JP2009543340A5 - - Google Patents
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- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N precursor Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- -1 perfluoromethyleneoxy Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003211 photoinitiator Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene (PE) Substances 0.000 description 1
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
Description
これらの結果は、追加の接着層の存在が支持体へのフッ素化エラストマー層の接着性を高めたということ以外に、支持体が、追加の接着層の存在にもかかわらず、スタンプの硬化したフッ素化エラストマー層に寸法安定性を与えたことを実証する。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] 化学線への露光によって重合できるフッ素化化合物を含む組成物の層と、この層に隣接し、化学線に対して透明な可撓性フィルムの支持体とを含むことを特徴とするレリーフ構造を形成するための印刷フォーム前駆体。
[2] 前記フッ素化化合物がパーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[3] 化学線に対する露光の際に、前記層が少なくとも10メガパスカルの弾性率を有することを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[4] 前記パーフルオロポリエーテルが式1
R−E−CF2−O−(CF2−O−)n(−CF2−CF2−O−)m−CF2−E’−R’ 式1
(式中、nおよびmは、それぞれ、ランダムに分布するパーフルオロメチレンオキシおよびパーフルオロエチレンオキシ主鎖繰り返しサブユニットの数を示し、かつ、m/nの比は0.2/1〜5/1であることができ、同一または異なるものであることができるEおよびE’はそれぞれ、1〜10個の炭素原子の線状アルキル、1〜10個の炭素原子の分岐アルキル、1〜10個の炭素原子の線状炭化水素エーテル、および1〜10個の炭素原子の分岐炭化水素エーテルからなる群から選択される延長セグメントであり、および、同一または異なるものであることができるRおよびR’は、アクリレート、メタクリレート、アリル、およびビニルエーテルからなる群から選択される光反応性セグメントである)
で表されることを特徴とする[2]に記載の印刷フォーム前駆体。
[5] nおよびmが約250〜約4000の分子量の式1の化合物を与えることを特徴とする[4]に記載の印刷フォーム前駆体。
[6] 式1の化合物が約250〜約4000の分子量を有することを特徴とする[4]に記載の印刷フォーム前駆体。
[7] 前記パーフルオロポリエーテルが式1A
(式中、nおよびmは、それぞれ、ランダムに分布するパーフルオロメチレンオキシおよびパーフルオロエチレンオキシ主鎖繰り返しサブユニットの数を示し、かつ、m/nの比は0.2/1〜5/1であることができ、および、同一または異なるものであることができるXおよびX’は、水素およびメチルからなる群から選択される)
で表されることを特徴とする[2]に記載の印刷フォーム前駆体。
[8] 前記パーフルオロポリエーテル化合物が約250〜4000の分子量を有することを特徴とする[7]に記載の印刷フォーム前駆体。
[9] 前記パーフルオロポリエーテル化合物が約900〜2100の分子量を有することを特徴とする[7]に記載の印刷フォーム前駆体。
[10] 前記フッ素化化合物がエラストマーであることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[11] 前記組成物層が、化学線に対する露光の際にエラストマー性になることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[12] 前記組成物層が5〜50ミクロンの厚さを有することを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[13] 前記支持体がセルロースフィルム、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリイミド、およびポリエチレンからなる群から選択されるポリマーフィルムであることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[14] 前記組成物が光開始剤をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[15] 前記組成物がフッ素化光開始剤をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[16] 前記組成物が界面活性剤をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[17] 前記組成物がエチレン性不飽和化合物をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[18] 前記組成物が一官能性アクリレート、多官能性アクリレート、一官能性メタクリレート、多官能性メタクリレート、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるモノマーをさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[19] 前記支持体と前記組成物層との間に接着剤の層をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[20] 前記支持体と前記組成物層との間に金属の層をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[21] (a)化学線に対して透明な可撓性フィルムの支持体と、化学線への露光によって重合できるフッ素化化合物の組成物の層とを含む印刷フォーム前駆体を、レリーフパターンを有するマスター上へ提供する工程であって、前記組成物層がレリーフパターンに接触する工程と、
(b)前記組成物層を、前記支持体を通して化学線に露光させてこの層を重合させる工程と、
(c)前記重合した層を前記マスターから分離して前記マスターのレリーフパターンに対応するレリーフ面を有するスタンプを形成する工程と
を含むことを特徴とする印刷フォーム前駆体からのスタンプの製造方法。
[22] 前記化学線が紫外線であることを特徴とする[21]に記載の方法。
