JP2009529425A - 金属加工用のローラ、特に連続鋳造ローラ、とこのようなローラを製造するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)金属から成るローラボディを製造するステップと、
b)電気コーティング槽内にローラボディを収容するステップと、
c)層が少なくとも部分的にニッケルから成り、層の表面がローラの作業面を構成するように、ローラボディの表面の少なくとも一部に層を電気メッキするステップと
を備える。
2 ローラボディ
3 層
4 層の表面
5 セラミック粒子
6 コーティング槽
7 アノード(プラス極)
8 カソード(マイナス極)
9 ネック
10 直流電圧源
D 層の厚さ
d セラミック粒子の粒径
Claims (15)
- 金属から成るローラボディ(2)とこのローラボディの上に被覆される耐磨耗性の材料から成る層(3)とを備える金属製造及び/又は金属加工用のローラ(1)、特に連続鋳造ローラにおいて、
層(3)が、電気メッキされたニッケルを備え、層(3)の表面(4)が、ローラ(1)の作業面を構成することを特徴とするローラ。 - 層(3)の厚さ(D)が、0.01mm〜10mm、特に0.05mm〜2mm、であることを特徴とする請求項1に記載のローラ。
- 層(3)が、純粋なニッケルから成ることを特徴とする請求項1又は2に記載のローラ。
- 層(3)が、ニッケル以外に別の成分を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のローラ。
- 層(3)が、ニッケル以外に、コバルト(Co)、燐(P)、鉄(Fe)、亜鉛(Zn)、銅(Cu)、マンガン(Mn)又はクロム(Cr)の成分の1つ又は複数を備えることを特徴とする請求項4に記載のローラ。
- 層(3)が、ニッケル以外にセラミック粒子(5)を備えることを特徴とする請求項4又は5に記載のローラ。
- セラミック粒子(5)が、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、ジルコニウム(Zr)、ホウ素(B)、クロム(Cr)、及び/又はケイ素(Si)の炭化物であることを特徴とする請求項6に記載のローラ。
- 層(3)が、ケイ素炭化物から成るセラミック粒子(5)を内包したニッケルコバルト合金から成ることを特徴とする請求項7に記載のローラ。
- セラミック粒子(5)が、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ケイ素(Si)、ベリリウム(Be)、又はジルコニウム(Zr)の酸化物であることを特徴とする請求項6に記載のローラ。
- セラミック粒子(5)の粒径(d)が、1〜5μmであることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1つに記載のローラ。
- セラミック粒子(5)の粒径(d)が、10〜1000nmであることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1つに記載のローラ。
- セラミック粒子(5)が、高濃度でニッケルもしくはニッケル合金内に存在することを特徴とする請求項6〜11のいずれか1つに記載のローラ。
- ニッケルもしくはニッケル合金内のセラミック粒子(5)の容積割合が、15%〜40%、特に25%〜30%、であることを特徴とする請求項12に記載のローラ。
- 層(3)の表面(4)の硬さが、300〜500Hv1、特に350〜450Hv1、であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか1つに記載のローラ。
- 金属製造及び/又は金属加工用のローラ(1)、特に連続鋳造ローラ、を製造するための方法において、
この方法が、
a)金属から成るローラボディ(2)を製造するステップと、
b)電気コーティング槽(6)内にローラボディ(2)を収容するステップと、
c)層(3)が少なくとも部分的にニッケルから成り、層(3)の表面(4)がローラ(1)の作業面を構成するように、ローラボディ(2)の表面の少なくとも一部に層(3)を電気メッキするステップと
を備えることを特徴とする方法。
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