JP2009288340A - ローラーモールド作製方法 - Google Patents
ローラーモールド作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009288340A JP2009288340A JP2008138489A JP2008138489A JP2009288340A JP 2009288340 A JP2009288340 A JP 2009288340A JP 2008138489 A JP2008138489 A JP 2008138489A JP 2008138489 A JP2008138489 A JP 2008138489A JP 2009288340 A JP2009288340 A JP 2009288340A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- roller mold
- mask
- electron beam
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【構成】最終仕上がりパターン中の回転方向に長いスリット状のパターンの長さを短縮した電子線が透過するパターンを有するマスクを、レジストを塗布したローラーモールドの所定位置に近接して位置づけるステップと、電子線をマスクに照射しつつマスク上のパターンを透過した電子線をローラーモールド上のレジストに露光しつつ回転させるステップと、露光しつつ回転させて一周あるいは露光に必要な部分を回転して露光するステップと、回転して露光した後、ローラーモールド上の露光されたレジストを現像するステップと、現像した後のローラーモールドをエッチングするステップとを有する。
【選択図】 図1
Description
・L’=L
・S’=S
・H’=L’=L
とした例を示す。
・L’’=L’
・S’’=S’
・H’’=(図1のS3からS5でローラーモールド2を回転させて露光した角度に相当する長さ)
となる。
2:ローラーモールド
3:電子線
11:連続回転
12:ステップ・アンド・リピート
13:アライメントマーク
21:電子光学系
22:回転モータ
23:軸移動モータ
24:ステージ
32:電子源
33:コンデンサレンズ
34:縮小レンズ系
Claims (7)
- パターンを転写するローラー状の押し型(以下「ローラーモールド」という)を作製するローラーモールド作製方法において、
前記ローラーモールドにレジストを塗布するステップと、
最終仕上がりパターン中の回転方向に長いスリット状のパターンの長さを短縮した電子線が透過するパターンを有するマスクを、前記レジストを塗布したローラーモールドの所定位置に近接して位置づけるステップと、
前記近接して位置づけた状態で、電子線を前記マスクに照射しつつ当該マスク上のパターンを透過した電子線を前記ローラーモールド上のレジストに露光しつつ回転させるステップと、
前記ローラーモールド上に塗布したレジストに露光しつつ回転させて一周あるいは露光に必要な部分を回転して露光するステップと、
前記回転して露光した後、前記ローラーモールド上の露光されたレジストを現像するステップと、
前記現像した後のローラーモールドをエッチングし、前記マスク上のパターンに対応するスリット状のパターンを当該ローラーモールド上に形成するステップと、
を有するローラーモールド作製方法。 - 前記マスクでローラーモールドの回転方向に露光を行なった後、回転方向と直角方向の隣接する位置に前記マスクを移動させて位置づけた後、当該マスクでローラーモールドを回転しつつ露光することを繰り返すことを特徴とする請求項1記載のローラーモールド作製方法。
- 前記マスクでローラーモールド上に塗布したレジストに露光する際に、露光開始位置および露光終了位置で所定時間だけ回転を停止し、パターンの始点および終点の露光を行うことを特徴とする請求項1あるいは請求項2記載のローラーモールド作製方法。
- 前記最終仕上がりパターン中の回転方向に長いスリット状のパターンの長さを短縮したパターンを作製し、当該作製したパターンを前記マスクにレジストを塗布して電子線描画した後に現像し、更に、エッチングして電子線が透過するパターンを当該マスクに作製したことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のローラーモールド作製方法。
- 前記長さを短縮したパターンとして、ほぼ矩形のパターンあるいは回転方向の長さを小さくした矩形のパターンとしたことを特徴とする請求項4記載のローラーモールド作製方法。
- 前記マスク上に形成する長さを短縮したパターンが複数並列にある場合には、当該複数並列を複数に分割して各分割群のパターン毎に回転方向にそれぞれ所定距離ずらし、複数並列のパターン間の回転方向と直角方向のピッチを大きくしたことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のローラーモールド作製方法。
- 前記マスクを電子線で全面照射し、当該マスク上に形成したパターンを透過した電子線を電磁型あるいは静電型の縮小レンズを用いて前記ローラーモールドに塗布したレジスト上に縮小したパターンを形成し、回転しつつ露光することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載のローラーモールド作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008138489A JP5288453B2 (ja) | 2008-05-27 | 2008-05-27 | ローラーモールド作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008138489A JP5288453B2 (ja) | 2008-05-27 | 2008-05-27 | ローラーモールド作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009288340A true JP2009288340A (ja) | 2009-12-10 |
JP5288453B2 JP5288453B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=41457644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008138489A Active JP5288453B2 (ja) | 2008-05-27 | 2008-05-27 | ローラーモールド作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5288453B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011093357A1 (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法 |
WO2011158714A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | 旭化成エンジニアリング株式会社 | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
CN102566260A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-07-11 | 西安交通大学 | 超长光栅尺辊压模具表面图形化的快速加工方法 |
JP2012213984A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Asahi Kasei Corp | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
JP2013012682A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Horon:Kk | ロールモールド製作装置およびロールモールド作製方法 |
JP2013513831A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-22 | コリア エレクトロテクノロジー リサーチ インスティテュート | 円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置 |
JP2014501934A (ja) * | 2010-08-23 | 2014-01-23 | ローイス インコーポレイテッド | 近接場リソグラフィのためのマスク及びその製造方法 |
KR20150005611A (ko) * | 2012-05-14 | 2015-01-14 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 롤러 몰드의 제작 장치 및 제작 방법 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0613170A1 (en) * | 1993-02-10 | 1994-08-31 | Stephen C. Jacobsen | Method and apparatus for fabrication of thin film semiconductor devices using non-planar, exposure beam lithography |
JPH1187209A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-03-30 | Nikon Corp | 荷電粒子線投影露光方法 |
JP2002072497A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-12 | Toppan Printing Co Ltd | 露光方法 |
JP2003151877A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-23 | Sony Corp | マスクおよびその製造方法と半導体装置の製造方法 |
JP2004240095A (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-26 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン層形成体の製造方法 |
JP2004306554A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 凹凸表面構造シート転写成形用の円筒状型部材の製造方法 |
JP2005043631A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-17 | Mitsutoyo Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP2007507725A (ja) * | 2003-09-11 | 2007-03-29 | ブライト・ヴュー・テクノロジーズ,インコーポレイテッド | シリンダ形プラットフォームおよびラスタ走査される放射線ビームを使用して光学的微細構造体を形成するためのシステムおよび方法 |
JP2009274347A (ja) * | 2008-05-15 | 2009-11-26 | Horon:Kk | ローラーモールド作製方法 |
-
2008
- 2008-05-27 JP JP2008138489A patent/JP5288453B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0613170A1 (en) * | 1993-02-10 | 1994-08-31 | Stephen C. Jacobsen | Method and apparatus for fabrication of thin film semiconductor devices using non-planar, exposure beam lithography |
JPH1187209A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-03-30 | Nikon Corp | 荷電粒子線投影露光方法 |
JP2002072497A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-12 | Toppan Printing Co Ltd | 露光方法 |
JP2003151877A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-23 | Sony Corp | マスクおよびその製造方法と半導体装置の製造方法 |
JP2004240095A (ja) * | 2003-02-05 | 2004-08-26 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン層形成体の製造方法 |
JP2004306554A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 凹凸表面構造シート転写成形用の円筒状型部材の製造方法 |
JP2005043631A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-17 | Mitsutoyo Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP2007507725A (ja) * | 2003-09-11 | 2007-03-29 | ブライト・ヴュー・テクノロジーズ,インコーポレイテッド | シリンダ形プラットフォームおよびラスタ走査される放射線ビームを使用して光学的微細構造体を形成するためのシステムおよび方法 |
JP2009274347A (ja) * | 2008-05-15 | 2009-11-26 | Horon:Kk | ローラーモールド作製方法 |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013513831A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-22 | コリア エレクトロテクノロジー リサーチ インスティテュート | 円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置 |
JP5677987B2 (ja) * | 2010-01-29 | 2015-02-25 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法、並びにインプリント用モールド基材 |
WO2011093357A1 (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-04 | Hoya株式会社 | インプリント用モールド及びその製造方法 |
WO2011158714A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | 旭化成エンジニアリング株式会社 | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
EP2583813A4 (en) * | 2010-06-16 | 2016-02-24 | Asahi Chemical Ind | DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ROLLER MOLD |
JP5805082B2 (ja) * | 2010-06-16 | 2015-11-04 | 旭化成株式会社 | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
CN103003055B (zh) * | 2010-06-16 | 2015-08-19 | 旭化成株式会社 | 滚筒模具的制作装置以及制作方法 |
CN103003055A (zh) * | 2010-06-16 | 2013-03-27 | 旭化成株式会社 | 滚筒模具的制作装置以及制作方法 |
JPWO2011158714A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2013-08-19 | 旭化成株式会社 | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
US9000325B2 (en) | 2010-06-16 | 2015-04-07 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Roller mold manufacturing device and manufacturing method |
KR101413873B1 (ko) | 2010-06-16 | 2014-06-30 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 롤러 몰드의 제작 장치 및 제작 방법 |
JP2015004994A (ja) * | 2010-08-23 | 2015-01-08 | ローイス インコーポレイテッド | 近接場リソグラフィのためのマスクの製造方法 |
JP2014501934A (ja) * | 2010-08-23 | 2014-01-23 | ローイス インコーポレイテッド | 近接場リソグラフィのためのマスク及びその製造方法 |
JP2012213984A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Asahi Kasei Corp | ローラーモールドの作製装置および作製方法 |
JP2013012682A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Horon:Kk | ロールモールド製作装置およびロールモールド作製方法 |
CN102566260A (zh) * | 2011-12-30 | 2012-07-11 | 西安交通大学 | 超长光栅尺辊压模具表面图形化的快速加工方法 |
KR20150005611A (ko) * | 2012-05-14 | 2015-01-14 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 롤러 몰드의 제작 장치 및 제작 방법 |
CN104380206A (zh) * | 2012-05-14 | 2015-02-25 | 旭化成株式会社 | 滚筒模具的制作装置及制作方法 |
US20150138522A1 (en) * | 2012-05-14 | 2015-05-21 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Roller mold manufacturing apparatus and method |
EP2851752A4 (en) * | 2012-05-14 | 2015-06-03 | Asahi Chemical Ind | MANUFACTURING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ROLLER MOLD |
KR101705958B1 (ko) * | 2012-05-14 | 2017-02-10 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 롤러 몰드의 제작 장치 및 제작 방법 |
US10401729B2 (en) | 2012-05-14 | 2019-09-03 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Roller mold manufacturing apparatus and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5288453B2 (ja) | 2013-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5288453B2 (ja) | ローラーモールド作製方法 | |
US20190164900A1 (en) | Mark, method for forming same, and exposure apparatus | |
JP5068844B2 (ja) | リソグラフィ方法及びリソグラフィ装置 | |
JP5144847B2 (ja) | ローラーモールド作製方法 | |
TW201100978A (en) | Apparatus and method for providing resist alignment marks in a double patterning lithographic process | |
JP2007258707A (ja) | リソグラフィ装置および二重露光オーバレイ制御を用いたデバイス製造方法 | |
TWI464540B (zh) | 微影裝置及器件製造方法 | |
US20200198187A1 (en) | Master, transfer copy, and method for manufacturing master | |
TWI477923B (zh) | 微影裝置及微影投影方法 | |
CN106536163B (zh) | 原盘的制造方法、转印物以及复制原盘 | |
TWI460554B (zh) | 光罩總成、微影裝置、微影處理中之用途及於微影處理之單一掃描移動中投影二或多個影像場之方法 | |
WO2015043321A1 (zh) | 一种纳米压印光刻装置及其方法 | |
JP5144848B2 (ja) | モールド作製方法 | |
JP2005012040A (ja) | 加工装置及び方法 | |
JP2007095859A (ja) | リソグラフィ方法 | |
JP6067690B2 (ja) | ローラーモールドの作製装置および作製方法 | |
JP4521539B2 (ja) | 露光方法 | |
JP7520615B2 (ja) | マーク形成方法、パターン形成方法、及びリソグラフィ装置 | |
JP2000100758A (ja) | ビーム描画装置及びパターン形成方法 | |
JP5986538B2 (ja) | 露光装置および物品の製造方法 | |
KR101095052B1 (ko) | 나노 임프린트용 장치 및 이를 이용한 반도체 소자의 형성방법 | |
JP4382550B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
Nietner | A direct-write thick-film lithography process for multi-parameter control of tooling in continuous roll-to-roll microcontact printing | |
TW202132899A (zh) | 基板、圖案化裝置及微影設備 | |
JP2010103527A (ja) | リソグラフィ方法、装置およびコントローラ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110511 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130521 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5288453 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |