JP2009518821A - オブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブ - Google Patents

オブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブ Download PDF

Info

Publication number
JP2009518821A
JP2009518821A JP2008542647A JP2008542647A JP2009518821A JP 2009518821 A JP2009518821 A JP 2009518821A JP 2008542647 A JP2008542647 A JP 2008542647A JP 2008542647 A JP2008542647 A JP 2008542647A JP 2009518821 A JP2009518821 A JP 2009518821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical axis
objective
adjusting means
intermediate part
guide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008542647A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5020254B2 (ja
Inventor
クラウス リーフ
Original Assignee
カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー filed Critical カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
Publication of JP2009518821A publication Critical patent/JP2009518821A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5020254B2 publication Critical patent/JP5020254B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G03F7/70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70308Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
    • G03F7/70516Calibration of components of the microlithographic apparatus, e.g. light sources, addressable masks or detectors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

光学軸(z軸)を有するオブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブは、オブジェクティブハウジング(10)に取り付けられた複数の光学素子(20)を備える。少なくとも1つの光学素子が、中間部(23)を介して外側部(21)に接続された内側部に取り付けられる。外側部(21)と中間部(23)との間、及び、中間部(23)と内側部(22)との間の相対移動を可能とし、光学軸(z)に対して垂直な面内、及び、光学軸(z)と平行な面内における光学素子の並進と、光学軸(z)に対して光学素子を傾けること、を実現しうるように、調節手段(26,27)が設けられる。

