を用いた。研磨パッドは実施例および比較例で作製した研磨パッドをそれぞれ用い、研磨スラリーにはコロイダルシリカの水分散体である株式会社フジミインコーポレーテッド製“GLANZOX1302”(登録商標)を用いた。ウエーハは4インチのシリコンエッチドウエーハを用い研磨を行なった。この時の研磨条件は下記の通りである。
定盤回転数 : 50rpm
研磨圧力 : 255gf/cm2
研磨時間 : 15分
スラリー濃度 : 1%
スラリー供給量 : 30mL/分
なお、研磨する際にはセラミックス製プレートに市販のPUスエードをバッキング材としたテンプレートを貼り付けて、それにウエーハを保持した。
Zygo社の白色干渉顕微鏡である“New View 6300”(登録商標)を用い、中間レンズ1倍、対物レンズとして50倍、10倍、2.5倍で評価を行った。測定は研磨物の中心、それから端までの中間点4カ所の合計5カ所の測定を行い、Ra、PVとしてはその平均値で評価を行った。
研磨層に用いるモノフィラメント織物として、単繊維直径27μm、目開き23μmのPETモノフィラメント織物(表1)を、支持体としてアスカーA硬度90、厚み1mmのPU樹脂板を準備し、支持体に織物を研磨パッド固定用テープ(厚み130μm、中間接着用で基材は不織布)で貼り付け、さらに支持体の裏側に定盤接着用の両面テープ(厚み110μm、定盤接着用で基材はポリエステルフィルム)を貼り付け、研磨パッドを作製した。なお、実施例1の織物に用いたモノフィラメントはPETの芯鞘複合糸であり、鞘成分を軟らかくしたものであった。
研磨層に用いるモノフィラメント織物として、単繊維直径30μm、目開き20μmのN66モノフィラメント織物(表1)を用い、実施例1と同様にして支持体に積層し、研磨パッドを作製した。
研磨層に用いる織物として、単繊維直径45μm、目開き82μmのモノフィラメント織物(表1)を用い、実施例1と同様にして支持体に積層し、研磨パッドを作製した。
研磨層に用いる織物として、単繊維直径80μm、目開き172μmのモノフィラメント織物(表1)を用い、実施例1と同様にして支持体に積層し、研磨パッドを作製した。
研磨層に用いる織物として、単繊維直径155μm、目開き273μmのモノフィラメント織物(表1)を用い、実施例1と同様にして支持体に積層し、研磨パッドを作製した。
比較例3においてはPU含浸不織布パッドとしてニッタ・ハース社製“SUBA800”(登録商標)を、比較例4においては発泡PU樹脂パッドとしてニッタ・ハース社製“MH−S15A”(登録商標)を用い、実施例1と同様に研磨実験を行った後、白色干渉顕微鏡により平坦性・平滑性の評価を行った(表2)。
織物(表1)として通常のマルチフィラメント織物を用い、実施例1と同様に研磨パッドを作製し、実施例1と同様に評価を行った。この織物は、経糸が84dtex−18フィラメント(単繊維直径17μm)、緯糸が84dtex−36フィラメント(単繊維直径15μm)のいずれも捲縮のかかっていないストレートヤーンを用いた衣料用の通常の平織り物であり目開きはほとんど認められないが、一部経糸と緯糸の間に隙間が有り、ここを目開きとして表1に値を載せた。研磨後ウエーハの評価では、いずれの倍率でも実施例1よりも大きなRa、PVを示し、平坦性・平滑性とも劣るものであった(表2)。なお、比較例5では、現状、問題となるほどではないが50倍レンズでの観察において若干の微細傷の発生が認められた。また、目視判定可能な大きな傷の発生も若干認められた。
2:織物
3:織物厚み
4:接着層
Claims (7)
- 単繊維直径が5〜150μm、目開きが10〜150μmのモノフィラメント織物と支持体とが積層されている研磨パッド。
- 前記織物の開孔率が5〜50%である請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記織物の厚さが10〜100μmである請求項1または2に記載の研磨パッド。
- 湿潤状態において織物側からKESにより測定した荷重50gf/cm2での圧縮量が、支持体側からKESにより測定した荷重50gf/cm2での圧縮量の80〜120%である請求項1〜3のいずれかに記載の研磨パッド。
- 半導体ウエーハ用あるいはガラス用である請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッド。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッドで研磨した半導体ウエーハ。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッドで研磨したガラス。
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