JP2010018752A - ガスハイドレートのガス化方法及ガス化システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】常圧系ガスハイドレート供給配管10からロータリーバルブ20の格納室21にガスハイドレートAを供給し、ロータリーバルブを回転させて格納室21を高圧系ガスハイドレート供給配管31と高圧系循環水配管38に連通させて、格納室21のガスハイドレートAを循環水Bで高圧系ガスハイドレート供給配管31に圧入すると共に、ガスハイドレートAを熱交換器で受熱した循環水Baと共にガス化槽32に供給してガス化し、発生したガスCをガス供給配管33から排出すると共に、循環水Bを分離排出する。
【選択図】図1
Description
10 常圧系ガスハイドレート供給配管
11 貯蔵タンク
12 投入装置
13 ヒータ(凍結防止用加熱装置)
20 ロータリーバルブ
21 格納室
22 加圧用配管
23 減圧用配管
31 高圧系ガスハイドレート供給配管
32 ガス化槽
33 ガス供給配管
34、36、38 高圧系循環水配管
35 水量調整用タンク
37 循環水用ポンプ
41 熱交換用配管
42 熱交換器
51、53 常圧系給排水配管
52 水充填用タンク
54 水充填用ポンプ
55 水圧入配管
56 水圧入ポンプ
A ガスハイドレート
B 循環水
Ba 高温の循環水
C ガス
D 排水
Ea 熱交換前の熱媒体
Eb 熱交換後の熱媒体
Claims (7)
- 常圧で貯蔵された固形状のガスハイドレートを、高圧のガス化槽に供給して、該ガス化槽でガス化させた高圧のガスを外部に供給するガスハイドレートのガス化方法において、 常圧系ガスハイドレート供給配管からロータリーバルブの格納室に前記ガスハイドレートを供給し、供給後に前記ロータリーバルブを回転して前記常圧系ガスハイドレート供給配管から高圧系ガスハイドレート供給配管に切り替えて、前記格納室に供給された前記ガスハイドレートを循環水でガス化槽に移送し、前記ガス化槽に移送した前記ガスハイドレートをガス化し、発生したガスをガス供給配管から排出すると共に、前記ガス化槽で分離した、循環水及びガスハイドレートの分解水を高圧系循環水配管の循環水用ポンプで循環して、該循環水を前記格納室に供給して前記ガスハイドレートの前記ガス化槽への移送に使用すると共に、前記循環水を熱交換器に供給して、該熱交換器に供給される熱を循環水に伝熱して、該受熱した循環水を前記ガス化槽に供給することにより前記ガス化槽に熱を供給することを特徴とするガスハイドレートのガス化方法。
- 常圧で貯蔵された固形状のガスハイドレートを、高圧のガス化槽に供給して、該ガス化槽でガス化させた高圧のガスを外部に供給するガスハイドレートのガス化システムにおいて、
常圧系ガスハイドレート供給配管と高圧系ガスハイドレート供給配管とを順次繰り返し切り替えるロータリーバルブと、ガスハイドレートをガス化するガス化槽と、ガス化用の熱を供給する熱交換器と、前記ロータリーバルブに前記ガスハイドレートを供給するための常圧系ガスハイドレート供給配管と、前記ロータリーバルブと前記ガス化槽とを連結して前記ガスハイドレートを前記ガス化槽に移送するための高圧系ガスハイドレート供給配管と、前記ガス化槽と前記ロータリーバルブとを連結して、前記ガス化槽で分離した、循環水及びガスハイドレートの分解水を循環する高圧系循環水配管と、該高圧系循環水配管と前記高圧系ガスハイドレート供給配管とを連結する熱交換用配管とを備えて構成し、
前記ガス化槽に、外部に高圧のガスを供給するガス供給配管を、前記高圧系循環水配管に循環用ポンプを、前記熱交換用配管に前記熱交換器をそれぞれ設けたことを特徴とするガスハイドレートのガス化システム。 - 前記ガスハイドレートの前記ロータリーバルブへの移動を制御する投入装置を前記常圧系ガスハイドレート供給配管に備えると共に、前記ロータリーバルブを前記常圧系ガスハイドレート供給配管に切り替えたときに、前記格納室内の水分である水を排出して一時的に貯留する水充填用タンク、及び前記格納室内への水充填を行う水充填用ポンプを含む常圧系給排水配管を備えたことを特徴とする請求項2に記載のガスハイドレートのガス化システム。
- 前記ロータリーバルブを常圧系ガスハイドレート供給配管から前記高圧系ガスハイドレート供給配管に切り替える途中に前記格納室内に前記循環水で加圧するための加圧用配管を設けると共に、前記ロータリーバルブを前記高圧系ガスハイドレート供給配管から前記常圧系ガスハイドレート供給配管に切り替える途中に前記格納室内を減圧するための減圧用配管を設けたことを特徴とする請求項2又は3に記載のガスハイドレートのガス化システム。
- 前記高圧系ガスハイドレート供給配管の一部又は全部を前記ガス化槽側が上になるように水平に対して10度から90度傾斜させて設けたことを特徴とする請求項2、3又は4に記載のガスハイドレートのガス化システム。
- 前記常圧系ガスハイドレート供給配管に、凍結防止用加熱装置を設けたことを特徴とする請求項2、3、4又は5に記載のガスハイドレートのガス化システム。
- 前記高圧系循環水配管に水量調整用タンクを備えると共に、前記水充填用タンク内の水を前記水量調整用タンクに圧入するための水圧入配管及び水圧入用ポンプを設けたことを特徴とする請求項2、3、4、5又は6に記載のガスハイドレートのガス化システム。
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- 2008-07-14 JP JP2008182191A patent/JP2010018752A/ja active Pending
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