JP2009301883A - 有機el素子及び有機el素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機EL素子1は、基板2と、基板2上に形成された透明電極3と、透明電極3上に形成された有機発光層4と、有機発光層4上に形成された陰極5と、有機発光層4及び陰極5を覆うように、且つ、基板2側に向かって広がるテーパ部8が外周部に形成された樹脂からなる平坦化膜6と、平坦化膜6の上面に形成された無機物からなる封止膜7とを備えている。テーパ部8は、透明電極3または基板2と接する領域まで傾斜している。
【選択図】図1
Description
以下、図面を参照して、本発明をボトムエミッション型の有機EL素子に適用した第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態による有機EL素子の断面図である。図2は、第1実施形態による有機EL素子の平面図である。図3は、平坦化膜のテーパ部の傾斜を説明する図である。
ターゲット:Al(アルミニウム)
成膜ガス :Ar(アルゴン) 100sccm〜200sccm
O2(酸素) 6sccm〜20sccm
成膜圧力 :0.3Pa〜0.5Pa
投入電力 :1kW〜2.8kW
膜厚 :300nm
成膜レート:0.051nm/s〜0.96nm/s
である。
次に、第1実施形態の有機EL素子を部分的に変更した第2実施形態について、図面を参照して説明する。図16は、第2実施形態による有機EL素子の断面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
次に、第1実施形態の有機EL素子を部分的に変更した第3実施形態について、図面を参照して説明する。図17は、第3実施形態による有機EL素子の断面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
次に、第1実施形態の有機EL素子を部分的に変更した第4実施形態について、図面を参照して説明する。図18は、第4実施形態による有機EL素子の断面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
次に、第1実施形態の有機EL素子を部分的に変更した第5実施形態について、図面を参照して説明する。尚、第5実施形態による有機EL素子は、封止膜を構成する材料以外は第1実施形態と同様の構成を有するため、第1実施形態の図面を参照して説明する。
次に、上述した実施形態の効果を証明するために行った実験について説明する。
次に、バッファー層を有する第2実施形態と同じ構成の第1実施例の実験結果について説明する。本実験では、第1実施例と比較するための試料として、第1比較例及び第2比較例を作製した。第1比較例は、平坦化膜及び封止膜を省略した以外は、第1実施例と同じ構成を有する。第2比較例は、平坦化膜を省略した以外は、第1実施例と同じ構成を有する。尚、第1実施例、第1及び第2比較例の発光面の面積は、一辺が2mmの正方形状に形成した。
2 基板
2a 成長主面
2b 光取出面
3 透明電極
4、4a 有機発光層
5、5a 陰極
6、6C 平坦化膜
7、7C 封止膜
8 テーパ部
9 バッファー層
11 陽極
11a 陽極端子
12 陰極端子
13 絶縁溝
21 レジスト膜
22 シャドウマスク
22a 開口部
23 シャドウマスク
23a 開口部
24 熱可塑性樹脂シート
25 保持フィルム
31 異物
41 接着層
42 封止板
Claims (8)
- 基板と、
前記基板上に形成された第1電極と、
前記第1電極上に形成された有機発光層と、
前記有機発光層上に形成された第2電極と、
前記有機発光層及び前記第2電極を覆うように、且つ、前記基板側に向かって広がるテーパ部が外周部に形成され、樹脂からなる平坦化膜と、
前記平坦化膜の上面に形成された無機物からなる封止膜とを備え、
前記テーパ部は、前記第1電極または前記基板と接する領域まで傾斜していることを特徴とする有機EL素子。 - 前記有機発光層及び前記第2電極上に抵抗加熱蒸着法によって形成された絶縁材料からなるバッファー層を備えたことを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。
- 前記封止膜上に形成された樹脂製の接着層と、
前記接着層に接着された封止板とを備えたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機EL素子。 - 前記平坦化膜と前記封止膜とが交互に複数積層されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の有機EL素子。
- 基板上に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に有機発光層を形成する工程と、
前記有機発光層上に第2電極を形成する工程と、
前記第1電極の一部、前記有機発光層及び前記第2電極を覆うように、硬化剤を含む熱可塑性樹脂によって平坦化膜を成膜する工程と、
前記平坦化膜を加熱により軟化させた後、硬化させることにより前記平坦化膜の外周部にテーパ部を形成する工程と、
前記平坦化膜上に封止膜を形成する工程とを備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 基板上に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極上に有機発光層を形成する工程と、
前記有機発光層上に第2電極を形成する工程と、
収縮性を有する熱硬化性樹脂を加熱した後、冷却することによって外周部にテーパ部が形成された平坦化膜を、前記第1電極の一部、前記有機発光層及び前記第2電極を覆うように成膜する工程と、
前記平坦化膜上に封止膜を形成する工程とを備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記平坦化膜を成膜する工程は、大気圧よりも減圧された状態で行われることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記平坦化膜を成膜する工程の前に、
前記有機発光層及び前記第2電極上に抵抗加熱蒸着法によって、絶縁材料からなるバッファー層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項5〜請求項7のいずれか1項に記載の有機EL素子の製造方法。
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