Description

発明の詳細な説明
本発明は、光学軸と、オブジェクティブハウジングに取り付けられた光学素子と、を備えるオブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブに関する。本発明はまた、オブジェクティブを備えた投影露光装置に関する。本発明はさらに、光学素子用のガイド及び調節システムに関する。
オブジェクティブ、具体的には、半導体素子の製造用の半導体リソグラフィにおける投影オブジェクティブの場合、結像精度に関する非常に厳しい要求が課せられていることから、光学素子、例えば、レンズやミラー、を非常に正確に配置する必要がある。この理由から、多くの場合、個々の光学素子は、補正の目的のため、及び/または、結像精度の向上のために、動作中に、いわゆるマニピュレータによって調節される必要もある。この目的のために、調節または移動される光学素子は、複数の自由度で移動可能にされなければならない。この目的のために、マニピュレータまたは調節装置が知られており、これらのマニピュレータまたは調節装置のそれぞれが、光学素子を1方向または1自由度、もしくは、適切な場合には、2自由度の移動を可能にする。例えば光学軸に対して垂直な方向(x,y軸)、または、光学軸と平行な方向(z軸)への光学素子の移動、もしくは、光学軸に対して傾けることを可能にするために、光学素子に要求される自由度の数に応じた数のマニピュレータが必要である。この場合において、不利な点は、比較的多くのマニピュレータが必要になることと、それに加えて、それぞれの調節が互いに影響し、それゆえに、多重の補正が必要になるという事実である。
複数の自由度を有し、それゆえに、複数の自由度で光学素子を移動させることができるマニピュレータもすでに周知である。しかしながら、このようなマニピュレータは、特に電子機器的なものに関しては、高額な経費を必要とする。ここで、上記とは異なるこのようなマニピュレータによる調節の場合にも、相互の影響が生じることがあり、複雑な付加的な補正が同様に必要とされるリスクがある。
このような場合、各自由度用にセンサも必要とされる。各センサ及び各駆動装置は、オブジェクティブのインタフェースを介して、指定された型の(type-ordered)制御電子装置に接続されなければならない。これは、構造空間及び電子装置に関する経費もまた、自由度の数に応じて著しく増加することを意味する。しかしながら、オブジェクティブの内部では、制限された数の自由度を操作可能とすることのみが実現される。
上述したマニピュレータを使用した光学素子の調節の実現、あるいは、調節の実現性についての先行技術としては、DE 195 39 581 A1、US 2001−00385090 A1、US−A 5,428,482、US−A 6,307,688、US−A 6,473,245、US−A 5,822,133及びEP 665 389を参照されたい。
本発明は、調節装置により、極めて高精度に、且つ、比較的少ない経費で、光学素子を複数の自由度に移動、または、調節可能なオブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブを提供するという目的に基づく。
本発明によれば、光学軸と、オブジェクティブハウジングに取り付けられた光学素子とを有するオブジェクティブの場合、この目的は、中間部を介して外側部に接続された内側部に少なくとも1つの光学素子が取り付けられると共に、調節手段が設けられ、その調節手段の作動により、光学軸に対して垂直な面内、及び、光学軸(z)と平行な面内における外側部と中間部との間、及び、中間部と内側部との間の相対移動、及び、光学軸(z)に対して光学素子を傾けること、を実現可能とするという事実により達成される。
内側部及び外側部への光学素子の既知の取り付けと比較して、極めて高い調節精度が、本発明による中間部と、この中間部の内側部及び外側部への接続と、により達成される。本発明による中間部と、この中間部の内側部及び外側部への接続と、によれば、1方向の調節または移動、あるいは、1自由度の変更は、その他の自由度に何ら影響を与えない。
本発明による光学素子の構成または取り付けにより、この光学素子は、全ての並進自由度だけでなく、回転自由度においても、ガイドされ、かつ操作されうる。この場合において、変更を望まない方向、または、回転、または、ねじれに関して何ら影響が起きないように、光学素子の個々の移動または調節が実行されうる。
本発明のある非常に有利な構成においては、調節手段が外側部で支持され、調節手段のそれぞれがレバー機構に作用し、レバー機構の回転中心は中間部に固定接続されることが提供されうる。レバー機構を使用することで、調節の上昇率及び下降率は、個々のレバーの長さにより、単純な方法で、達成されうる。
本発明によれば、さらに、調節手段を作動させる場合に、外側部と中間部との間の相対運動が、光学軸(z)に対して垂直な面内において、及び/または、光学軸(z)と平行な方向においてのみ生じ、及び/または、内側部と中間部との間で、光学軸(z)に対して傾けることのみが生じるように、3つのレバーを備える前記レバー機構(27)が前記中間部(23)に支持されることがもたらされる。
光学素子がレンズとして構成された場合には、内側部、外側部、中間部は、それぞれが同心円状に配置されるリングとして構成されると有利であり、調節手段は、一般に、その円周上で互いについて120°の間隔となるように配置される。この場合、調節手段のための3つ全てのレバー機構の回転中心が、それぞれ、中間リングに固定接続されうる。