[23] 前記フッ素化化合物がパーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする[21]に記載の方法。
[24] [21]に記載の方法に従って製造されることを特徴とする印刷スタンプ。
[25] (A)[21]に従ってスタンプを製造する工程であって、スタンプのレリーフ面が隆起部と陥凹部とを含む工程と、
(B)インクを前記スタンプのレリーフ面上に提供する工程と、
(C)前記インクを前記レリーフ面の隆起部から基材へ転写する工程と
を含むことを特徴とする基材のパターン化方法。
[26] (A)[21]に従ってスタンプを製造する工程であって、スタンプのレリーフ面が隆起部と陥凹部とを含む工程と、
(B)化学線への露光によって硬化できる電子材料の層を基材上に提供する工程と、
(C)前記スタンプを前記電子材料の層上へプレスする工程と、
(D)前記電子材料を化学線に露光させて前記電子材料を硬化させる工程と、
(E)前記スタンプを前記基材上の前記硬化した電子材料から分離する工程と
を含むことを特徴とする基材のパターン化方法。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] 化学線への露光によって重合できるフッ素化化合物を含む組成物の層と、この層に隣接し、化学線に対して透明な可撓性フィルムの支持体とを含むことを特徴とするレリーフ構造を形成するための印刷フォーム前駆体。
[2] 前記フッ素化化合物がパーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[3] 化学線に対する露光の際に、前記層が少なくとも10メガパスカルの弾性率を有することを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[4] 前記パーフルオロポリエーテルが式1
R−E−CF2−O−(CF2−O−)n(−CF2−CF2−O−)m−CF2−E’−R’ 式1
(式中、nおよびmは、それぞれ、ランダムに分布するパーフルオロメチレンオキシおよびパーフルオロエチレンオキシ主鎖繰り返しサブユニットの数を示し、かつ、m/nの比は0.2/1〜5/1であることができ、同一または異なるものであることができるEおよびE’はそれぞれ、1〜10個の炭素原子の線状アルキル、1〜10個の炭素原子の分岐アルキル、1〜10個の炭素原子の線状炭化水素エーテル、および1〜10個の炭素原子の分岐炭化水素エーテルからなる群から選択される延長セグメントであり、および、同一または異なるものであることができるRおよびR’は、アクリレート、メタクリレート、アリル、およびビニルエーテルからなる群から選択される光反応性セグメントである)
で表されることを特徴とする[2]に記載の印刷フォーム前駆体。
[5] nおよびmが約250〜約4000の分子量の式1の化合物を与えることを特徴とする[4]に記載の印刷フォーム前駆体。
[6] 式1の化合物が約250〜約4000の分子量を有することを特徴とする[4]に記載の印刷フォーム前駆体。
[7] 前記パーフルオロポリエーテルが式1A
で表されることを特徴とする[2]に記載の印刷フォーム前駆体。
[8] 前記パーフルオロポリエーテル化合物が約250〜4000の分子量を有することを特徴とする[7]に記載の印刷フォーム前駆体。
[9] 前記パーフルオロポリエーテル化合物が約900〜2100の分子量を有することを特徴とする[7]に記載の印刷フォーム前駆体。
[10] 前記フッ素化化合物がエラストマーであることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[11] 前記組成物層が、化学線に対する露光の際にエラストマー性になることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[12] 前記組成物層が5〜50ミクロンの厚さを有することを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[13] 前記支持体がセルロースフィルム、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリイミド、およびポリエチレンからなる群から選択されるポリマーフィルムであることを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[14] 前記組成物が光開始剤をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[15] 前記組成物がフッ素化光開始剤をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[16] 前記組成物が界面活性剤をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[17] 前記組成物がエチレン性不飽和化合物をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[18] 前記組成物が一官能性アクリレート、多官能性アクリレート、一官能性メタクリレート、多官能性メタクリレート、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるモノマーをさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[19] 前記支持体と前記組成物層との間に接着剤の層をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[20] 前記支持体と前記組成物層との間に金属の層をさらに含むことを特徴とする[1]に記載の印刷フォーム前駆体。
[21] (a)化学線に対して透明な可撓性フィルムの支持体と、化学線への露光によって重合できるフッ素化化合物の組成物の層とを含む印刷フォーム前駆体を、レリーフパターンを有するマスター上へ提供する工程であって、前記組成物層がレリーフパターンに接触する工程と、
(b)前記組成物層を、前記支持体を通して化学線に露光させてこの層を重合させる工程と、
(c)前記重合した層を前記マスターから分離して前記マスターのレリーフパターンに対応するレリーフ面を有するスタンプを形成する工程と
を含むことを特徴とする印刷フォーム前駆体からのスタンプの製造方法。
[22] 前記化学線が紫外線であることを特徴とする[21]に記載の方法。
[23] 前記フッ素化化合物がパーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする[21]に記載の方法。
[24] [21]に記載の方法に従って製造されることを特徴とする印刷スタンプ。
[25] (A)[21]に従ってスタンプを製造する工程であって、スタンプのレリーフ面が隆起部と陥凹部とを含む工程と、
(B)インクを前記スタンプのレリーフ面上に提供する工程と、
(C)前記インクを前記レリーフ面の隆起部から基材へ転写する工程と
を含むことを特徴とする基材のパターン化方法。
