JP2009542861A - シラン類含有組成物 - Google Patents
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Classifications
-
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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Abstract
ペルフルオロ低級アルカンスルホンアミド誘導シラン(有機溶媒中)は、ケイ質基材の処理に有益であることが記載されている。組成物は、追加の非フッ素化物を混合物又は縮合生成物中に含有していてもよい。ペルフルオロ低級アルカンスルホンアミド誘導シランの調製方法についてもまた記載されている。
Description
(関連出願の相互参照)
出願は、米国特許出願通し番号第11/466,620号(2006年8月23日出願)、及び米国特許出願通し番号第11/428,710号(2006年7月5日出願)に対する優先権を主張する。
出願は、米国特許出願通し番号第11/466,620号(2006年8月23日出願)、及び米国特許出願通し番号第11/428,710号(2006年7月5日出願)に対する優先権を主張する。
フルオロケミカル化合物は、各種基材に撥油性及び撥水性のものをコーティングする又はそれらを付与するため、あるいはそこへ汚れ防止及び汚れ放出などのその他の望ましい特性を付与することでよく知られ、商業的に使用されている。
少なくとも4個の炭素原子をフルオロアルキル基内に有するフルオロケミカルアルカンスルホアミドシランは、基材処理のためのものとして知られている。加えて、少なくとも4個の炭素原子をフルオロアルキル基内に有するフルオロケミカルオリゴマーシランが、硬い表面(例えば、ガラス又は結晶性セラミックス)処理のためのものとして知られている。
撥液性特性を基材へ与えるための多くの既知であるフルオロケミカル組成物にも関わらず、初期撥液性を向上させ得る及び/又は耐久性(即ち、撥液性がたとえ磨耗条件下であってもより長期間持続する)を向上させ得る組成物を更に見出したいとの要望が継続している。
一態様においては、本発明は、式(I):
RfaSO2−N(R)(CnH2n)CHZ(CmH2m)N(R’)SO2Rfb
I
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1 つは1である。)であり;
RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
m及びnは各々独立して1〜20の整数であり;
Zは水素及び式:−(CtH2t)−X−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、tは0〜4の整数であり、−X−は−O−、−S−及び−NH−からなる群から選択され;−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’が非加水分解性基であり;そして、wは0〜2の整数である。}の基からなる群から選択され;
R’はC1〜C6のアルキル基、アリール基、及び式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基からなる群から選択されるが、ただし、Zが水素の場合、R’は式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基である。]
の少なくとも1種のシランからなる、フルオロケミカル組成物、を与える。
RfaSO2−N(R)(CnH2n)CHZ(CmH2m)N(R’)SO2Rfb
I
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1 つは1である。)であり;
RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
m及びnは各々独立して1〜20の整数であり;
Zは水素及び式:−(CtH2t)−X−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、tは0〜4の整数であり、−X−は−O−、−S−及び−NH−からなる群から選択され;−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’が非加水分解性基であり;そして、wは0〜2の整数である。}の基からなる群から選択され;
R’はC1〜C6のアルキル基、アリール基、及び式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基からなる群から選択されるが、ただし、Zが水素の場合、R’は式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基である。]
の少なくとも1種のシランからなる、フルオロケミカル組成物、を与える。
別の態様では、本発明は、上述のフルオロケミカル組成物を含み、それは、シラン(複数)を溶解させる及び/又は分散させるのに十分な量の有機溶媒を含む。
別の態様では、式(II):
M(Y’)s(Y)r−s
II
(式中、Mは、Si、Ti、Zi、Al、V、Sn、及びZnからなる群から選択され;
Y’が非加水分解性基であり、
Yは加水分解性基であり、
sは0、1又は2であり、
そしてrは4、3又は2である。)
の少なくとも1種の化合物を更に含む上述のフルオロケミカル組成物を与える。
M(Y’)s(Y)r−s
II
(式中、Mは、Si、Ti、Zi、Al、V、Sn、及びZnからなる群から選択され;
Y’が非加水分解性基であり、
Yは加水分解性基であり、
sは0、1又は2であり、
そしてrは4、3又は2である。)
の少なくとも1種の化合物を更に含む上述のフルオロケミカル組成物を与える。
別の態様では、本発明は、式Iのシランの少なくとも1つと式IIの化合物の少なくとも1つとの組み合わせ与え、それは、両構成成分を溶解させる及び/又は分散させるのに十分な量の有機溶媒を有する。
本発明は、式Iのシランの少なくとも1つ、及び所望により、式IIの化合物の少なくとも1つを含む有機溶媒中フルオロケミカル組成物を、基材表面の少なくとも1部分へ適用することによるケイ質基材の処理方法をも含む。
別の態様では、本発明は、式Iのシランを調製するための方法を与える。一実施形態では、本発明は、式:RfaSO2−N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbのシランの調製を与え、それは
(a)式(III):
(a)式(III):
の化合物と、
(b)式:Rfb−SO2−NHRの化合物と、
(c)塩基と、
を反応させて、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化の化合物を与えること、及び、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と、式:W−Q−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物とを反応させて、式:RfaSO2N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること;
