JP2010001194A - 表面処理シリカ微粒子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】疎水化表面処理したシリカ微粒子であって、アルカリ金属酸化物を含有させることによって、凝集性を抑制したことを特徴とし、具体的には、BET比表面積100m2/g〜400m2/gであって、アルカリ金属酸化物を含まない同じ比表面積のシリカ微粒子の凝集粒子径(D0)に対する表面処理後の凝集粒子径(D2)の比が0.8以下(D2/D0≦0.8)である表面処理シリカ微粒子。
【選択図】なし
Description
〔1〕疎水化表面処理したシリカ微粒子であって、アルカリ金属酸化物を含有させることによって、凝集性を抑制したことを特徴とする表面処理シリカ微粒子。
〔2〕アルカリ金属酸化物を含まない同じ比表面積のシリカ微粒子の凝集粒子径(D0)に対する表面処理後の凝集粒子径(D2)の比が0.8以下(D2/D0≦0.8)である上記[1]に記載する表面処理シリカ微粒子。
〔3〕アルカリ金属酸化物を含むシリカ微粒子の凝集粒子径(D1)が、アルカリ金属酸化物を含まない同じ比表面積のシリカ微粒子の凝集粒子径(D0)より小さい(D1/D0≦0.9)ものである上記[1]〜上記[3]の何れかに記載する表面処理シリカ微粒子。
〔4〕アルカリ金属酸化物含有量が0.005〜5.0質量%であり、BET比表面積が100m2/g〜400m2/gであるアルカリ金属酸化物を含有したフュームドシリカを疎水化表面処理した上記[1]または上記[2]に記載する表面処理シリカ微粒子。
〔5〕静電荷像現像用トナーの外添剤に用いる上記[1]〜上記[4]の何れかに記載する表面処理シリカ微粒子。
本発明のシリカ微粒子は、疎水化表面処理したシリカ微粒子であって、アルカリ金属酸化物を含有させることによって、凝集性を抑制したことを特徴とする表面処理シリカ微粒子である。
〔疎水率〕:表面処理シリカ微粒子1gを分液ロート(200ml)に計りとり、これに純水100mLを加えて栓をし、ターブラーミキサーで10分間振とう後、10分間静置し、その後、下層の20〜30mLをロートから抜き取った後に、下層の混合液を10mm石英セルに分取し、純水をブランクとして比色計にかけ、その500nmの通過率を疎水率とした。
アルカリ金属としてカリウムを0.12%含むBET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料1)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、HMDS20重量部をスプレーした。この反応混合物を200℃で2時間攪拌した後、200℃にて2時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.12%含むBET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料1)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル20重量部とn−ヘキサン20重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.12%含むBET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料1)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、HMDS20重量部をスプレーした。この反応混合物を200℃で2時間攪拌した後、200℃にて2時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。更に、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル15重量部とn−ヘキサン15重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.12%含むBET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料1)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、イソブチルトリメトキシシラン20重量部をスプレーした。この反応混合物を200℃で2時間攪拌した後、200℃にて2時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.11%含むBET比表面積300m2/gのシリカ粒子(原料2)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル30重量部とn−ヘキサン30重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.02%含むBET比表面積300m2/gのシリカ粒子(原料3)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル30重量部とn−ヘキサン30重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.06%含むBET比表面積300m2/gのシリカ粒子(原料4)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル30重量部とn−ヘキサン30重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてカリウムを0.17%含むBET比表面積130m2/gのシリカ粒子(原料5)100重量部を反応容器に入れ、、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル13重量部とn−ヘキサン13重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
アルカリ金属としてナトリウムを0.09%含むBET比表面積300m2/gのシリカ粒子(原料6)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル30重量部とn−ヘキサン30重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
BET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料7)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、HMDS20重量部をスプレーした。この反応混合物を200℃で2時間攪拌した後、200℃にて2時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
BET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料7)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル20重量部とn−ヘキサン20重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
BET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料7)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、HMDS20重量部をスプレーした。この反応混合物を200℃で2時間攪拌した後、200℃にて2時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。更に、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル15重量部とn−ヘキサン15重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
BET比表面積200m2/gのシリカ粒子(原料7)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、イソブチルトリメトキシシラン20重量部をスプレーした。この反応混合物を200℃で2時間攪拌した後、200℃にて2時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
BET比表面積300m2/gのシリカ粒子(原料8)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル30重量部とn−ヘキサン30重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
BET比表面積130m2/gのシリカ粒子(原料9)100重量部を反応容器に入れ、窒素雰囲気の下、攪拌しながら、ジメチルシリコーンオイル13重量部とn−ヘキサン13重量部の混合溶液をスプレーした。この反応混合物を300℃で1時間、窒素気流下で攪拌して乾燥し、その後冷却した。
Claims (5)
- 疎水化表面処理したシリカ微粒子であって、アルカリ金属酸化物を含有させることによって、凝集性を抑制したことを特徴とする表面処理シリカ微粒子。
- アルカリ金属酸化物を含まない同じ比表面積のシリカ微粒子の凝集粒子径(D0)に対する表面処理後の凝集粒子径(D2)の比が0.8以下(D2/D0≦0.8)である請求項1に記載する表面処理シリカ微粒子。
- アルカリ金属酸化物を含むシリカ微粒子の凝集粒子径(D1)が、アルカリ金属酸化物を含まない同じ比表面積のシリカ微粒子の凝集粒子径(D0)より小さい(D1/D0≦0.9)ものである請求項1または請求項2に記載する表面処理シリカ微粒子。
- アルカリ金属酸化物含有量が0.005〜5.0質量%であり、BET比表面積が100m2/g〜400m2/gであるアルカリ金属酸化物を含有したフュームドシリカを疎水化表面処理した請求項1〜請求項3の何れかに記載する表面処理シリカ微粒子。
- 静電荷像現像用トナーの外添剤に用いる請求項1〜4の何れかに記載する表面処理シリカ微粒子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008162571A JP2010001194A (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | 表面処理シリカ微粒子 |
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JP2008162571A JP2010001194A (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | 表面処理シリカ微粒子 |
Publications (1)
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JP2008162571A Pending JP2010001194A (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | 表面処理シリカ微粒子 |
Country Status (1)
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008520531A (ja) * | 2004-11-18 | 2008-06-19 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 疎水性シリカ及びシリコーンゴム中でのこの使用 |
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2008
- 2008-06-20 JP JP2008162571A patent/JP2010001194A/ja active Pending
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JP2008520531A (ja) * | 2004-11-18 | 2008-06-19 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 疎水性シリカ及びシリコーンゴム中でのこの使用 |
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