JP2009290057A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】書き込み/消去を行ったときの電子の消し残しを低減可能な半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本実施の形態に係る半導体装置は、一の主面上に第1の表面13と、第1の表面13と段差15をなす第2の表面14とが形成された半導体基板1を備える。そして、半導体基板1の第1の表面13上にゲート絶縁膜2を介して形成されたコントロールゲート電極3を備える。そして、半導体基板1の第2の表面14上に、コントロールゲート電極3と隣接して、電子またはホールを保持可能な酸化膜6、窒化膜7、酸化膜8を介して形成されたメモリーゲート電極9を備える。
【選択図】図1
【解決手段】本実施の形態に係る半導体装置は、一の主面上に第1の表面13と、第1の表面13と段差15をなす第2の表面14とが形成された半導体基板1を備える。そして、半導体基板1の第1の表面13上にゲート絶縁膜2を介して形成されたコントロールゲート電極3を備える。そして、半導体基板1の第2の表面14上に、コントロールゲート電極3と隣接して、電子またはホールを保持可能な酸化膜6、窒化膜7、酸化膜8を介して形成されたメモリーゲート電極9を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置に関する発明であり、特に、MOS構造にMONOS構造を隣接して形成した半導体装置に関する発明である。
近年、書き換え可能な不揮発性メモリ混載メモリが多く使用されてきており、その不揮発メモリの種類や構造も多岐にわたっている。これらに要求される性能は種々あるが、特に、大容量化、高速化への要求が高まっており、微細化の一途をたどっている。そのため、メモリセル本体への性能向上要求も厳しく、構造に関して様々な工夫がなされている。そのような構造の一つとして、通常のMOS(Metal-Oxide-Semiconductor)とMONOS(Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon)とを互いに隣接させて形成した半導体装置が提案されている。この半導体装置のうち、上述のMONOSは、半導体基板上に酸化膜、窒化膜、酸化膜を順に積層してなる絶縁膜を有し、その絶縁膜上にゲート電極を備える。このような半導体装置は、特許文献1に記載されている。
この半導体装置の書き込み動作は、MONOSのゲート電極(以下、メモリゲート電極と記すこともある)下側の窒化膜に電子を注入し、その電子を蓄積・保持する。一方、消去動作は、FN消去であれ、ホットキャリア消去であれ、主に、メモリゲート電極下側の窒化膜にホールを注入する。読出動作は、MOSのゲート電極(以下、コントロールゲート電極と記すこともある)に電圧を印加し、ソースドレイン間に電流が流れるか否かで書き込み/消去を判別する。
このような半導体装置は、トラップ捕獲型のため微細化しやすく、信頼性が高く、かつ、読み出しを高速にすることができるという特徴を有するため、大容量化、高速化への要求に応えるものとなっている。
しかしながら、従来の半導体装置では、書き込み時には、メモリゲート電極下側の窒化膜の広い領域にわたって電子を注入するのに対し、消去時には、その窒化膜の一部の領域にしかホールを注入することができない。そのため、消去時にホールを注入できなかった部分では、そのホールと、書き込み時に蓄積された電子とが再結合せず、電子が残る。こうして、書き換え時に、いわゆる電子の消し残しが生じるという問題があった。数千、数万回のエンデュランス後には、その消し残しは無視できなくなり、その結果、書き換え耐性は劣化し、リテンション特性(電荷保持特性)に悪影響を及ぼすという問題があった。
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、書き込み/消去を行ったときの電子の消し残しを低減可能な半導体装置を提供することを目的とする。
本実施の形態に係る半導体装置は、一の主面上に第1の表面と、前記第1の表面と段差をなす第2の表面とが形成された半導体基板を備える。そして、前記半導体基板の前記第1の表面上に第1の絶縁膜を介して形成された第1のゲート電極を備える。そして、前記半導体基板の前記第2の表面上に、前記第1のゲート電極と隣接して、電子またはホールを保持可能な第2の絶縁膜を介して形成された第2のゲート電極を備える。
本発明の半導体装置によれば、電子またはホールを保持可能な第2の絶縁膜において、消去時にホールが注入されない部分に、書き込み時に電子が注入されるのを防ぐ。そのため、書き込み/消去を行ったときの電子の消し残しを低減することができる。