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pが1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただし、p又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
各Rは独立してC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
WはI−、Br−、Cl−、及びOCN−からなる群から選択され;
そして、Z’は式:−O−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そしてwは0〜2の整数である。}の基である。]からなる。
(b)式:Rfb−SO2−NHRの化合物と、
(c)塩基と、
を反応させて、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化の化合物を与えること、及び、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と、式:W−Q−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物とを反応させて、式:RfaSO2N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること;
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pが1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただし、p又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
各Rは独立してC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
WはI−、Br−、Cl−、及びOCN−からなる群から選択され;
そして、Z’は式:−O−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そしてwは0〜2の整数である。}の基である。]からなる。
本発明の組成物は、ケイ質表面(例えば、衛生的なセラミックス、セラミックタイル、及びガラス)に対して、典型的には効率的にそして効果的な撥油性及び撥水性を示す。幾つかの実施形態では、2つのフルオロケミカル基を含有する本発明の組成物は、同一分子サイズの単一フルオロケミカル基を含有する組成物よりも、高撥油性及び高撥水性表面を形成するのにより効果的である。少なくとも幾つかの実施形態では、本発明の組成物は、ペルフルオロオクタンスルホンアミドシランへ同等性能を付与する。
幾つかの実施形態では、本発明の組成物は、油又はガスの少なくとも1つを有する砂岩の湿潤性を変化させるために使用することができる。これらの実施形態の幾つかでは、砂岩は、液化炭化水素(ガスコンデンセート)によって坑井近傍でブロックされた地下ガス貯蔵庫である。場合によっては、湿潤性改質は、砂岩を抜ける流体移動度を増大させる。オイルベアリング及び/又はガスベアリング形成にて使用される場合、このような流体移動度の増大によって、形成によって設置された坑井のためにより多くの炭化水素が製造される。更なる詳細については、シリアル番号PCT/US2007/003949(2007年2月13日出願)を有する同時係属出願を参照のこと。
式(I):
RfaSO2−N(R)(CnH2n)CHZ(CmH2m)N(R’)SO2Rfb
I
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbがCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
m及びnは各々独立して1〜20の整数であり;
Zは水素及び式:−(CtH2t)−X−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、tは0〜4の整数であり、−X−は−O−、−S−及び−NH−からなる群から選択され;−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そして、wは0〜2の整数である。}の基からなる群から選択され;
R’はC1〜C6のアルキル基、アリール基、及び式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基からなる群から選択されるが、ただし、Zが水素の場合、R’は式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基である。]
の少なくとも1種のシランからなる、フルオロケミカル組成物である。
RfaSO2−N(R)(CnH2n)CHZ(CmH2m)N(R’)SO2Rfb
I
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbがCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
m及びnは各々独立して1〜20の整数であり;
Zは水素及び式:−(CtH2t)−X−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、tは0〜4の整数であり、−X−は−O−、−S−及び−NH−からなる群から選択され;−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そして、wは0〜2の整数である。}の基からなる群から選択され;
R’はC1〜C6のアルキル基、アリール基、及び式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基からなる群から選択されるが、ただし、Zが水素の場合、R’は式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基である。]
の少なくとも1種のシランからなる、フルオロケミカル組成物である。
本発明のフルオロケミカル組成物では、式Iのシランの少なくとも1つを、式(II):
M(Y’)s(Y)r−s
II
(式中、MはSi、Ti、Zi、Al、V、Sn、及びZnからなる群から選択され、 Y’は非加水分解性基であり、
Yは加水分解性基であり、
sは0、1又は2であり、
そしてrは4、3又は2である。)
の化合物の少なくとも1つと混ぜ合わせ(反応させる場合も含む)てもよい。
M(Y’)s(Y)r−s
II
(式中、MはSi、Ti、Zi、Al、V、Sn、及びZnからなる群から選択され、 Y’は非加水分解性基であり、
Yは加水分解性基であり、
sは0、1又は2であり、
そしてrは4、3又は2である。)
の化合物の少なくとも1つと混ぜ合わせ(反応させる場合も含む)てもよい。