本発明の1つの非常に有利な構成において、中間部が複数のリング片、好ましくは3つのリング片から形成される場合には、光学素子の調節の実現性はさらに高くなる。これは、特に、各リング片が専用の調節手段を備える場合に言えることである。個々のリング片は閉じたリングを形成し、この場合において、個々のリング片は、剛性の、または、弾性のある接続部によって互いに接続されうる。
この構成により、例えば、光学軸に対して垂直な軸上における光学素子の調節と、光学軸と平行な軸上における光学素子の調節と、を組み合わせることができる。さらには、フィールドにおける個別の自由度の不足に対しては、オブジェクティブ内部の自由度の個別の配置が、冗長系を構築するために利用されうる。換言すれば、このシステムにおける他の光学素子にて、1つの調節が実現されない場合に、適切な場合には、その調節は、本発明の装置を併用することにより行われうる。
本発明の構成のさらなる多大な利点は、操作される自由度の数が、オブジェクティブ内部で操作可能な自由度の個別の配置により最小化されうるという事実である。この結果、作動システム、さらには調節手段を最小化することが導かれ、また、センサシステムを削減でき、同様に制御電子機器の最小化も可能となる。生産コスト及び構造空間も、この方法により削減できる。
本発明のさらなる特徴を明らかにする本発明の実施形態が、図面を参照して、原則として以下に説明される。
図1は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置1を示す。この装置1は、感光性材料で被覆された基板上で、構造を露光するために用いられる。基板は、一般に、主にシリコンからなり、ウエハ2と称される。この装置1は、半導体部品、例えば、コンピュータチップのような部品の製造に使用される。
この場合、投影露光装置1は、原則として、照明装置3と、装置4と、装置6と、投影オブジェクティブ7と呼ばれる撮像装置と、を備える。装置4は、レチクル5と称される、格子状構造を備えるマスクを受容すると共に、レチクル5を正確に配置するための装置である。レチクル5により、格子状構造が、ウエハ2上に縮小されて結像される。装置6は、ウエハ2の取付、移動、正確な位置決めのための装置である。投影オブジェクティブ7は、複数の光学素子、例えばレンズやミラーのような光学素子を備える。複数の光学素子は、ホルダ9により、投影オブジェクティブ7のオブジェクティブハウジング10内に取り付けられる。単純化するために、図1には1つの光学素子20のみが示されている。
露光が実行されると、ウエハ2は、さらに、矢印方向に段階的に移動される。このため、レチクル5により予め規定される構造をそれぞれが備える多数の個別のフィールドが、同じウエハ2上に露光されうる。投影露光装置1におけるウエハ2の段階的な前進移動のため、投影露光装置1は、ステッパとも称されることも多い。
照明装置3は、ウエハ2上にレチクル5を結像するために必要とされる投影ビーム11、例えば、光または電磁放射線、を提供する。例えば、レーザをその放射線の放射源として利用してもよい。放射線は、照射装置3内にて、光学素子により成形され、その結果、投影ビーム11がレチクル5に作用する際、波面の直径、偏光、形状等に関して所望の特性を有する状態とされる。
既に上で説明したように、レチクル5の像は、投影ビーム11により生成され、投影オブジェクティブ7により相応に縮小されてウエハ2に転写される。投影オブジェクティブ7は、例えば、レンズ、ミラー、プリズム、終端板等の、多数の個別の屈折光学素子、回折光学素子、及び/または、反射光学素子を有する。
図2及びそれに続く図面は、投影オブジェクティブ7の調節可能な光学素子、この場合はレンズ20、の取付について、関連する調節装置と共に明らかにする。取付及び調節装置は、同心円状に配置された3つのリング、すなわち、投影オブジェクティブ7のオブジェクティブハウジング10に固定接続された外側部としての外側リング21と、内側部としての内側リング22と、中間部としての中間リング23とを備える。内側リング22は、光学素子20に固定接続される。中間リング23は、ガイドシステムにより、内側リング22及び外側リング21に対して取り付けられる。
図2に見られるように、6つのガイドシステムが設けられ、例えば、60°の間隔で円周上に配置されている。ガイドシステムの数は、相対的な接続及びガイドのための必要に応じて、別の数で設けられうることは言うまでもない。ガイドシステムはそれぞれ、光学軸に対して垂直な面内、すなわちx/y平面内に横たわる2つの板ばね24を備えており、それぞれの場合において、一方の板ばね24が表面側に配置されている。本実施形態においては、したがって、これは、中間リング23の上側面上と下側面上で、光学素子20の鉛直方向の配置がもたらされることを意味する。それぞれのガイドシステムの2つの板ばね24は、中間リング23と同様に、内側リング22の上面側と下面側で、内側リング22に接続される。2つの板ばね24は、それぞれの板ばね24が、同心円状のリング、あるいは、円周上に分散して配置される個々のリング片として具体化されてもよい。2つの板ばね24と直交するように、各ガイドシステムは、ガイド要素25を備える。ガイド要素25は、円周上に分散して配置された複数の個々のリング片から、あるいは、複数の個別の要素、例えば、円周上に分散された複数の弾性ピン、から形成される。図3に見られるように、ガイド要素25の長手方向の軸は、光学軸、すなわちz軸と平行に延出する。
板ばね24の構成及び配置により、2つの板ばね24は、x/y平面内において高い剛性を有するが、その一方で、光学軸上においては剛性が低く、それゆえに、光学軸に沿った移動、または、光学軸に平行な移動が許容される。
対照的に、ガイド要素25は、z方向に高い剛性を有し、x/y平面内における剛性は低いため、x/y平面内における移動が許容される。