<実施の形態1>
本実施の形態に係る半導体装置について説明する前に、本実施の形態に係る半導体装置の前提となる半導体装置を、図6〜図10を用いて説明する。図6は、前提となる半導体装置の配線を示す平面図である。図6に示すように、コントロールゲート電極3と、メモリゲート電極9は互いに隣接して形成されている。これらコントロールゲート電極3およびメモリゲート電極9は、STI(Shallow Trench Isolation)18上に設けられている。なお、STI18が形成されていない図6の白地の領域には、活性領域が形成される。
本実施の形態に係る半導体装置について説明する前に、本実施の形態に係る半導体装置の前提となる半導体装置を、図6〜図10を用いて説明する。図6は、前提となる半導体装置の配線を示す平面図である。図6に示すように、コントロールゲート電極3と、メモリゲート電極9は互いに隣接して形成されている。これらコントロールゲート電極3およびメモリゲート電極9は、STI(Shallow Trench Isolation)18上に設けられている。なお、STI18が形成されていない図6の白地の領域には、活性領域が形成される。
図7は、図6のゲート長L方向の一点鎖線A−A’で切断したときの断面図である。図7に係る半導体装置は、図7の左側にMOS、図7の右側にMONOSを備える。図7に係る半導体装置が備えるMOSは、半導体基板1と、ゲート絶縁膜2と、コントロールゲート電極3と、ドレイン領域4と、ソース領域5とを備える。コントロールゲート電極3は、半導体基板1上にゲート絶縁膜2を介して形成される。ドレイン領域4,ソース領域5は、コントロールゲート電極3、および、メモリゲート電極9の両方を挟んで半導体基板1主面に形成される。図7に係る半導体装置では、MOS側にドレイン領域4、MONOS側にソース領域5が形成されている。このMOSは、例えば、NMOSとして形成される。
図7に係る半導体装置が備えるMONOSは、半導体基板1と、酸化膜6,8、窒化膜7と、メモリゲート電極9と、ドレイン領域4と、ソース領域5とを備える。酸化膜6、窒化膜7、酸化膜8は、半導体基板1上に順に形成される。MOSおよびMONOSは、共通のドレイン領域4およびソース領域5を備える。酸化膜6,8には、例えば、SiO2、窒化膜7には、例えば、SiNを用いる。メモリゲート電極9は、半導体基板1上に酸化膜6、窒化膜7、酸化膜8を介して形成される。前提となる発明に係る酸化膜6は、上述のMOSのゲート側壁酸化膜(サイドウォール)の一部を残して形成される。こうして、前提となる発明に係るMONOSは、上述のMOSのサイドウォールに組み合わせて形成される。
次に、半導体装置の書き込み/消去の動作の一例と、その半導体装置の問題点を簡単に説明する。半導体装置での書き込み時には、ドレイン領域4からソース領域5へ電子を移動させ、電子をホットキャリアにした状態で、メモリゲート電極9に高い正電圧をかける。これにより、電子が、メモリゲート電極9下側の窒化膜7に注入される(SSI:ソースサイドインジェクション)。図8は、窒化膜7において、電子が書き込み時に比較的多く注入される領域10を示す。図8に示すように、書き込み時には、電子がメモリゲート電極9下側の窒化膜7全体に広がって注入される。
一方、消去時には、メモリゲート電極9と半導体基板1とソース領域5との電界によるBTBT(Band-To-Band Tunneling)を用いてホールを発生させる。この状態で、メモリゲート電極9に高い負電圧を印加すると、ホールは加速されてホットキャリアとなる。これにより、ホールが、メモリゲート電極9下側の窒化膜7に注入される。図9は、窒化膜7において、ホールが消去時に比較的多く注入される領域11を示す。図9に示すように、消去時には、ホールがメモリゲート電極9下側の窒化膜7の一部に局所的に注入される。
以上のように、書き込み時には、電子は窒化膜7の領域10に注入されるのに対して、消去時には、ホールは窒化膜7の領域11に局所的に注入される。このように、電子が注入される領域10と、ホールが注入される領域11とが異なるため、窒化膜7のうち、コントロールゲート電極3と、メモリゲート電極9との間付近の領域に、電子の消し残しが生じる。図10に、電子の消し残しが生じる領域を、ギャップ部12として示す。なお、ギャップ部12の領域を簡単な形状で示しているが、実際には、後で説明する図3に示す領域16となる。書き換え回数が数百、数千、数万となるうちに、このギャップ部12に電子が徐々に蓄積され、コントロールゲート電極3の閾値電圧が徐々に大きくなる。その結果、半導体装置の書き換え耐性の劣化や、リテンション特性(電荷保持特性)の劣化が生じていた。