[26] (A)[21]に従ってスタンプを製造する工程であって、スタンプのレリーフ面が隆起部と陥凹部とを含む工程と、
(B)化学線への露光によって硬化できる電子材料の層を基材上に提供する工程と、
(C)前記スタンプを前記電子材料の層上へプレスする工程と、
(D)前記電子材料を化学線に露光させて前記電子材料を硬化させる工程と、
(E)前記スタンプを前記基材上の前記硬化した電子材料から分離する工程と
を含むことを特徴とする基材のパターン化方法。
Claims (8)
- 化学線への露光によって重合できるフッ素化化合物を含む組成物の層と、この層に隣接し、化学線に対して透明な可撓性フィルムの支持体とを含み、化学線に対する露光の際に、前記層が少なくとも10メガパスカルの弾性率を有することを特徴とするレリーフ構造を形成するための印刷フォーム前駆体。
- 前記フッ素化化合物がパーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする請求項1に記載の印刷フォーム前駆体。
- 前記パーフルオロポリエーテルが式1
R−E−CF2−O−(CF2−O−)n(−CF2−CF2−O−)m−CF2−E’−R’ 式1
(式中、nおよびmは、それぞれ、ランダムに分布するパーフルオロメチレンオキシおよびパーフルオロエチレンオキシ主鎖繰り返しサブユニットの数を示し、かつ、m/nの比は0.2/1〜5/1であることができ、同一または異なるものであることができるEおよびE’はそれぞれ、1〜10個の炭素原子の線状アルキル、1〜10個の炭素原子の分岐アルキル、1〜10個の炭素原子の線状炭化水素エーテル、および1〜10個の炭素原子の分岐炭化水素エーテルからなる群から選択される延長セグメントであり、および、同一または異なるものであることができるRおよびR’は、アクリレート、メタクリレート、アリル、およびビニルエーテルからなる群から選択される光反応性セグメントである)
で表されることを特徴とする請求項2に記載の印刷フォーム前駆体。 - (a)化学線に対して透明な可撓性フィルムの支持体と、化学線への露光によって重合できるフッ素化化合物の組成物の層とを含む印刷フォーム前駆体を、レリーフパターンを有するマスター上へ提供する工程であって、前記組成物層がレリーフパターンに接触する工程と、
(b)前記組成物層を、前記支持体を通して化学線に露光させてこの層を重合させる工程と、
(c)前記重合した層を前記マスターから分離して前記マスターのレリーフパターンに対応するレリーフ面を有するスタンプを形成する工程と
を含むことを特徴とする印刷フォーム前駆体からのスタンプの製造方法。 - 前記フッ素化化合物がパーフルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 請求項4に記載の方法に従って製造されることを特徴とする印刷スタンプ。
- (A)請求項4に従ってスタンプを製造する工程であって、スタンプのレリーフ面が隆起部と陥凹部とを含む工程と、
(B)インクを前記スタンプのレリーフ面上に提供する工程と、
(C)前記インクを前記レリーフ面の隆起部から基材へ転写する工程と
を含むことを特徴とする基材のパターン化方法。 - (A)請求項4に従ってスタンプを製造する工程であって、スタンプのレリーフ面が隆起部と陥凹部とを含む工程と、
(B)化学線への露光によって硬化できる電子材料の層を基材上に提供する工程と、
(C)前記スタンプを前記電子材料の層上へプレスする工程と、
(D)前記電子材料を化学線に露光させて前記電子材料を硬化させる工程と、
(E)前記スタンプを前記基材上の前記硬化した電子材料から分離する工程と
を含むことを特徴とする基材のパターン化方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/479,779 | 2006-06-30 | ||
US11/479,779 US20080000373A1 (en) | 2006-06-30 | 2006-06-30 | Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor |
PCT/US2007/014641 WO2008005208A2 (en) | 2006-06-30 | 2007-06-22 | Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009543340A JP2009543340A (ja) | 2009-12-03 |
JP2009543340A5 true JP2009543340A5 (ja) | 2010-05-27 |
JP5033874B2 JP5033874B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=38649921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009518186A Expired - Fee Related JP5033874B2 (ja) | 2006-06-30 | 2007-06-22 | 印刷フォーム前駆体およびこの前駆体からのスタンプの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20080000373A1 (ja) |
EP (1) | EP2038705A2 (ja) |
JP (1) | JP5033874B2 (ja) |
KR (1) | KR20090034361A (ja) |
CN (1) | CN101479662B (ja) |
WO (1) | WO2008005208A2 (ja) |
Families Citing this family (78)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060108710A1 (en) * | 2004-11-24 | 2006-05-25 | Molecular Imprints, Inc. | Method to reduce adhesion between a conformable region and a mold |
US20050160934A1 (en) * | 2004-01-23 | 2005-07-28 | Molecular Imprints, Inc. | Materials and methods for imprint lithography |
US7307118B2 (en) | 2004-11-24 | 2007-12-11 | Molecular Imprints, Inc. | Composition to reduce adhesion between a conformable region and a mold |
US20060081557A1 (en) | 2004-10-18 | 2006-04-20 | Molecular Imprints, Inc. | Low-k dielectric functional imprinting materials |
