JP2009545005A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009545005A5
JP2009545005A5 JP2009521788A JP2009521788A JP2009545005A5 JP 2009545005 A5 JP2009545005 A5 JP 2009545005A5 JP 2009521788 A JP2009521788 A JP 2009521788A JP 2009521788 A JP2009521788 A JP 2009521788A JP 2009545005 A5 JP2009545005 A5 JP 2009545005A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
sensitive composition
repeating unit
represented
following structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009521788A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009545005A (ja
JP5431931B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US11/494,235 external-priority patent/US7332253B1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2009545005A publication Critical patent/JP2009545005A/ja
Publication of JP2009545005A5 publication Critical patent/JP2009545005A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5431931B2 publication Critical patent/JP5431931B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (6)

  1. ラジカル重合性成分、
    画像形成輻射線に暴露すると前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、
    輻射線吸収化合物
    を含んでなる輻射線感光性組成物であって、
    当該輻射線感光性組成物が、
    下記構造(I):
    Figure 2009545005
    {上記式中、Aは、ペンダント−C(=O)O−CH2CH=CH2基を含む反復単位を表し、Bは、ペンダント・シアノ基を含む反復単位を表し、そしてCは、A及びBによって表されるもの以外であって、任意選択的にペンダント・カルボキシ基を含有する反復単位を含む反復単位を表し、
    xは1〜50重量%であり、yは30〜80重量%であり、そしてzは20〜70重量%である}
    によって表される高分子バインダー
    を含むことを特徴とする輻射線感光性組成物。
  2. 前記高分子バインダーが、25℃で、2−ブトキシエタノールの80重量%水溶液1グラム中、50mg未満の溶解度を有している請求項1に記載の組成物。
  3. 前記開始剤組成物がオニウム塩を含んでなる請求項1又は2に記載の輻射線感光性組成物。
  4. 前記オニウム塩が、
    下記構造(II):
    Figure 2009545005
    {上記式中、X及びYは独立して、ハロ、アルキル、アルキルオキシ、若しくはシクロアルキル基であり、又は2つ若しくは3つ以上の隣接するX若しくはY基が結合して、それぞれのフェニル環と縮合環を形成することができ、p及びqは独立して0又は整数1〜5であるが、但しp又はqが少なくとも1であることを条件とし、そして
    - は、下記構造(III):
    Figure 2009545005
    (上記式中、R 1 、R 2 、R 3 、及びR 4 は独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、若しくはヘテロシクリル基であるか、又はR 1 、R 2 、R 3 、及びR 4 のうちの2つ若しくは3つ以上が結合して、該ホウ素原子を有する複素環を形成することができる)
    によって表される有機アニオンである}
    によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウム化合物を含む、
    ホウ酸ヨードニウムである請求項3に記載の輻射線感光性組成物
  5. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の輻射線感光性組成物を含む画像形成性要素を基板上に有して成る画像形成性要素。
  6. A) 請求項5に記載のネガ型画像形成性要素を像様露光することにより、露光された領域と非露光領域とを形成し、そして
    B) プレヒート工程を伴って又は伴わずに、前記像様露光された要素を現像して、前記非露光領域だけを除去する
    ことを含んでなる、画像形成された要素の製造方法。
JP2009521788A 2006-07-27 2007-07-23 ネガ型輻射線感光性組成物及び画像形成性材料 Expired - Fee Related JP5431931B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/494,235 2006-07-27
US11/494,235 US7332253B1 (en) 2006-07-27 2006-07-27 Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
PCT/US2007/016541 WO2008013766A1 (en) 2006-07-27 2007-07-23 Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009545005A JP2009545005A (ja) 2009-12-17
JP2009545005A5 true JP2009545005A5 (ja) 2010-09-02
JP5431931B2 JP5431931B2 (ja) 2014-03-05

Family

ID=38695520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009521788A Expired - Fee Related JP5431931B2 (ja) 2006-07-27 2007-07-23 ネガ型輻射線感光性組成物及び画像形成性材料

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7332253B1 (ja)
EP (1) EP2047333B1 (ja)
JP (1) JP5431931B2 (ja)
CN (1) CN101495920B (ja)
DE (1) DE602007005655D1 (ja)
WO (1) WO2008013766A1 (ja)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7592128B2 (en) * 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US7781143B2 (en) * 2007-05-31 2010-08-24 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
US20090047599A1 (en) * 2007-08-15 2009-02-19 Geoffrey Horne Negative-working imageable elements and methods of use
EP2098367A1 (en) * 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates
JP5183268B2 (ja) * 2008-03-27 2013-04-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US8293846B2 (en) * 2008-09-26 2012-10-23 Fujifilm Corporation Composition for forming layer to be plated, method of producing metal pattern material, metal pattern material
JP2010079083A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
US20100129616A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 Collins Jeffrey J Negative-working on-press developable imageable elements
US20100151385A1 (en) * 2008-12-17 2010-06-17 Ray Kevin B Stack of negative-working imageable elements
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8318405B2 (en) 2009-03-13 2012-11-27 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements with overcoat
US8507182B2 (en) * 2009-06-09 2013-08-13 Eastman Kodak Company Method of providing lithographic printing plates
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
US8426104B2 (en) 2009-10-08 2013-04-23 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US8329383B2 (en) 2009-11-05 2012-12-11 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
JP2011213782A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujifilm Corp ポリマー溶液の製造方法、ポリマーの精製方法
US8900798B2 (en) 2010-10-18 2014-12-02 Eastman Kodak Company On-press developable lithographic printing plate precursors
US20120090486A1 (en) 2010-10-18 2012-04-19 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors and methods of use
CN102030855B (zh) * 2010-11-21 2014-02-26 乐凯集团第二胶片厂 氨酯化不饱和水溶性乙烯基多元共聚物及其制备方法
US20120141942A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Domenico Balbinot Method of preparing lithographic printing plates
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
US20120141935A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
JP5705584B2 (ja) * 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8703381B2 (en) 2011-08-31 2014-04-22 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors for on-press development
US8632941B2 (en) 2011-09-22 2014-01-21 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes
US9029063B2 (en) 2011-09-22 2015-05-12 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
EP2762973B1 (en) * 2011-09-26 2017-11-29 Fujifilm Corporation Method for producing lithographic printing plate
US8679726B2 (en) 2012-05-29 2014-03-25 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8889341B2 (en) 2012-08-22 2014-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors and use
US8927197B2 (en) 2012-11-16 2015-01-06 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
EP2735903B1 (en) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a hyperbranched binder material
JP5830041B2 (ja) * 2013-01-24 2015-12-09 信越化学工業株式会社 ポリシロキサン含有レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたパターン形成方法
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
EP2778782B1 (en) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negative working radiation-sensitive elements
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
CN104289152B (zh) * 2014-10-08 2016-01-13 西南石油大学 一类两性磺酸盐型可聚表面活性剂及其合成方法
US11485874B2 (en) * 2019-06-27 2022-11-01 Prc-Desoto International, Inc. Addition polymer for electrodepositable coating compositions
US11633948B2 (en) 2020-01-22 2023-04-25 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6569602B1 (en) * 1998-10-05 2003-05-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ionization radiation imageable photopolymer compositions
SG98433A1 (en) * 1999-12-21 2003-09-19 Ciba Sc Holding Ag Iodonium salts as latent acid donors
DE60128602T2 (de) 2000-08-21 2008-01-31 Fujifilm Corp. Bildaufzeichnungsmaterial
US6548222B2 (en) * 2000-09-06 2003-04-15 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic printing plates
JP4191887B2 (ja) * 2000-09-27 2008-12-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
WO2002029104A2 (en) * 2000-10-03 2002-04-11 Glaxo Group Limited Tumor marker and methods of use
JP4680399B2 (ja) * 2001-02-15 2011-05-11 コダック株式会社 感光性平版印刷版及び画像形成方法
US6899994B2 (en) * 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7592128B2 (en) * 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US7261998B2 (en) * 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
JP4213876B2 (ja) * 2001-04-13 2009-01-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
US6702437B2 (en) * 2001-08-23 2004-03-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
US7172850B2 (en) * 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
JP4262945B2 (ja) * 2002-08-16 2009-05-13 富士フイルム株式会社 感熱/感光性組成物
US7569328B2 (en) 2002-08-16 2009-08-04 Fujifilm Corporation Resin composition and thermo/photosensitive composition
JP4090307B2 (ja) * 2002-08-22 2008-05-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP4213715B2 (ja) 2003-06-18 2009-01-21 コダックグラフィックコミュニケーションズ株式会社 ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版
JP4291638B2 (ja) * 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4248345B2 (ja) * 2003-09-01 2009-04-02 富士フイルム株式会社 感光性組成物
EP1708023B1 (en) 2003-12-25 2009-03-11 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. Negative photosensitive composition and negative photosensitive lithographic printing plate
CN101010633A (zh) * 2004-09-01 2007-08-01 柯达彩色绘图有限责任公司 平版印刷板的夹层
US7175949B1 (en) * 2006-02-17 2007-02-13 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7524614B2 (en) * 2006-05-26 2009-04-28 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009545005A5 (ja)
JP2009538446A5 (ja)
JP2010503016A5 (ja)
JP2009527023A5 (ja)
JP2004117688A5 (ja)
JP2008268931A5 (ja)
JP2011505600A5 (ja)
JP2014041327A5 (ja)
JP2003114522A5 (ja)
JP2010531476A5 (ja)
JP2013174779A5 (ja)
JP2003035948A5 (ja)
JP2010511914A5 (ja)
JP2003345023A5 (ja)
JP2011525156A5 (ja)
JP2003307839A5 (ja)
JP2004277303A5 (ja)
JP2004029136A5 (ja)
JP2004271629A5 (ja)
JP2004287262A5 (ja)
JP2002323768A5 (ja)
JP2001330957A5 (ja)
JP2003177537A5 (ja)
JP2003140331A5 (ja)
JP2010100037A5 (ja)