次に、この問題を解決する本実施の形態に係る半導体装置に付いて説明する。図1は、本実施の形態に係る半導体装置の構成を示す断面図である。以下、本実施の形態に係る構成のうち、上述と同じ構成については、同じ符号を付し、その説明は省略する。本実施の形態に係る半導体装置は、上述の構成と同様に、MOSとMONOSとを備える。本実施の形態に係るMOSは、半導体基板1と、ゲート絶縁膜2と、コントロールゲート電極3と、ドレイン領域4と、ソース領域5とを備える。また、本実施の形態に係るMONOSは、半導体基板1と、酸化膜6,8、窒化膜7と、メモリゲート電極9と、ドレイン領域4と、ソース領域5とを備える。
図1に示すように、本実施の形態に係る半導体装置が備える半導体基板1は、一の主面上に第1の表面13と、第1の表面13と段差15をなす第2の表面14とが形成されている。第1の表面13は、例えば、エッチング方法により、半導体基板1の主面を掘り下げて形成される。あるいは、第2の表面14は、例えば、エピタキシャル結晶成長方法により、半導体基板1の主面を持ち上げて形成される。本実施の形態に係る半導体装置が備える第1のゲート電極であるコントロールゲート電極3は、半導体基板1の第1の表面13上に、第1の絶縁膜であるゲート絶縁膜2を介して形成される。コントロールゲート電極3の材質には、例えば、ポリシリコンを用いる。
また、本実施の形態に係る半導体装置が備える第2のゲート電極であるメモリゲート電極9は、半導体基板1の第2の表面14上に、コントロールゲート電極3と隣接して、電子またはホールを保持可能な第2の絶縁膜を介して形成される。本実施の形態に係る第2の絶縁膜は、半導体基板1の第2の表面14上に順に積層された酸化膜6、窒化膜7、酸化膜8からなる。酸化膜6,8には、例えば、SiO2、窒化膜7には、例えば、SiNを用いる。メモリゲート電極9の材質には、例えば、ポリシリコンを用いる。ドレイン領域4、ソース領域5は、半導体基板1の第1の表面13、第2の表面14に、コントロールゲート電極3およびメモリゲート電極9両方を挟んで形成される。
以上のように形成される本実施の形態に係る半導体装置と、前提とした半導体装置の両者について、半導体基板1の不純物濃度を同じ条件にしてシミュレーションを行った。図2は、書き込み時の電界についてのシミュレーション結果を示す図である。図2(a)に本実施の形態に係る半導体装置の結果を示し、図2(b)に上述の前提とした図7に係る半導体装置の結果を示す。図に示すように、本実施の形態に係る半導体装置では、前提とした半導体装置に比べて、図10に示したギャップ部12近傍の領域における電界が弱くなった。これにより、本実施の形態に係る半導体装置では、書き込み時に、ギャップ部12に電子が注入されにくくなることが予想された。
そこで、次に、書き込み時の電子密度についてのシミュレーションを行った。図3は、その結果を示す図であり、図3(a)に本実施の形態に係る半導体装置の結果を示し、図3(b)に上述の前提とした図7に係る半導体装置の結果を示す。ここで、図3(a),(b)に示される領域16は、電子密度が大きい領域を示し、図10に係るギャップ部12を正確に示した領域に相当する。図に示すように、本実施の形態に係る半導体装置では、前提とした半導体装置に比べて、上述のギャップ部12に注入される電子が減少することが確認できた。
以上のように、本実施の形態に係る半導体装置では、電子またはホールを保持可能な第2の絶縁膜に含まれる窒化膜7において、消去時にホールがほとんど注入されないギャップ部12に、書き込み時に電子が注入されるのを防ぐ。そのため、書き込み/消去を行ったときの電子の消し残しを低減することができる。その結果、半導体装置の書き換え耐性の劣化や、リテンション特性(電荷保持特性)の劣化を防ぐことができる。
<実施の形態2>
図4は、本実施の形態に係る半導体装置の構成を示す断面図である。実施の形態1では、図1に示したように、第1の表面13と、第2の表面14とがなす段差15は、上述のMOSとMONOSとの間にのみ形成されていた。それに対して、本実施の形態では、ドレイン領域4側にも、第1の表面13と第2の表面14とがなす段差17が形成される。以下の実施の形態に係る構成のうち、上述と同じ構成については、同じ符号を付し、その説明は省略する。
図4は、本実施の形態に係る半導体装置の構成を示す断面図である。実施の形態1では、図1に示したように、第1の表面13と、第2の表面14とがなす段差15は、上述のMOSとMONOSとの間にのみ形成されていた。それに対して、本実施の形態では、ドレイン領域4側にも、第1の表面13と第2の表面14とがなす段差17が形成される。以下の実施の形態に係る構成のうち、上述と同じ構成については、同じ符号を付し、その説明は省略する。