ペルフルオロアルカンスルホンアミド基は、各々1〜5個の炭素原子を含有してよく、そして線状、分枝状又は環状であってよい。幾つかの実施形態では、ペルフルオロアルキル基:Rfa及びRfbは、両方ともにトリフルオロメチル(即ち、p及びqが各々1)である。あるいは、幾つかの実施形態では、Rfaがトリフルオロメチルであり、そしてRfb(即ち、pが1であり、そしてqが2〜5の整数である)が、2〜5個の炭素原子を含有する。これらの実施形態の幾つかでは、Rfb(即ち、pが1であり、そしてqが4である。)が、4個の炭素原子を含有する。あるいは、幾つかの実施形態では、Rfbがトリフルオロメチルであり、そしてRfa(即ち、qが1であり、そしてpが2〜5の整数である)が、2〜5個の炭素原子を含有する。これらの実施形態の幾つかでは、Rfa(即ち、qは1であり、そしてpは4である)が、4個の炭素原子を含有する。
式Iのシランの幾つかの実施形態では、mが1〜6の整数であり、そしてnが1〜6の整数である。式Iの幾つかの実施形態では、p及びqが両方とも1であり、そしてm及びnが各々独立して1〜6の整数である。式(I)のその他の実施形態では、pが4であり、qが1であり、そしてm及びnが各々独立して1〜6である。式Iの幾つかの実施形態では、n及びmの合計が2であり、Xが0であり、そしてQが−C(O)NH(CH2)3−である。
本明細書で使用する時、用語「アルキル」とは、直鎖、分岐鎖、及び環状アルキルを意味する。例えば、C1〜C6アルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、シクロブチル、イソブチル、及び三級ブチルが挙げられる。幾つかの実施形態では、R及びR’は、各々独立して−CH3又は−CH2CH3である。幾つかの実施形態では、R及びR’は、各々−CH3である。幾つかの実施形態では、Rが−CH3又は−CH2CH3である。
本明細書で使用する時、用語「アリール」とは、所望により、少なくとも1つの環内へテロ原子(例えば、O、S、N)を含有する、芳香環又は複環系を含む。アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、ビフェニル、及びピリジニルが挙げられる。アリール基は、非置換でも5個以下の置換基(例えば、アルキル(上記にて定義した通り)、1〜4個の炭素原子のアルコキシ、ハロ(即ち、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード)、ヒドロキシ、アミノ、及びニトロ)によって置換されていてよい。幾つかの実施形態では、置換基が存在する場合、置換基は、ハロ及びアルキル置換基である。
式Iの幾つかの実施形態では、vが1〜10の整数であり、そして一実施形態では、vが3である。
式Iの幾つかの実施形態では、Qは−(CH2)v−(式中vが1〜10の整数である。)である。幾つかの実施形態では、Qが−C(O)NH(CH2)v−(式中vが1〜10の整数である。)である。
式Iの幾つかの実施形態では、Zは−O−Q−Si(Y)3(式中、各Yは、独立して−Cl又はC1〜C4アルコキシ基である)である。他の実施形態では、Zは水素であり、そしてR’が−(CH2)v−Si(Y)3(式中、各Yが独立して−Cl又はC1〜C4のアルコキシ基である。)である。
本発明に関連した「加水分解性基」という用語は、適切な条件下で直接縮合反応を受けることができる基又は適切な条件下で加水分解でき、よって縮合反応を受けることができる化合物を生じさせる基を意味する。適切な条件としては、任意に別の縮合触媒(例えば、Sn化合物)の存在下での酸性水性条件又は塩基性水性条件が挙げられる。
加水分解性基Yは同一でも異なっていてもよく、そしてフルオロケミカルオリゴマーが縮合反応に関わることができるように、適切な条件下、例えば酸性水性条件又は塩基性水性条件下で一般に加水分解可能である。好ましくは、加水分解性基は加水分解によって、(シラノール基などの)縮合反応を受けることができる基を生じさせる。
加水分解性基の例としては、ハロゲン元素(即ち、塩素、臭素、ヨウ素、及びフッ素)、アルコキシ基−OR’’(式中、R’’は低級アルキル基を表し、好ましくは1〜6個の、より好ましくは1〜4個の炭素原子を含有し、そして所望により1以上のハロゲン原子によって置換されていてよい)、アシルオキシ基−O(CO)−R’’、アリールオキシ基−OR’’’(式中、R’’’はアリール部分を表し、好ましくは6〜12個、より好ましくは6〜10個の炭素原子を含有し、ハロゲン元素、及びC1〜C4のアルキル基(所望により、1以上のハロゲン原子によって置換されていてよい)から独立して選択される1以上の置換基によって任意的に置換されてよい。)が挙げられる。上記の式において、R’’及びR’’’は、直鎖、分岐鎖及び/又は環状構造を含んでよい。加水分解性基の具体例には、メトキシ基、エトキシ基、及びプロポキシ基及び塩素が挙げられる。幾つかの実施形態では、各加水分解性基Yは、独立して−Cl又はC1〜C4のアルコキシ基である。幾つかの実施形態では、各Yは、独立して、−Cl、−OCH3又は−OCH2CH3である。
非加水分解性基Y’は、同一でも異なっていてもよく、一般的に縮合反応のための条件(例えば、加水分解性基が加水分解される酸性水性条件又は塩基性水性条件)下にて加水分解不可能である。非加水分解性基Y’は、独立して炭化水素基、例えばアルキル基であってよく、幾つかの実施形態では1〜4個の炭素原子を含有するアルキル基であってよい。幾つかの実施形態では、各非加水分解性基Y’は、独立してC1〜C6のアルキル基又はアリール基である。幾つかの実施形態では、Y’は、−CH3又は−CH2CH3である。
式IIの幾つかの実施形態では、MがSiであり、Y’が、−CH3又は−CH2CH3であり、そして各Yが独立して、−Cl、−OCH3又は−OCH2CH3である。
本発明の代表的フルオロケミカル化合物としては、(CF3SO2N(CH3)CH2)2CHOC3H6Si(OCH3)3、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOC(O)NH(CH2)3Si(OCH3)3、
及びこれらの混合物が挙げられる。幾つかの実施形態では、本発明のフルオロケミカル組成物は、少なくとも1つの[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOC(O)NH(CH2)3Si(OCH3)3又は
を含む。幾つかの実施形態では、本発明のフルオロケミカル組成物は、少なくとも1つの[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOC(O)NH(CH2)3Si(OCH2CH3)3又は
を含む。