3つのマニピュレータ、すなわち、アクチュエータ26は、120°の間隔で配置され、それぞれのアクチュエータ26は、外側リング21上及び外側リング21内に取り付けられる。アクチュエータ26の数もまた一例としてみなされるべきであることは言うまでもない。アクチュエータ26の作動力は、レバー機構27を介して内側リング22へ伝えられ、それゆえに、光学素子20へと伝えられる。
レバー機構27は、それぞれ3つの連結点を有する。第1の連結点28は、関節状にアクチュエータ26に接続され、第2の連結点29は、関節状に内側リング22に接続されている。同様に関節状の第3の連結点30は、中間リング23上に位置し、連結点28及び29の固定された回転中心を構成する。
光学素子20の調節を確定するために、図4に見られるように、センサ31a、31b及び32a、32bが設けられている。センサは、内側リング22と外側リング21との間に配置され、2つのセンサ31a及び31bは、光学軸(z方向)における外側リング21に対する内側リング22の相対運動を計測し、2つのセンサ32a及び32bは、x/y平面内における、内側リング22と外側リング21との間の相対運動を計測する。様々なセンサが幅広く使用可能である。一般に、容量センサ、または、増分変位センサ、または、圧電効果に基づく他のセンサが使用されうる。これらのセンサの使用方法は一般的に周知であるため、ここではさらに詳細に論じない。
内側リング22を併せた光学素子20の静的重量による力Fgは、ばね要素33(図3及び図5の拡大説明図参照)により支持される。例えば、コイルばねをばね要素33として使用してもよく、この場合、複数のコイルばねは、円周上に分散するように内側リング22の切り欠き34に配置される。
光学素子20の調節機能が、図5を参照しながら以下に説明される。円周上に分散する3つのアクチュエータ26のそれぞれが、関連するレバー機構27上に半径方向の力Faを生じさせる。半径方向の力Faは、中間リング23へのレバー機構27の連結により、連結点30での力Fzにて支持される。連結点30は、同時に回転軸としての役割を果たす。連結点29での半径方向の力Faの作用点と、中間リング23での連結点30と、の間のオフセット高さHaにより、レバー機構にてモーメントが生じる。レバー機構におけるこのモーメントは、連結点29での鉛直方向の力Fbにより支持される。
Hbは、光学軸に対して垂直な面内における、連結点29と連結点30との間の距離を表す。
円周上に分散するように配置された全てのレバー機構27の連結点30での回転中心の位置は、中間リング23に対して互いに確実に規定される。レバー機構27が回転対称に配置されていることを考慮すると、レバー機構27の配置に起因する力は生じず、3つの支持力Fzの大きさは等しい。対称構造により、鉛直方向の力Fbの大きさも同様に等しい。この結果、全ての作動力Faの大きさもまた等しい。
重量による力Fgは、円周上に分散するように配置されたばね要素33により支持され、それぞれの支持力はFg/nである。ここで、nは円周上に分散されるように配置されたばね要素33の数である。
以下の調節が、アクチュエータ26及びレバー機構27で可能である。
事例1−z方向(光学軸)における調節:
3つ全てのアクチュエータ26が一様に作動する結果、中間リング23の位置は動かない。全てのレバー機構27が、レバー機構27の連結点30を中心として回転するため、内側リング22はz方向へ移動する。
事例2−x/y平面内における調節:
複数の連結点28が互いからの相対距離を維持するように、アクチュエータ26を移動させた場合には、そのとき、全ての連結点28が相似的に移動し、中間リング23もレバー機構27及び内側リング22と共に、x/y平面内を任意に移動する。この目的のために、円周上に分散するように配置された3つのセンサ32a及び32bは、x/y平面内での移動を検出できるように配置される。アクチュエータが、連結点28で異なる大きさの移動量を生じさせる結果、異なる移動量で移動されたそれぞれの場合において、x/y平面内において、中間リング23を、所望の方向へ調節可能である。注意を必要とするのは、移動の間、全ての連結点28が、互いの相対距離を維持するようにすることだけである。この目的のために、それぞれの移動方向に対応して、アクチュエータの異なる角度による配置が考慮されなければならず、当然ながら、アクチュエータが、互いから120°の間隔で配置されることが用いられる必要がある。アクチュエータと同様に円周上に分散されるように配置された3つのセンサ31a及び31bは、それぞれの場合において、z方向の移動、及び/または、x/y平面内での移動を計測する。
この結果、制御された操作と、事例1及び事例2の組み合わせと、を用いることで、光学素子20を、任意に、また、高額な経費を要せずに、x/y/z方向に移動させることができる。
下降率、及び、上昇率は、レバー機構27の連結点28、29、30の互いに関し、それゆえに、これらの連結点の幾何学上の配置に関する距離、及び、鉛直方向の配置を用いて特定されうる。具体的には、下降率、及び、上昇率は、2つの連結点28及び30間の高度差Haと、2つの連結点29及び30間の距離Hbの大きさに依存する。
原則として、適切に精度良く作動する任意の駆動装置を、アクチュエータ26として用いることができる。しかしながら、アクチュエータ26は、オートロック式であることが好ましい。この点では、例えば、ピエゾステップ駆動(piezo-stepper drive)を使用できる。
ガイドシステムとして、板ばね24の代わりに、円周上に均等に配置された関節継手ばりも、用いられうる。同じことがガイド要素25にも適用され、ガイド要素25が、回転対称の曲げばり、あるいは、関節継手ばりとして設けられうる。浸食部(eroded section)、例えば、L字部を備えたガイドとしてもよい。