図4に示すように、本実施の形態に係る半導体基板1の第2の表面14は、第1の表面13を挟んでその両側に形成される。そして、本実施の形態に係る半導体装置が備えるドレイン領域4およびソース領域5からなるソースドレイン領域は、半導体基板1の両側の第2の表面14に、コントロールゲート電極3およびメモリゲート電極9の両方を挟んで形成される。
以上のような本実施の形態に係る半導体装置によれば、コントロールゲート電極3の実効チャネル長を伸ばすことが可能になる。これにより、コントロールゲート電極3の幅を縮小することができるため、セルサイズを小さくすることができる。
<実施の形態3>
図5は、本実施の形態に係る半導体装置を示す断面図である。この図5は、ギャップ部12付近を拡大した図である。図に示すように、本実施の形態では、段差15に対応する窒化膜7の角部は面取りされている。また、段差15に対応するコントロールゲート電極3の角部は面取りされている。
図5は、本実施の形態に係る半導体装置を示す断面図である。この図5は、ギャップ部12付近を拡大した図である。図に示すように、本実施の形態では、段差15に対応する窒化膜7の角部は面取りされている。また、段差15に対応するコントロールゲート電極3の角部は面取りされている。
以上のような本実施の形態に係る半導体装置によれば、酸化膜6、つまり、上述のMOSのゲート側壁の酸化膜を厚くすることができる。これにより、ギャップ部12における書き込み時の電界をさらに緩和することができるため、実施の形態1よりも、ギャップ部12に電子が注入されなくすることができる。
1 半導体基板、2 ゲート絶縁膜、3 コントロールゲート電極、4 ドレイン領域、5 ソース領域、6,8 酸化膜、7 窒化膜、9 メモリゲート電極、10,11,16 領域、12 ギャップ部、13 第1の表面、14 第2の表面、15,17 段差、18 STI。
Claims (5)
- 一の主面上に第1の表面と、前記第1の表面と段差をなす第2の表面とが形成された半導体基板と、
前記半導体基板の前記第1の表面上に第1の絶縁膜を介して形成された第1のゲート電極と、
前記半導体基板の前記第2の表面上に、前記第1のゲート電極と隣接して、電子またはホールを保持可能な第2の絶縁膜を介して形成された第2のゲート電極とを備える、
半導体装置。 - 前記第1の表面は、前記半導体基板の前記主面を掘り下げて形成された、
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第2の表面は、前記半導体基板の前記主面を持ち上げて形成された、
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記半導体基板の前記第2の表面は、前記第1の表面を挟んでその両側に形成され、
前記半導体基板の前記両側の第2の表面に、前記第1,2のゲート電極両方を挟んで形成されたソースドレイン領域をさらに備える、
請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記第2の絶縁膜は、前記半導体基板の前記第2の表面上に順に積層された酸化膜、窒化膜、酸化膜を含み、
前記段差に対応する前記窒化膜の角部は、面取りされており、
前記段差に対応する前記第1のゲート電極の角部は、面取りされている、
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008142278A JP2009290057A (ja) | 2008-05-30 | 2008-05-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2008142278A JP2009290057A (ja) | 2008-05-30 | 2008-05-30 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008142278A Pending JP2009290057A (ja) | 2008-05-30 | 2008-05-30 | 半導体装置 |
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-
2008
- 2008-05-30 JP JP2008142278A patent/JP2009290057A/ja active Pending
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