WO2007133235A2 (en) * | 2005-08-08 | 2007-11-22 | Liquidia Technologies, Inc. | Micro and nano-structure metrology |
US8142703B2 (en) | 2005-10-05 | 2012-03-27 | Molecular Imprints, Inc. | Imprint lithography method |
KR101358255B1 (ko) * | 2006-06-27 | 2014-02-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 광경화 타입 소수성 몰드 및 그 제조방법 |
KR100832298B1 (ko) * | 2006-06-29 | 2008-05-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 패턴 형성용 레지스트와 이를 이용한 소프트몰드 제조방법 |
US20080083484A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Graciela Beatriz Blanchet | Method to form a pattern of functional material on a substrate |
US8128393B2 (en) * | 2006-12-04 | 2012-03-06 | Liquidia Technologies, Inc. | Methods and materials for fabricating laminate nanomolds and nanoparticles therefrom |
US8005402B2 (en) * | 2007-01-10 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charging device, image forming apparatus and charging method |
US20080233280A1 (en) * | 2007-03-22 | 2008-09-25 | Graciela Beatriz Blanchet | Method to form a pattern of functional material on a substrate by treating a surface of a stamp |
US7763484B2 (en) * | 2007-06-13 | 2010-07-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method to form an optical grating and to form a distributed feedback laser diode with the optical grating |
SG185929A1 (en) * | 2007-11-21 | 2012-12-28 | Molecular Imprints Inc | Porous template and imprinting stack for nano-imprint lithography |
US8877298B2 (en) * | 2008-05-27 | 2014-11-04 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Printing using a structure coated with ultraviolet radiation responsive material |
US7927976B2 (en) * | 2008-07-23 | 2011-04-19 | Semprius, Inc. | Reinforced composite stamp for dry transfer printing of semiconductor elements |
JP2010049745A (ja) * | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | ナノインプリント用モールドおよびこれを用いて作製された磁気記録媒体 |
CN101683763A (zh) * | 2008-09-25 | 2010-03-31 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 制造具有微结构导光板的模仁及制造方法 |
US20100072671A1 (en) * | 2008-09-25 | 2010-03-25 | Molecular Imprints, Inc. | Nano-imprint lithography template fabrication and treatment |
US8470188B2 (en) * | 2008-10-02 | 2013-06-25 | Molecular Imprints, Inc. | Nano-imprint lithography templates |
US20100104852A1 (en) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | Molecular Imprints, Inc. | Fabrication of High-Throughput Nano-Imprint Lithography Templates |
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- 2006-06-30 US US11/479,779 patent/US20080000373A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-06-22 CN CN2007800243849A patent/CN101479662B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-22 EP EP07796384A patent/EP2038705A2/en not_active Withdrawn
- 2007-06-22 JP JP2009518186A patent/JP5033874B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-22 KR KR1020097001884A patent/KR20090034361A/ko active IP Right Grant
- 2007-06-22 WO PCT/US2007/014641 patent/WO2008005208A2/en active Application Filing
-
2009
- 2009-07-31 US US12/533,506 patent/US20090295041A1/en not_active Abandoned
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