一体の構造における浸食部として、ガイドシステムが、レバー機構27と共に図6に示されている。この目的のために、アクチュエータ26の数に応じて、内側リング22と外側リング21との間にモノリスブロック35が設けられる。各ブロック35は、中間リング23上で支持される。さらに、ブロック35は、内側リング22と外側リング21とに接続されている。浸食部分とその両端の幅広の孔を使用して、ガイドシステムを、板ばね24とガイド要素25とレバー機構27とに置き換えると共に、連結点28、29、30に置き換える。これにより、対応する直径の縮小、それゆえに、弾性接続が実現される。説明のために、ブロック35の対応する部分に、同じ参照符号が付されているけれども、結局のところ、ブロック35は、原則として、同じ構成及び主に同じ効果をもたらす。浸食部、及び、切り欠き、または、孔は、例えばレーザ手段により、形成されうる。
図7及び8は、調節を実現するさらなる実施形態を示す。提起された課題は、個別の自由度が能動的に操作されうる上述した実施形態にて説明されたものと、原則として同じである。しかしながら、上述した実施形態においては、z軸に対して傾けることが可能なマニピュレータまたはアクチュエータによる回転自由度が、x/y自由度に置き換えられる点が強調された。課題解決のより一般的な形態が、以下に説明する実施形態にて可能とされる。
図7及び8に見られるように、内側リング22及び外側リング21が、この実施形態でも同様に設けられる。しかしながら、中間リングは、3つのリング片23a、23b、及び、23cに分割されている。外側リング21はまた、オブジェクティブハウジングに固定接続される一方、内側リング22は、光学素子、すなわち、レンズ20を支持する。
ガイドシステム及びアクチュエータは、2つのリング21、22とリング片23a、23b、23cとの間に様々な方法で取り付けられうる。この場合において、板ばね24a、24b、24cは、第1実施形態の板ばね24に対応し、また、板ばね24a、24b、24cは、第1実施形態と同様に、内側リング22と、同じ角度で分割された中間リングの個々のリング片23a、23b、23cとの間に、調節可能な接続を構成する。板ばね24a、24b、24cは、リング片23a、23b、23cを半径方向にガイドする。接続部36は、閉じたリングを形成するために3つのリング片23a、23b、23cを接続し、それゆえに、3つのリング片23a、23b、23cは、第1実施形態の中間リング23に対応する。接続部36は、選択的に、剛性接続、弾性接続として具体化されてもよく、また駆動装置として具体化されてもよい。
図9は、接続部36それぞれに駆動装置37を設けた構成を示す。駆動装置37は、例えば周方向における移動を可能とするガイド要素を備えたリニアモータとして具体化されてもよい。多様な装置、例えば、機械的な装置、電子機械的な装置、油圧式の装置または圧電性の装置、が直線駆動装置として用いられうる。角度的な運動を補償するために、駆動装置37と接続部36との間に関節継手38が設けられうる。駆動装置の構成及び操作方法は一般的に周知であるので、このような理由から、ここではこれ以上詳細に説明しない。
第1実施形態と同様に、ここでも、内側リング22と、外側リング21との間で、且つ、3つのリング片23a、23b、23cのうちの1つのリング片のそれぞれにレバー機構27が設けられる。レバー機構27は、第1実施形態と同様にアクチュエータ(図示なし)により作動されうる。ガイド要素25aは、第1実施形態と同じ機能を有し、同様に、3つのリング片23a、23b、23cをz方向にガイドする役割を果たす。
図7及び8による第2実施形態の構造方式においては、それぞれがオブジェクティブの調節要求に適応する異なるアクチュエータを組み付けることを可能とする。第2実施形態においては、個々の自由度が、能動的に操作されるようにされうるか、または、受動的なガイドとして具体化されうるか、あるいは、完全に禁止さえされうる。中間リングが3つのリング片に分割されていることにより、変化の実現性が、第2実施形態においては、かなり高くなる。このことは、具体的には、3つのリング片に個々に、または、互いに独立してアクチュエータが設けられうることにより、また、それゆえに、実現されうる調節方法の数が増加することにより可能となる。
上述したようなガイドシステムの配置を逆にすることも可能である。これは、内側リング22と中間リング23との間の相対運動が、x/y平面内で起こる一方で、外側リング21と中間リング23との間の相対運動が、z方向でのみ起こることを意味する。図10から明白であるように、この場合においては、板ばね24は、中間リング23と外側リング21との間に配置され、図3のガイド要素25に対応するガイド要素25’は、中間リング23上に固定配置されて、内側リング22の切り欠き内に突出する。
ガイドシステム及び駆動装置、または、アクチュエータは、互いに交換可能、もしくは互いに組み合わせることもできる。
投影オブジェクティブを備えた投影露光装置の基本説明図を示す。 調節される光学素子としてのレンズの平面図を示す。 図2の切断線III−IIによる断面図を示す。 センサシステムを説明するための、図2による光学素子の断面図を示す。 調節力及び調節方向の説明付きの、図3の左側半分の拡大図を示す。 図3の左側半分の拡大図を示し、調節装置のために、レバー機構の代わりに、一体的に製造された浸食部が設けられている。 異なる実施形態における図2の表示に対応する平面図を示す。 切断線VIII−VIIIによる図7の断面図を示す。 図7で説明された構成と類似の構成の平面図を示す。 図3で説明された構成と類似の構成の断面図を示す。

Claims (37)

  1. オブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブであって、
    光学軸(z軸)を備えると共に、オブジェクティブハウジング(10)に取り付けられた複数の光学素子を備え、
    少なくとも1つの前記光学素子(20)が、中間部(23)を介して外側部(21)に接続された内側部(22)に取り付けられており、
    前記外側部(21)と前記中間部(23)との間、及び、前記中間部(23)と前記内側部(22)との間の相対移動を可能とし、前記光学軸(z)に対して垂直な面内、及び、前記光学軸(z)と平行な面内における前記光学素子の並進と、前記光学軸に対して前記光学素子を傾けること、を実現可能とする調節手段(26,27)が設けられた
    オブジェクティブ。
  2. 前記調節手段は、前記外側部(21)及び前記中間部(23)に作用するレバー機構(27)を備え、
    前記レバー機構(27)の回転中心は、連結点(30)を介して前記中間部(23)に固定接続された
    請求項1に記載のオブジェクティブ。
  3. 前記調節手段は、前記外側部(21)で支持されており、
    前記調節手段のそれぞれは、前記レバー機構(27)に作用する
    請求項2に記載のオブジェクティブ。
  4. 前記調節手段を作動させる場合に、前記外側部(21)と前記中間部(23)との間の相対運動が、前記光学軸(z)に対してある角度をなす方向においてのみ生じることが実現され、且つ、前記中間部(23)と前記内側部(22)との間に、前記光学軸(z)と平行な方向のみの相対運動、及び/または、前記光学軸(z)に対して傾ける相対運動が実現されるように、前記レバー機構(27)が前記中間部(23)に支持された
    請求項2または3に記載のオブジェクティブ。
  5. 前記外側部(21)と前記中間部(23)との間の相対運動が、前記光学軸(z)に対して垂直な面内において実現されうる
    請求項4に記載のオブジェクティブ。
  6. 前記外側部(21)、前記中間部(23)と、前記内側部(22)と、の間の接続のために、弾性ガイドシステムが設けられた
    請求項1〜5の何れかに記載のオブジェクティブ。
  7. 前記ガイドシステムは、円周上に配置された1つまたは複数の板ばね(24)または関節継手ばりを備え、
    前記板ばね(24)または関節継手ばりは、前記光学軸に対して垂直な面内において高い剛性を有し、前記光学軸と平行な面内においては、低い剛性を有する
    請求項6に記載のオブジェクティブ。
  8. 前記1つまたは複数の板ばね(24)または関節継手ばりは、前記中間部(23)と前記内側部(22)と、の間に配置された
    請求項7に記載のオブジェクティブ。
  9. 前記ガイドシステムは、前記光学軸(z)と平行な面内において高い剛性を有し、前記光学軸に対して垂直な面内において低い剛性を有する、少なくとも1つの関節継手ばりまたは曲げばり(25)を備える
    請求項6または7に記載のオブジェクティブ。
  10. 前記少なくとも1つの関節継手ばりまたは曲げばり(25)は、前記外側部(21)と前記中間部(23)と、の間に配置された
    請求項9に記載のオブジェクティブ。
  11. 前記調節手段を作動させる場合に、前記外側部(21)と前記中間部(23)との間で、前記光学軸(z)と平行な方向のみの相対運動、及び/または、前記光学軸(z)に対して傾ける相対運動が実現され、この場合において、前記光学軸に対してある角度をなす方向においてのみ、前記内側部(22)と前記中間部(23)との間で、相対運動が実現されうるように、それぞれの前記レバー機構(27)が、前記中間部(23)にて支持される
    請求項2または3に記載のオブジェクティブ。
  12. 前記ある角度が前記光学軸に対して垂直な角度である
    請求項11に記載のオブジェクティブ。
  13. 前記外側部(21)、前記中間部(23)及び前記内側部(22)は、同心円状のリングとして構成される
    請求項1〜12の何れかに記載のオブジェクティブ。
  14. 前記内側部(22)と、前記外側部(21)とは、同心円状のリングとしてそれぞれ構成され、前記中間部は、少なくとも3つのリング片(23a,23b,23c)から形成された
    請求項1または2に記載のオブジェクティブ。
  15. 前記少なくとも3つのリング片(23a,23b,23c)は、接続部(36)により互いに接続された
    請求項14に記載のオブジェクティブ。
  16. レバー機構(27)を備えた調節手段が、前記少なくとも3つのリング片(23a、23b、23c)のそれぞれに作用する
    請求項14または15の何れかに記載のオブジェクティブ。
  17. 前記接続部(36)が、駆動装置(37)を備える
    請求項15に記載のオブジェクティブ。
  18. 前記板ばね(24)または関節継手ばりは、該板ばね(24)または関節継手ばりを接続する部分と一体的に構成される
    請求項7に記載のオブジェクティブ。
  19. 前記ガイドシステム及び前記レバー機構(27)は、モノリス関節継手(monolithic articulated joint)を有する浸食部(eroding part)(35)にて形成される
    請求項1〜18の何れかに記載のオブジェクティブ。
  20. 少なくとも3つの前記調節手段が設けられ、
    該少なくとも3つの調節手段は、円周上に均等に分散するように配置される
    請求項1〜19の何れかに記載のオブジェクティブ。
  21. 前記外側部(21)と前記内側部(22)との間に、センサ(31,32)が配置された
    請求項1〜20の何れかに記載のオブジェクティブ。
  22. 前記光学素子(20)の重量による力(Fg)を支持するために、前記外側部(21)に支持されるばね要素(33)が設けられた
    請求項1〜21の何れかに記載のオブジェクティブ。
  23. 前記ばね要素(33)として、円周上に分散するように配置された複数のコイル状のばねが設けられ、
    前記複数のコイル状のばねは、前記内側部(22)の切り欠き(34)にガイドされる
    請求項22に記載のオブジェクティブ。
  24. 前記ガイドシステムと前記調節手段とは、相互に交換可能である
    請求項1〜23の何れかに記載のオブジェクティブ。
  25. 前記調節手段が、手動で操作可能である
    請求項1に記載のオブジェクティブ。
  26. 前記調節手段が、制御ループによって駆動可能である
    請求項1に記載のオブジェクティブ。
  27. 前記調節手段が、半能動的に駆動可能である
    請求項26に記載のオブジェクティブ。
  28. 請求項1〜27の何れかに記載のオブジェクティブを備えた半導体素子を製造するための半導体リソグラフィにおける投影露光装置。
  29. オブジェクティブハウジングに配置された、光学軸(z軸)を有する光学素子用のガイド及び調節システムであって、
    前記光学素子(20)は、中間部(23)を介して外側部(21)に接続された内側部(22)に取り付けられ、
    前記外側部(21)と前記中間部(23)との間、及び、前記中間部(23)と前記内側部(22)との間の相対移動を可能とし、前記光学軸(z)に対して垂直な面内、及び、前記光学軸(z)と平行な面内における前記光学素子の並進と、前記光学軸に対して前記光学素子を傾けること、を実現可能とする調節手段(26,27)が設けられた
    ガイド及び調節システム。
  30. 前記調節手段は、レバー機構(27)を備え、
    前記レバー機構(27)は、前記外側部(21)及び前記中間部(23)に作用し、
    前記レバー機構(27)の回転中心は、連結点(30)を介して前記中間部(23)に固定接続された
    請求項29に記載のガイド及び調節システム。
  31. 前記調節手段は、前記外側部(21)で支持されており、それぞれ前記調節手段は、前記レバー機構(27)に作用する
    請求項30に記載のガイド及び調節システム。
  32. 前記調節手段を作動させる場合に、前記外側部(21)と前記中間部(23)との間の相対運動が、前記光学軸(z)に対してある角度をなす方向にのみ生じることが実現され、且つ、前記中間部(23)と前記内側部(22)との間に、前記光学軸(z)と平行な方向のみの相対運動、及び/または、前記光学軸(z)に対して傾ける相対運動が実現されるように、前記レバー機構(27)が前記中間部(23)に支持された
    請求項30に記載のガイド及び調節システム。
  33. 前記外側部(21)、前記中間部(23)と、前記内側部(22)と、の間の接続のための弾性ガイドシステムが設けられた、
    請求項29〜32の何れかに記載のガイド及び調節システム。
  34. 前記ガイドシステムは、円周上に配置された1つまたは複数の板ばね(24)または関節継手ばりを備え、
    前記板ばね(24)または関節継手ばりは、前記光学軸に対して垂直な面内において高い剛性を有し、前記光学軸と平行な面内においては低い剛性を有する
    請求項29に記載のガイド及び調節手段。
  35. 1つまたは複数の板ばね(24)または関節継手ばりは、前記中間部(23)と前記内側部(22)との間に配置される
    請求項34に記載のガイド及び調節手段。
  36. 前記ガイドシステムは、少なくとも1つの関節継手ばりまたは曲げばり(25)を備え、
    前記少なくとも1つの関節継手ばりまたは曲げばり(25)は、前記光学軸と平行な面内においては高い剛性を有し、前記光学軸に対して垂直な面内においては低い剛性を有する、
    請求項29に記載のガイド及び調節手段。
  37. 前記少なくとも1つの関節継手ばりまたは曲げばり(25)は、前記外側部(21)と前記中間部(23)との間に配置される
    請求項36に記載のガイド及び調節手段。
JP2008542647A 2005-12-03 2006-11-28 オブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブ Expired - Fee Related JP5020254B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005057860A DE102005057860A1 (de) 2005-12-03 2005-12-03 Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie
DE102005057860.8 2005-12-03
PCT/EP2006/011371 WO2007062794A1 (en) 2005-12-03 2006-11-28 Objective, in particular projection objective for semiconductor lithography

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009518821A true JP2009518821A (ja) 2009-05-07
JP5020254B2 JP5020254B2 (ja) 2012-09-05

Family

ID=37667538

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008542647A Expired - Fee Related JP5020254B2 (ja) 2005-12-03 2006-11-28 オブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8199315B2 (ja)
JP (1) JP5020254B2 (ja)
KR (1) KR101332471B1 (ja)
DE (1) DE102005057860A1 (ja)
TW (1) TWI424186B (ja)
WO (1) WO2007062794A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013069857A (ja) * 2011-09-22 2013-04-18 Topcon Corp 光学素子保持装置
JP2013532843A (ja) * 2010-07-15 2013-08-19 ニューポート・コーポレイション 絶対位置フィードバックを用いて調整可能な光学マウント
JP2014507786A (ja) * 2010-12-20 2014-03-27 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学素子を取り付ける配置構成
JP2014517525A (ja) * 2011-05-30 2014-07-17 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の光学素子を動かす方法
US9425711B2 (en) 2014-04-15 2016-08-23 Newport Corporation Integral preload mechanism for piezoelectric actuator
US10161560B2 (en) 2015-01-29 2018-12-25 Newport Corporation Integrated picomotor mount

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007047109A1 (de) 2007-10-01 2009-04-09 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, insbesondere Projektionsobjektiv der Mikrolithographie
DE102007051461A1 (de) * 2007-10-27 2009-04-30 Adc Automotive Distance Control Systems Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Montage und Justage einer Bildaufnehmereinheit
DE102008026979B3 (de) * 2008-05-29 2009-12-24 Carl Zeiss Ag Vorrichtung zum Korrigieren von Abbildungsfehlern in einem optischen System
US7916408B2 (en) 2008-10-30 2011-03-29 Corning Incorporated X-Y adjustable optical mount
DE102009054549A1 (de) 2008-12-11 2010-06-17 Carl Zeiss Smt Ag Gravitationskompensation für optische Elemente in Projektionsbelichtungsanlagen
CN102573688B (zh) * 2009-08-21 2015-07-29 爱尔康研究有限公司 具有可调目标的固定式光学系统
DE102009029673A1 (de) 2009-09-22 2010-11-25 Carl Zeiss Smt Ag Manipulator zur Positionierung eines optischen Elementes in mehreren räumlichen Freiheitsgraden
DE102010029651A1 (de) 2010-06-02 2011-12-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit Korrektur von durch rigorose Effekte der Maske induzierten Abbildungsfehlern
DE102015223520A1 (de) 2015-11-27 2016-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
JP2017211409A (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 キヤノン株式会社 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP2019095662A (ja) * 2017-11-24 2019-06-20 株式会社ブイ・テクノロジー 光学装置の取付構造及び露光装置
JP7467158B2 (ja) * 2020-02-19 2024-04-15 キヤノン株式会社 光学駆動装置および光学機器
DE102023206344A1 (de) 2023-07-04 2024-06-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und projektionsbelichtungsanlage

