JP2009541935A5

JP2009541935A5 -

Info

Publication number: JP2009541935A5
Application number: JP2009516520A
Authority: JP
Filing date: 2007-06-14
Publication date: 2010-07-08
Anticipated expiration: 2027-06-14

Claims

イオンビームを生成するイオンビーム発生器と、
前記イオンビームがワークピースの前面の少なくとも一部分に入射する場合、前記イオンビームを振動させるスキャナと、
を備えるイオン注入装置。
前記スキャナは、さらに、前記ワークピースの前記前面に対する前記イオンビームの位置に応じて前記イオンビームを振動させる、請求項１に記載のイオン注入装置。
前記スキャナは、さらに、前記イオンビームのエネルギーに応じて前記イオンビームの前記振動の特性を調整する、請求項１または２に記載のイオン注入装置。
前記特性は、前記振動の周波数または振幅を含む、請求項３に記載のイオン注入装置。
前記スキャナは、さらに、前記イオンビームのイオンビーム電流の変動に応じて前記イオンビームの前記振動の特性を調整する、請求項１から４の何れか１項に記載のイオン注入装置。
前記スキャナは、静電スキャナである、請求項１から５の何れか１項に記載のイオン注入装置。
前記静電スキャナは、前記イオンビームの近傍に配置される少なくとも１つの走査電極を有し、前記静電スキャナは、さらに、前記少なくとも１つの走査電極に供給される電圧信号に応じた周波数および振幅で前記イオンビームを振動させる、請求項６に記載のイオン注入装置。
前記スキャナは、さらに、前記イオンビームを第１の平面で走査し、前記イオン注入装置は、前記第１の平面と直交する第２の平面で前記ワークピースを駆動させる駆動機構をさらに備え、前記ワークピースの前記前面における前記イオンビームの走査パターンは、前記イオンビームが前記第１の平面で走査され、かつ、前記ワークピースが前記第２の平面で駆動される際の前記イオンビームと前記ワークピースとの間の相対運動によって得られ、前記走査パターンは、前記イオンビームの前記振動に応じて、前記ワークピースの前記前面の少なくとも前記一部分に振動パターンを有する、請求項１から７の何れか１項に記載のイオン注入装置。
イオンビームを生成する段階と、
前記イオンビームがワークピースの前面の少なくとも一部分に入射する場合、前記イオンビームを振動させる段階と、
を備える方法。
前記ワークピースの前記前面に対する前記イオンビームの位置に応じて、前記イオンビームの前記振動の特性を調整する段階をさらに備える、請求項９に記載の方法。
前記イオンビームのエネルギーに応じて、前記イオンビームの前記振動の特性を調整する段階をさらに備える、請求項９または１０に記載の方法。
前記特性は、前記イオンビームの前記振動の周波数または振幅を含む、請求項１１に記載の方法。
前記イオンビームのイオンビーム電流の変動に応じて、前記イオンビームの前記振動の特性を調整する段階をさらに備える、請求項９から１２の何れか１項に記載の方法。
前記イオンビームの前記振動は、一の周波数および振幅で行われ、前記方法は、前記周波数および振幅を調整する段階をさらに備える、請求項９から１３の何れか１項に記載の方法。
前記イオンビームを第１の平面で走査する段階と、
前記ワークピースを前記第１の平面と直交する第２の平面で駆動させる段階と、をさらに備え、
前記ワークピースの前記前面における前記イオンビームの走査パターンは、前記イオンビームが前記第１の平面で走査され、かつ、前記ワークピースが前記第２の平面で駆動される際の前記イオンビームと前記ワークピースとの間の相対運動により得られ、前記走査パターンは、前記イオンビームの前記振動に応じて前記ワークピースの前記前面の少なくとも前記一部分に振動パターンを有する、請求項９から１４の何れか１項に記載の方法。
イオンビームを生成し、前記イオンビームをワークピースに導くイオンビーム発生器を備え、
前記イオンビームと前記ワークピースとの間の相対運動は、前記ワークピースの前面に走査パターンを生成し、前記走査パターンは、前記ワークピースの前記前面の少なくとも一部に振動パターンを有する、イオン注入装置。
前記イオンビームを振動させて前記走査パターンの前記振動パターンを提供するスキャナをさらに備える、請求項１６に記載のイオン注入装置。
前記スキャナは、前記イオンビームの近傍に配置される少なくとも１つの走査電極を有する静電スキャナを含み、前記静電スキャナは、さらに、前記少なくとも１つの走査電極に供給される電圧信号に応じた周波数および振幅で前記イオンビームを振動させる、請求項１７に記載のイオン注入装置。
前記電圧信号は、第１の周期成分および第２の周期成分を有し、前記第１の周期成分は、第１のピーク・トゥ・ピーク振幅および第１の周波数を有し、前記第２の周期成分は、第２のピーク・トゥ・ピーク振幅および第２の周波数を有し、前記第２のピーク・トゥ・ピーク振幅は、前記第１のピーク・トゥ・ピーク振幅より小さく、前記第２の周波数は、前記第１の周波数より大きく、前記走査パターンの前記振動パターンは、前記第２の周期成分に基づく、請求項１８に記載のイオン注入装置。
前記第１のピーク・トゥ・ピーク振幅は、約１０ボルトであり、前記第１の周波数は、約１キロヘルツ（ｋＨｚ）であり、前記第２のピーク・トゥ・ピーク振幅は、約１ボルトであり、前記第２の周波数は、約１０キロヘルツである、請求項１９に記載のイオン注入装置。