本発明のフルオロケミカル化合物は、従来法にて調製されてよい。例えば、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOHは、2モルのCF3SO2NH(CH3)を、1,3−ジクロロ−2−プロパノール又はエピクロロヒドリンのいずれか一方と塩基の存在下にて反応させることにより調製してよい。[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOCH2CH2CH2Si(OCH3)3は、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOHを、ClCH2CH2CH2Si(OCH3)3とアルキル化することによって、又は塩化アリルとアルキル化することによって、そして続いてHSiCl3及びメタノリシスとのヒドロシル化させることによって、調製することができる。[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOHをOCNCH2CH2CH2Si(OCH3)3と反応させると、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOCONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3が生じる。[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOHをOCNCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)3と反応させると、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOCONHCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)3が生じる。化合物調製のために使用される試薬は、一般の化学物質製造業者、例えば、シグマ−アルドリッチ社(Sigma-Aldrich Company)(ウィスコンシン州ミルウォーキー)から入手可能であり、あるいは従来法にて合成してよい。
式Iのシラン調製のための有用な中間体は、式(III)の化合物である。
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基である。]式IIIの中間体は、例えば式:RfaSO2NH(R)の化合物を過剰のエピクロロヒドリンと反応させることによって調製することができる。式IIIの特に有用な中間体は、N−メチル−N−(オキシラン−2−イルメチル)ペルフルオロブタン−1−スルホンアミドである。式(III)の別の特に有用な中間体は、N−メチル−N−(オキシラン−2−イルメチル)トリフルオロメタンスルホンアミドである。
本発明は、式:RfaSO2−N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbのシランの調製方法、前記方法は、
(a)式(III):
(a)式(III):
の化合物と、
(b)式:Rfb−SO2−NHRの化合物と、
(c)塩基と、
を反応させて、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること、及び、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と、式:W−Q−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物とを反応させて、式:RfaSO2N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること;
Wは、I−、Br−、Cl−、及びOCN−からなる群から選択され;そしてZ’は式:−O−Q−Si(Y’)w(Y)3−w {式中−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’が非加水分解性基であり;そしてwは0〜2の整数である。}の基である。]からなる。
(b)式:Rfb−SO2−NHRの化合物と、
(c)塩基と、
を反応させて、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること、及び、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と、式:W−Q−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物とを反応させて、式:RfaSO2N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること;
Wは、I−、Br−、Cl−、及びOCN−からなる群から選択され;そしてZ’は式:−O−Q−Si(Y’)w(Y)3−w {式中−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’が非加水分解性基であり;そしてwは0〜2の整数である。}の基である。]からなる。
前記方法の幾つかの実施形態では、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1つは1である。)であり;RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基である。幾つかの実施形態では、pが2〜5の整数である。これらの実施形態の幾つかでは、pが4である。幾つかのその他の実施形態では、pが1である。幾つかの実施形態では、RがC1〜C4のアルキル基である。これらの実施形態の幾つかでは、Rは−CH3である。
前記方法の幾つかの実施形態では、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物は、
式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−w(式中、Halは、I−、Br−、及びCl−の基からなる群から選択される。)の化合物と反応する。前記方法のその他の実施形態では、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物は、
式:OCN−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物と反応する。
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物は、
式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−w(式中、Halは、I−、Br−、及びCl−の基からなる群から選択される。)の化合物と反応する。前記方法のその他の実施形態では、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物は、
式:OCN−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物と反応する。
式IIIの化合物とRfb−SO2−NHRと塩基との反応を、好適な溶媒(例えば、テトラヒドロフラン)内にて実施してよい。化合物と塩基とは、任意の順序で混ぜ合わせてよい。式IIIの化合物は、式:Rfb−SO2−NHRの化合物、又は式:Rfb−SO2−NHRの化合物の溶液に加えられてよく、所望により溶媒中で、式IIIの化合物の溶液へと加えられてよい。多くの好適な塩基が、当業者に知られている。塩基は、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、又はこれらの組み合わせであってもよく、そして水溶液として存在してよい。反応は、式IIIの化合物とRfb−SO2−NHRと塩基とを攪拌させることにより、そして所望により加熱することにより行うことができる。加熱は、少なくとも50℃の温度で、幾つかの実施形態では、少なくとも60℃で実施してよい。温度は、溶媒の還流温度でよい。
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と、式:Hal−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物との反応は、塩基の存在下にて、好適な溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、メタノール、又はジグリム)内にて行うことができる。反応は、高温(例えば、溶媒の還流温度)にて行うことができる。式IIIの化合物と式:Rfb−SO2−NHRとを反応させるための上記塩基を使用することが可能である。式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と式:OCN−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物との反応は、室温にて好適な溶媒(例えば、テトラヒドロフラン)内で、触媒(例えば、ジラウリン酸ジブチル錫)の存在下で実施してよい。
本発明の組成物としては、少なくとも1種の有機溶媒を挙げることが可能である。使用される有機溶媒又は有機溶媒のブレンドは、式Iの1種のシランを、そして所望により、少なくとも1種のシランと式IIの少なくとも1種の化合物との混合物を溶解させることができなければならない。
好適な有機溶媒としては、脂肪族アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール)、ケトン(例えば、アセトン又はメチルエチルケトン)、エステル(例えば、エチルアセテート、メチルホルメート)、エーテル(例えば、ジエチルエーテル又はジプロピレングリコールモノメチルエーテル(DPM))、及びこれらの混合物が挙げられる。
式Iのシランと式IIの化合物との組み合わせにおいては、組み合わせは、少なくとも1種のフルオロケミカルシランと式IIの非フッ素化化合物の少なくとも1種との縮合反応がほぼ完了した後に得られる混合物又は縮合生成物であってもよい。「実質的に完全な縮合反応」という用語は、反応が完全であるか、又は混合物中の加水分解性基の少なくとも80%、幾つかの実施形態では、少なくとも90%が消失したかのいずれかであることを意味する。反応の完了は、赤外分光法、29Si−NMR、及び13C−NMRを用いてモニターすることができる。
更なる態様において、本発明は、前記1種以上のフルオロケミカルシランと前記1種以上の非フッ素化化合物の部分縮合反応後に得ることができる縮合生成物を含む組成物を与える。本発明に関連した「部分縮合」及び「部分縮合体」は、混合物中の加水分解性基の1部が、縮合反応に利用できる相当量の加水分解性基を残しつつ反応したことを意味する。通常は、部分縮合体とは、少なくとも20%、幾つかの実施形態では、少なくとも30%、そして幾つかの実施形態では、少なくとも50%の加水分解性基が、更なる縮合反応のために依然として利用可能であることを意味する。
式IIの化合物の代表的な例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン(TEOS)、メチルトリエトキシシラン(MTEOS)、ジメチルジエトキシシラン(DDS)、及びテトラエチルヘキシルチタネートが挙げられる。
式Iのシランと式IIの化合物との組み合わせ又は縮合生成物は、化合物を溶解させるのに十分な量で上記有機溶媒を含有することが可能である。
式I及びIIの化合物が、約100:0〜約1:99の範囲の重量比で存在し、幾つかの実施形態では、約50:50〜約10:90の範囲の重量比で存在する。
式Iの少なくとも1種のシラン及び式IIの少なくとも1種の化合物との組み合わせが、縮合反応生成物である場合、構成成分を、所望により追加の架橋剤を反応させることによって、反応生成物が得られる。通常は、反応生成物は部分縮合体であり、あるいは、実質的完全縮合生成物が形成される。
重縮合反応は、出発物質たる構成成分を有機溶媒内で、好ましくは室温にて、十分な水の存在下で混合して、加水分解性基の加水分解を達成することによって都合良く実施される。幾つかの実施形態では、水分量は、全組成物の0.1重量%〜20重量%の範囲、あるいは場合によって1重量%〜10重量%の範囲であり得る。水に加えて、有機又は無機の、酸触媒又は塩基触媒を使用するのが有利である。
有機酸触媒としては、酢酸、クエン酸、蟻酸、トリフリック酸、ペルフルオロ酪酸などが挙げられる。無機酸の例としては、硫酸及び塩酸が挙げられる。有用な塩基触媒の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム及びトリエチルアミンが挙げられる。酸触媒又は塩基触媒は一般に、全組成物の約0.01重量%〜10重量%の範囲で使用され、幾つかの実施形態では、0.05重量%〜5重量%の範囲で使用される。
式I及びIIの構成成分、及び任意に追加の架橋剤、及び/又はそれらの部分重縮合生成物又は完全重縮合生成物を含む本発明の組成物は、一般に、撥水性及び撥油性であるコーティングを作り出すのに十分な量で基材に適用される。本コーティングは非常に薄いものであり得る(例えば、1〜50分子層である。ただし、実際には、有用なコーティングはより厚いものであり得る)。
本発明のフルオロケミカル縮合体混合物を含むフルオロケミカル組成物で特定の有効な方法において処理できる好適な基材には、フッ素化縮合体と反応できる基を好ましくは有する硬表面の基材が挙げられる。特に好ましい基材としては、セラミックス及びガラスが挙げられる。撥水性、そして撥油性のコーティングを物品上に付与するために、種々の物品を本発明のフルオロケミカル組成物で効果的に処理することが可能である。例としては、セラミックタイル、バスタブ又はトイレット、ガラスシャワーパネル、建築ガラス、車両の種々の部品(例えば、ミラー又はウィンドスクリーン)、そしてセラミック(例えば、ガラス、結晶性セラミック、及びエナメル陶器材料)が挙げられる。
基材を処理することによって、処理表面に撥油性及び撥水性が付与されるので、処理表面は汚れにくくなり、そしてより簡単に汚れを除去することができるようになる。これらの望ましい特性は、本発明の組成物を通して得ることができるような処理表面の高い耐久度のゆえに、長い期間の暴露又は使用及び繰り返しの洗浄にも関わらず維持される。更に、処理表面は、紫外線への曝露に対して良好な耐久性を有する(即ち、紫外線に晒されても、撥液性は実質的に劣化しない)。
基材の処理を行うために、好ましくは上述開示された溶媒組成物の形を取ったフルオロケミカル組成物は基材に適用される。基材上にコーティングされるべきフルオロケミカル組成物の量は、一般に、撥水性、そして撥油性であるコーティングをもたらすのに十分な量であり、こうしたコーティングは、コーティングの乾燥及び硬化後に測定して、少なくとも80度の蒸留水による接触角及び少なくとも40度のn−ヘキサデカンによる接触角を20℃で有する。幾つかの実施形態では、このようなコーティングは、20℃にて、コーティングの乾燥及び硬化後に、測定された少なくとも85度の蒸留水との接触角、及び少なくとも45度のn−ヘキサデカンとの接触角を有する。
好ましくは、最適な特性、特に最適な耐久性を得るために、本発明の組成物を適用する前に基材が清浄でなければならない。即ち、コーティングされるべき基材の表面は、コーティング前に、有機汚染物質を実質的に含んではならない。クリーニング方法は基材のタイプに応じて異なり、例えば、アセトン又はエタノールなどの有機溶媒による溶媒洗浄工程を含む。
一実施形態では、基材へ適用するための組成物は、有機溶媒中の少なくとも25重量%固形物からなる溶液を含む濃縮物に、有機溶媒又は溶媒混合物を添加することにより濃縮物を希釈することにより調製される。
多種多様なコーティング方法(例えば、ブラシ掛け、スプレー、浸漬、圧延及び展延)を使用して、本発明の組成物を適用することができる。幾つかの実施形態では、フルオロケミカル組成物を適用するためのコーティング方法としては、スプレー適用が挙げられる。コーティングされるべき基材は、典型的には室温(典型的には、約20℃〜約25℃)にて、処理組成物に接触させることが可能である。あるいは、混合物は、例えば、60℃〜150℃の範囲の温度にて、予熱された基材に適用することが可能である。これは、工業生産にとっては特別な関心事であり、そこでは例えばセラミックタイルの場合、製造ラインの終端で加熱炉から出た直後に処理することができる。適用後、処理された基材は、乾燥及び硬化に十分な時間に亘り、周囲温度又は高温(例えば、40℃〜300℃)にて、乾燥及び硬化させることが可能である。あるいは、熱処理に加えて、コーティング組成物は、反応開始剤の存在下にて、当業者に既知の方法で、照射(例えば、UV照射装置、レーザー等)によって硬化してよい。前記プロセスは、過剰な材料を除去するための研磨工程も必要とする場合がある。
別途注記のない限り、実施例、そして本明細書の残部におけるすべての部分、割合、及び比率は、重量による。
試験溶液のコーティング
以下の如く調製したテスト溶液に、室温にて15秒間スライドガラスを浸漬し、毎秒0.25cm(0.1インチ)で引き上げて、乾燥させた。
以下の如く調製したテスト溶液に、室温にて15秒間スライドガラスを浸漬し、毎秒0.25cm(0.1インチ)で引き上げて、乾燥させた。
接触角測定
水及びn−ヘキサデカンに対する前進接触角及び後退接触角は、KRUSS G120/G140 MKIゴニオメーター(米国Kruss、(ノースカロライナ州シャーロット))を使用して上記で調製したコーティングされたスライドガラス上にて測定した。接触角の値が大きいほど、撥液性が優れていることを示している。以下で報告された値は、2〜4回測定した際の平均値であり、「度」で報告する。
水及びn−ヘキサデカンに対する前進接触角及び後退接触角は、KRUSS G120/G140 MKIゴニオメーター(米国Kruss、(ノースカロライナ州シャーロット))を使用して上記で調製したコーティングされたスライドガラス上にて測定した。接触角の値が大きいほど、撥液性が優れていることを示している。以下で報告された値は、2〜4回測定した際の平均値であり、「度」で報告する。
(実施例1)
パートA
CF3SO2NHCH3[163グラム(g)、1モル(mol)](N−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド、一般に、米国特許第3,609,187号、実施例1にて記載されているように調製されたもの)、50%水酸化ナトリウム水溶液(40.8グラム)、及びテトラヒドロフラン(THF)(250mL)の混合物を、エピクロロヒドリン(45.7グラム、0.5モル)にて処理し、68℃にて約18時間攪拌した。未反応のCF3SO2NHCH3が存在することが、ガス/液体クロマトグラフィー(GLC)分析によって確認されたが、50%水酸化ナトリウム水溶液を10グラムずつ4回に分けて更に添加して、それぞれ加えた後に1時間待った。生成物混合物を冷却し、水の等容積に加え、塩化メチレンで抽出し、無水MgSO4上で乾燥し、濃縮して167.6グラムの油を与えて、後に固形化させた。部分(20グラム)を真空蒸留[沸点(bp)192℃/67Pa(0.5mmHg)]にて精製し、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOH・16.7グラムを与えた。
CF3SO2NHCH3[163グラム(g)、1モル(mol)](N−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド、一般に、米国特許第3,609,187号、実施例1にて記載されているように調製されたもの)、50%水酸化ナトリウム水溶液(40.8グラム)、及びテトラヒドロフラン(THF)(250mL)の混合物を、エピクロロヒドリン(45.7グラム、0.5モル)にて処理し、68℃にて約18時間攪拌した。未反応のCF3SO2NHCH3が存在することが、ガス/液体クロマトグラフィー(GLC)分析によって確認されたが、50%水酸化ナトリウム水溶液を10グラムずつ4回に分けて更に添加して、それぞれ加えた後に1時間待った。生成物混合物を冷却し、水の等容積に加え、塩化メチレンで抽出し、無水MgSO4上で乾燥し、濃縮して167.6グラムの油を与えて、後に固形化させた。部分(20グラム)を真空蒸留[沸点(bp)192℃/67Pa(0.5mmHg)]にて精製し、[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOH・16.7グラムを与えた。
パートB
125mLボトル内で、乾燥THF(40mL)中のパートA(7.6グラム、0.020モル)からの[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOHの溶液を、OCN(CH2)3Si(OCH2CH3)3(5.0グラム、0.020モル)及びジブチルスズジラウレート(2滴)にて処理した。反応物は、60℃、回転水浴中にて40時間加熱した。赤外分光法による分析は、残留イソシアネートが存在しないことを示した。[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOC(O)NH(CH2)3Si(OCH2CH3)3を含有する得られた溶液は、重さが53.4グラムであり、23.6%の固形分を含有していると推定された。
125mLボトル内で、乾燥THF(40mL)中のパートA(7.6グラム、0.020モル)からの[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOHの溶液を、OCN(CH2)3Si(OCH2CH3)3(5.0グラム、0.020モル)及びジブチルスズジラウレート(2滴)にて処理した。反応物は、60℃、回転水浴中にて40時間加熱した。赤外分光法による分析は、残留イソシアネートが存在しないことを示した。[CF3SO2N(CH3)CH2]2CHOC(O)NH(CH2)3Si(OCH2CH3)3を含有する得られた溶液は、重さが53.4グラムであり、23.6%の固形分を含有していると推定された。
試験液調製及び接触角測定
パートBからの溶液(1.0グラム)をエタノール(18グラム)、濃塩酸(1.0グラム、37%)、及びイソプロパノール(5グラム)にて希釈し、1%溶液を与えた。前記試験液を調製して約1週間後、上記手順に従ってスライドガラス上にコーティングした。前進接触角及び後退接触角は、上記のようにして測定した。水に対する前進接触角は84度及び後退接触角は40度であった。n−ヘキサデカンに対する前進接触角は44度及び後退接触角は9度であった。
パートBからの溶液(1.0グラム)をエタノール(18グラム)、濃塩酸(1.0グラム、37%)、及びイソプロパノール(5グラム)にて希釈し、1%溶液を与えた。前記試験液を調製して約1週間後、上記手順に従ってスライドガラス上にコーティングした。前進接触角及び後退接触角は、上記のようにして測定した。水に対する前進接触角は84度及び後退接触角は40度であった。n−ヘキサデカンに対する前進接触角は44度及び後退接触角は9度であった。
(実施例2)
パートA
C4F9SO2NHCH3(313グラム、1.00モル)(通常は、米国特許第6,664,354号、実施例1、パートAにて記載されて如く調製される)、及びナトリウムメトキシド(メタノール中25%溶液の216グラム)の混合物を固形物となるまで濃縮し、乾燥THF(500mL)中に溶解させた。エピクロロヒドリン(120.2グラム、1.3モル)を、得られた溶液へ速やかに添加し、前記混合物を還流状態(64℃)で20時間攪拌した。冷却された混合物を約1Lの水で洗浄し、ジクロロメタンを使用して、有機フラクションを移動させた。有機フラクションを無水MgSO4上で乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮させた。残留物を単段蒸留[沸点90℃、8Pa(0.06mmHg)]にて精製し、155.2グラムのN−メチル−N−(オキシラン−2−イルメチル)ペルフルオロブタン−1−スルホンアミドを与えた(98%純度であることはGLCにて確認した)。
C4F9SO2NHCH3(313グラム、1.00モル)(通常は、米国特許第6,664,354号、実施例1、パートAにて記載されて如く調製される)、及びナトリウムメトキシド(メタノール中25%溶液の216グラム)の混合物を固形物となるまで濃縮し、乾燥THF(500mL)中に溶解させた。エピクロロヒドリン(120.2グラム、1.3モル)を、得られた溶液へ速やかに添加し、前記混合物を還流状態(64℃)で20時間攪拌した。冷却された混合物を約1Lの水で洗浄し、ジクロロメタンを使用して、有機フラクションを移動させた。有機フラクションを無水MgSO4上で乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮させた。残留物を単段蒸留[沸点90℃、8Pa(0.06mmHg)]にて精製し、155.2グラムのN−メチル−N−(オキシラン−2−イルメチル)ペルフルオロブタン−1−スルホンアミドを与えた(98%純度であることはGLCにて確認した)。
パートB
パートAからのN−メチル−N−(オキシラン−2−イルメチル)ペルフルオロブタン−1−スルホンアミド(3.7グラム、10ミリモル)とN−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド(1.70グラム、10.4ミリモル)とのTHF(20mL)中混合物を水酸化ナトリウム水溶液(0.25グラム、50%)で処理し、反応物は、60℃、回転水浴中にて18時間加熱した。THFを減圧下にて除去し、油を得た。前記油をヘキサンにて2回粉砕(triturated)し、1−N−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド−3−N−メチルペルフルオロブタンスルホンアミドプロパン−2−オールを白色固体(融点79〜85℃)として得た(GLCにより純粋なものであると確認した)。
パートAからのN−メチル−N−(オキシラン−2−イルメチル)ペルフルオロブタン−1−スルホンアミド(3.7グラム、10ミリモル)とN−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド(1.70グラム、10.4ミリモル)とのTHF(20mL)中混合物を水酸化ナトリウム水溶液(0.25グラム、50%)で処理し、反応物は、60℃、回転水浴中にて18時間加熱した。THFを減圧下にて除去し、油を得た。前記油をヘキサンにて2回粉砕(triturated)し、1−N−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド−3−N−メチルペルフルオロブタンスルホンアミドプロパン−2−オールを白色固体(融点79〜85℃)として得た(GLCにより純粋なものであると確認した)。
パートC
パートBからの1−N−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド−3−N−メチルペルフルオロブタンスルホンアミドプロパン−2−オールの乾燥THF(20mL)中の濁った溶液(4.2グラム、7.9ミリモル)を濾過して、微量の不溶性物質を除去し、得られた透明溶液をOCN(CH2)3Si(OCH2CH3)3(1.95グラム、7.9ミリモル)及びジブチルスズジラウレート(1滴)にて処理した。反応物は、蒸気浴上にて30分間40℃にて加熱した。赤外分光法による分析は、残留イソシアネートが存在しないことを示した。表題化合物を含有する得られた溶液の重量は、30.2グラムであった。
パートBからの1−N−メチルトリフルオロメタンスルホンアミド−3−N−メチルペルフルオロブタンスルホンアミドプロパン−2−オールの乾燥THF(20mL)中の濁った溶液(4.2グラム、7.9ミリモル)を濾過して、微量の不溶性物質を除去し、得られた透明溶液をOCN(CH2)3Si(OCH2CH3)3(1.95グラム、7.9ミリモル)及びジブチルスズジラウレート(1滴)にて処理した。反応物は、蒸気浴上にて30分間40℃にて加熱した。赤外分光法による分析は、残留イソシアネートが存在しないことを示した。表題化合物を含有する得られた溶液の重量は、30.2グラムであった。
試験液調製及び接触角測定
パートCからの溶液(2.0グラム)をエタノール(38グラム)、濃塩酸(1.0グラム、37%)、及びイソプロパノール(1.8グラム)にて希釈し、1%溶液を与えた。前記試験液を、上記手順に従って調製して2日以内に、スライドガラス上にコーティングした。前進接触角及び後退接触角は、上記のようにして測定した。水に対する前進接触角は97度及び後退接触角は40度であった。n−ヘキサデカンに対する前進接触角は60度及び後退接触角は37度であった。
パートCからの溶液(2.0グラム)をエタノール(38グラム)、濃塩酸(1.0グラム、37%)、及びイソプロパノール(1.8グラム)にて希釈し、1%溶液を与えた。前記試験液を、上記手順に従って調製して2日以内に、スライドガラス上にコーティングした。前進接触角及び後退接触角は、上記のようにして測定した。水に対する前進接触角は97度及び後退接触角は40度であった。n−ヘキサデカンに対する前進接触角は60度及び後退接触角は37度であった。
上の明細書、実施例、及びデータが、本発明の構成の製造及び使用について、完全な説明を提供する。本発明の多くの実施形態が、本発明の精神及び範囲を逸脱せずに行われ得るので、本発明は以後に添付される特許請求の範囲に存在する。
Claims (28)
- 式(I):
RfaSO2−N(R)(CnH2n)CHZ(CmH2m)N(R’)SO2Rfb
I
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
m及びnは各々独立して1〜20の整数であり;
Zは水素及び式:−(CtH2t)−X−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、tは0〜4の整数であり、−X−は−O−、−S−及び−NH−からなる群から選択され;−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そして、wは0〜2の整数である。}の基からなる群から選択され;
R’はC1〜C6のアルキル基、アリール基、及び式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基からなる群から選択されるが、ただし、Zが水素の場合、R’は式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基である。]
の少なくとも1種のシランからなる、フルオロケミカル組成物。 - p及びqが両方とも1であり、そしてm及びnが各々独立して1〜6の整数である、請求項1に記載の組成物。
- pが2〜5の整数であり、qが1であり、そしてm及びnが各々独立して1〜6である、請求項1に記載の組成物。
- pが4であり、qが1であり、そしてm及びnが各々独立して1〜6である、請求項1に記載の組成物。
- Zが−O−Q−Si(Y)3であり、そして各Yが独立して−Cl又はC1〜C4のアルコキシ基である、請求項1、2、3、又は4に記載の組成物。
- Qが−(CH2)v−(式中、vは1〜10の整数である。)である、請求項5に記載の組成物。
- Qが−C(O)NH(CH2)v−(式中、vは1〜10の整数である。)である、請求項5に記載の組成物。
- Zが水素であり、そしてR’が−(CH2)v−Si(Y)3(式中、各Yは独立して−Cl又はC1〜C4のアルコキシ基である。)である、請求項1又は4に記載の組成物。
- Rが−CH3又は−CH2CH3である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
- n及びmの合計が2であり、Xが0であり、そしてQが−C(O)NH(CH2)3−である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
- 有機溶媒を更に含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記溶媒が、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- 式(II):
M(Y’)s(Y)r−s
II
(式中、MはSi、Ti、Zi、Al、V、Sn、及びZnからなる群から選択され、
Y’は非加水分解性基であり、
Yは加水分解性基であり、
sは0、1又は2であり、そして
rは4、3又は2である。)
の少なくとも1種の化合物を更に含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載の組成物。 - 各Y’が独立してC1〜C6のアルキル基又はアリール基である、請求項14に記載の組成物。
- 各Yが独立して−Cl又はC1〜C4のアルコキシ基である、請求項14に記載の組成物。
- MがSiであり、Y’が−CH3又は−CH2CH3であり、そして各Yが独立して、−Cl、−OCH3又は−OCH2CH3である、請求項14に記載の組成物。
- 式IIの化合物が、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、又はテトラエチルヘキシルチタネートである、請求項14に記載の組成物。
- 式I及びIIの化合物が、約100:0〜約1:99の範囲の重量比で存在する、請求項14に記載の組成物。
- 式I及びIIの化合物が、約50:50〜約10:90の範囲の重量比で存在する、請求項14に記載の組成物。
- (a)式(I);
RfaSO2−N(R)(CnH2n)CHZ(CmH2m)N(R’)SO2Rfb
I
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただしp又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
RはC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
m及びnは各々独立して1〜20の整数であり;
Zは水素及び式:−(CtH2t)−X−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、tは0〜4の整数であり;−X−は−O−、−S−及び−NH−からなる群から選択され;−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そしてwは0〜2の整数である。}の基からなる群から選択され;
R’はC1〜C6のアルキル基、アリール基、及び式:−(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基からなる群から選択されるが、ただし、Zが水素の場合、R’は式:
(CH2)v−Si(Y’)w(Y)3−wの基である。]
の少なくとも1種のシラン;
(b)式(II):
M(Y’)s(Y)r−s
II
(式中、MはSi、Ti、Zi、Al、V、Sn、及びZnからなる群から選択され、
Y’は非加水分解性基であり、
Yは加水分解性基であり、
sは0、1又は2であり、そして
rは4、3又は2である。)
の少なくとも1種の化合物、および
(c)有機溶媒、
からなる、フルオロケミカル組成物。 - pが4であり、そしてqが1である、請求項21に記載の組成物。
- 成分(a)と(b)との縮合生成物を含む、請求項21に記載の組成物。
- 請求項21に記載の組成物を前記基材に適用することを含む、ケイ質基材の処理方法。
- 請求項12に記載の組成物を前記基材に適用することを含む、ケイ質基材の処理方法。
- 式:RfaSO2N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbのシランの調製方法、
前記方法は、(a)式(III):
(b)式:Rfb−SO2−NHRの化合物と、
(c)塩基と、
を反応させて、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること、および、
式:RfaSO2−N(R)CH2CH(OH)CH2N(R)SO2Rfbの化合物と、式:W−Q−Si(Y’)w(Y)3−wの化合物とを反応させて、式:RfaSO2N(R)CH2CHZ’CH2N(R)SO2Rfbの化合物を与えること;
[式中、RfaはCpF2p+1(式中、pは1〜5の整数である。)であり;
RfbはCqF2q+1(式中、qは1〜5の整数であるが、ただし、p又はqの少なくとも1つは1である。)であり;
各Rは独立してC1〜C6のアルキル基又はアリール基であり;
WはI−、Br−、Cl−、及びOCN−からなる群から選択され;
そして、Z’は式:−O−Q−Si(Y’)w(Y)3−w{式中、−Q−は−C(O)NH−(CH2)v−及び−(CH2)v−(式中、vは1〜20の整数である。)からなる群から選択され;Yは加水分解性基であり;Y’は非加水分解性基であり;そしてwは0〜2の整数である。}の基である。]
からなる。 - pが2〜5の整数であり、そしてRがC1〜C4のアルキル基である、請求項26に記載の方法。
- pが4であり、そしてRが−CH3である、請求項27に記載の方法。
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