JP2010002335A - ガス検知素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガス感応部と、当該ガス感応部の電気抵抗値を検出する検出電極とを備え、ガス感応部の電気抵抗変化に基づき、被検知ガスを検知するガス検知素子であって、ガス感応部は酸化セリウムを主成分として構成してあり、被検知ガスは含酸素有機化合物及び含硫黄化合物のうちの少なくともいずれかのガスである。
【選択図】図6
Description
一方、従来のガス検知素子のようにガス感応部の主成分を酸化亜鉛等とした場合には、酸化亜鉛等と被検知ガスとの間の反応は、酸化亜鉛等の表面に吸着した吸着酸素が被検知ガスに供給される表面制御型機構で進行する。この吸着酸素は容易に大気中の水分と反応してしまうため、測定環境中の湿度変動の影響を受けやすく、特に被検知ガスが低濃度の場合には感度が不安定となってしまう。
以上の比較から明らかなように、酸化セリウムを主成分としてガス感応部を構成することにより、測定環境中に含まれる水分との反応によるセンサ出力を略一定に保つことができるので、被検知ガスが低濃度の場合であっても安定して検知することが可能となる。
以下に、本発明に係るガス検知素子1の第一の実施形態について図面を参照して説明する。図1は、本実施形態に係るガス検知素子1の概略図である。ここでは、絶縁基板3と、検出電極4と、ガス感応部としてのガス感応層2と、を備えた基板型のガス検知素子1を例示するが、これに限られるものではない。その他のガス検知素子としては、熱線型ガス検知素子、直熱型ガス検知素子、傍熱型ガス検知素子等が挙げられる。
多孔体の開口率は、5〜30%であることが好ましい。一般に、開口率が小さくなり過ぎると、被検知ガスがガス感応層2の内部に入り難くなり、応答速度及び応答復帰速度が低下する傾向がある。一方、開口率が大きくなり過ぎると、ガス感応層2おける被検知ガスとの接触面積が小さくなり、検出感度が低下する傾向がある。このような観点から、ガス感応層2の表面における開口率を5〜30%とすることにより、総合的に見て応答速度や検出感度に優れたガス検知素子1とすることができる。
(実施例1)
絶縁基板3として、1mm×1.5mmのアルミナ基板を用い、従来のガス検知素子1の製造方法と同様にして、白金の検出電極4a、4b及び白金の薄膜ヒータ5を蒸着させた。次に、上記有機バインダに酸化セリウム粉末とカーボン粒子とを加えて混合したペーストを、検出電極4a、4bを蒸着させた側の絶縁基板3上に約10μmの厚みになるように層状に塗布し、室温で1時間乾燥させた。その後、10℃/分で昇温し、900℃で2時間保持して焼成した。このようにして得られたガス検知素子1におけるガス感応層2の断面を電子顕微鏡で観察したところ、図2(a)に示すように多くの細孔を含んだ多孔体として形成されていることが確認された。なお、このときのガス感応層2は、約5μmの厚みの層状で、粒子径が約200nm、開口率が約25%であった。
焼成温度を750℃とした以外は実施例1と同様の方法により、ガス検知素子1を作製した。
焼成温度を600℃とした以外は実施例1と同様の方法により、ガス検知素子1を作製した。
ペーストに混合する酸化セリウム粉末を酸化亜鉛粉末に置換した以外は実施例1と同様の方法により、酸化亜鉛を主成分とするガス感応層2を備えたガス検知素子を作製した。
なお、臭気測定を行なう場合には、測定対象空気を活性炭フィルターを通過させて基準となる無臭空気を得、基準となる無臭空気によるセンサ出力と測定対象空気によるセンサ出力との差分から臭気成分が求められる。しかし、測定対象空気を活性炭フィルターを通過させる際には、臭気成分とともに大気中の水分もが活性炭により吸着除去される。従来のガス検知素子1を組み込んだガスセンサは、湿度変動による影響を受けやすかったため、測定対象空気と基準となる無臭空気との間で大気中の水分に基づくセンサ出力の大きさが異なることにより、測定結果の解析が困難であるという問題があった。これに対して、実施例1のガス検知素子1を組み込んだガスセンサは、湿度変動に対して非常に高い安定性を有しているので、上記のような問題が生じることはなく、揮発性硫黄化合物を対象として臭気測定を行なう場合に、特に有用に利用できることが明らかになった。
焼成後のガス感応層2の厚みが、それぞれ1μm、9μm、10μm、11μm、12μm、16μm、20μm、32μm、43μm、50μm、60μmとなるように酸化セリウム粉末のペーストを塗布する以外は実施例1と同様の方法により、ガス検知素子1を作製した。
以下に、本発明に係るガス検知素子1の第二の実施形態について図面を参照して説明する。図8は、本実施形態に係るガス検知素子1の断面図である。本実施形態のガス検知素子1は、基本的な構成は第一の実施形態におけるものと同様であるが、絶縁基板3及びガス感応層2の具体的な形状が相違する。また、それに伴い、製造方法も一部相違する。以下では、主に第一の実施形態との相違点について説明する。
アルミナ基板に白金の検出電極4a、4b及び白金の薄膜ヒータ5を蒸着させる工程と、酸化セリウム粉末のペーストをアルミナ基板上に層状に塗布する工程との間に、絶縁基板3に対して検出電極4a、4bが設けられた側からレーザー加工用のピコ秒レーザーを照射して、検出電極4aと4bとの間に亘る凹部6を形成する工程を組み込んだ以外は実施例1と同様の方法により、ガス検知素子1を作製した。
2 ガス感応層
3 絶縁基板
4 検出電極
6 凹部
7 アンカー部
Claims (4)
- ガス感応部と、当該ガス感応部の電気抵抗値を検出する検出電極とを備え、前記ガス感応部の電気抵抗変化に基づき、被検知ガスを検知するガス検知素子であって、
前記ガス感応部は酸化セリウムを主成分として構成してあり、前記被検知ガスは含酸素有機化合物及び含硫黄化合物のうちの少なくともいずれかのガスであるガス検知素子。 - 前記ガス感応部は、絶縁基板の上に設けたガス感応層として構成され、当該ガス感応層の厚みを1〜10μmとしてある請求項1に記載のガス検知素子。
- 前記ガス感応層が、前記絶縁基板に設けられた凹部に係入するアンカー部を備える請求項2に記載のガス検知素子。
- 前記被検知ガスは、揮発性有機化合物及び揮発性硫黄化合物のうちの少なくともいずれかである請求項1から3のいずれか一項に記載のガス検知素子。
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