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000195788A (ja) * 1998-12-23 2000-07-14 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット
JP2001343575A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2002131605A (ja) * 2000-08-18 2002-05-09 Nikon Corp 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5428482A (en) * 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
EP0665389A1 (de) 1994-01-26 1995-08-02 Carl Zeiss Lagerung für ein um mindestens eine Achse bewegliches Bauteil
JP3894509B2 (ja) * 1995-08-07 2007-03-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
DE19539581B4 (de) 1995-10-25 2007-07-26 Carl Zeiss Smt Ag Universalgelenk mit Feder-Viergelenken
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US5986827A (en) * 1998-06-17 1999-11-16 The Regents Of The University Of California Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint
TW508653B (en) * 2000-03-24 2002-11-01 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus and integrated circuit manufacturing method
US6473245B1 (en) * 2000-08-10 2002-10-29 Nikon Corporation Catadioptric lens barrel structure having a plurality of support platforms and method of making the same
DE10140608A1 (de) * 2001-08-18 2003-03-06 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justage eines optischen Elements
DE10153147A1 (de) * 2001-10-27 2003-05-08 Zeiss Carl Verfahren zum Aufbringen eines Maßstabes auf einen Träger
DE10212547A1 (de) * 2002-03-21 2003-10-02 Zeiss Carl Smt Ag Vorrichtung zur Manipulation der Winkellage eines Gegenstands gegenüber einer festen Struktur
DE10226655A1 (de) * 2002-06-14 2004-01-08 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur Positionierung eines optischen Elements in einer Struktur
US20030234918A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-25 Nikon Corporation Adjustable soft mounts in kinematic lens mounting system
JP4835155B2 (ja) * 2003-07-09 2011-12-14 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
AU2003254364A1 (en) * 2003-07-17 2005-03-07 Carl Zeiss Smt Ag Device for mounting an optical element, particularly a lens in an objective
DE10344178B4 (de) * 2003-09-24 2006-08-10 Carl Zeiss Smt Ag Halte- und Positioniervorrichtung für ein optisches Element
JP4776551B2 (ja) * 2004-02-20 2011-09-21 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投射露光装置の投射対物レンズ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000195788A (ja) * 1998-12-23 2000-07-14 Carl Zeiss Stiftung Trading As Carl Zeiss 光学システム、特にマイクロリソグラフィ―に用いられる投影照明ユニット
JP2001343575A (ja) * 2000-03-31 2001-12-14 Nikon Corp 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2002131605A (ja) * 2000-08-18 2002-05-09 Nikon Corp 保持装置、光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013532843A (ja) * 2010-07-15 2013-08-19 ニューポート・コーポレイション 絶対位置フィードバックを用いて調整可能な光学マウント
JP2014507786A (ja) * 2010-12-20 2014-03-27 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学素子を取り付ける配置構成
JP2014517525A (ja) * 2011-05-30 2014-07-17 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の光学素子を動かす方法
JP2013069857A (ja) * 2011-09-22 2013-04-18 Topcon Corp 光学素子保持装置
US9425711B2 (en) 2014-04-15 2016-08-23 Newport Corporation Integral preload mechanism for piezoelectric actuator
US10389276B2 (en) 2014-04-15 2019-08-20 Newport Corporation Integral preload mechanism for piezoelectric actuator
US10161560B2 (en) 2015-01-29 2018-12-25 Newport Corporation Integrated picomotor mount

Also Published As

Publication number Publication date
DE102005057860A1 (de) 2007-06-06
TW200724967A (en) 2007-07-01
US8199315B2 (en) 2012-06-12
JP5020254B2 (ja) 2012-09-05
WO2007062794A1 (en) 2007-06-07
KR101332471B1 (ko) 2013-11-25
US20080285002A1 (en) 2008-11-20
TWI424186B (zh) 2014-01-21
KR20080075902A (ko) 2008-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5020254B2 (ja) オブジェクティブ、具体的には、半導体リソグラフィ用の投影オブジェクティブ
US7961294B2 (en) Imaging device in a projection exposure facility
JP5154564B2 (ja) 像収差を低減するための交換可能で操作可能な補正構成を有する光学システム
US9110388B2 (en) Projection exposure apparatus with multiple sets of piezoelectric elements moveable in different directions and related method
US7242537B2 (en) Holding and positioning apparatus for an optical element
US7486382B2 (en) Imaging device in a projection exposure machine
JP2014225639A (ja) ミラーユニット及び露光装置
US7859643B2 (en) Apparatus for moving curved-surface mirror, exposure apparatus and device manufacturing method
JP6336108B2 (ja) 振動補償光学系、リソグラフィー装置、及びその製造方法
KR102193387B1 (ko) 보유 지지 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법
EP1981066B1 (en) Optical member holding apparatus and exposure apparatus
JP2006339500A (ja) 微動装置及び光学素子調整装置
JP6008468B2 (ja) 調整可能な光学素子を有する光学モジュール
US7894140B2 (en) Compensation techniques for fluid and magnetic bearings
JP5434498B2 (ja) 光学素子の保持装置、光学系、及び露光装置
JP2007201342A (ja) 光学部材保持装置、光学ユニット、及び露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090717

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110916

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110927

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20111219

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20111227

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120127

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120515

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120612

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5020254

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees