JP4382550B2 - パターン描画装置およびパターン描画方法 - Google Patents
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Description
2 X−Y移動機構
3 ビーム照射機構
4 制御部
5 記憶部
10 電子ビーム
14 ビーム偏向器
20 描画手順データ
100 基材
100b 樹脂層
A1−1〜A10−10 描画領域
P 露光パターン
P1〜P3 トラックパターン
Claims (4)
- 基材をその面方向に沿って移動させるX−Y移動機構と、当該X−Y移動機構上の前記基材における樹脂層に描画用ビームを照射するビーム照射機構と、当該ビーム照射機構によるビーム偏向可能範囲に応じて前記樹脂層を仮想的に分割した複数の描画領域のうちの1つに前記描画用ビームを照射可能に前記X−Y移動機構を制御して前記基材を移動させると共に当該ビーム照射機構を制御して当該描画用ビームを照射させて前記樹脂層に露光パターンを描画する描画処理を実行する制御部とを備え、
前記制御部は、前記露光パターンを描画すべき複数の前記描画領域が隣接している描画領域群に属して当該露光パターンの描画が完了していないことを第1の条件とし、当該描画領域群に属する前記描画領域のうちの当該描画領域群における最も外側に位置することを第2の条件として、当該両条件を満たすいずれかの前記描画領域に対して前記描画処理を実行した後に、前記両条件を満たす前記描画領域であってその直前に当該露光パターンを描画した当該描画領域に最も近い描画領域に対して前記描画処理を順次実行するパターン描画装置。 - 基材をその面方向に沿って移動させるX−Y移動機構と、当該X−Y移動機構上の前記基材における樹脂層に描画用ビームを照射するビーム照射機構と、当該ビーム照射機構によるビーム偏向可能範囲に応じて前記樹脂層を仮想的に分割した複数の描画領域のうちの1つに前記描画用ビームを照射可能に前記X−Y移動機構を制御して前記基材を移動させると共に当該ビーム照射機構を制御して当該描画用ビームを照射させて前記樹脂層に露光パターンを描画する描画処理を実行する制御部とを備え、
前記制御部は、前記露光パターンを描画すべき複数の前記描画領域が隣接している描画領域群に属して当該露光パターンの描画が完了していないことを第1の条件とし、当該描画領域群に属する前記描画領域のうちの当該描画領域群における最も内側に位置することを第2の条件として、当該両条件を満たすいずれかの前記描画領域に対して前記描画処理を実行した後に、前記両条件を満たす前記描画領域であってその直前に当該露光パターンを描画した当該描画領域に最も近い描画領域に対して前記描画処理を順次実行するパターン描画装置。 - X−Y移動機構上に基材を載置して、ビーム照射機構によるビーム偏向可能範囲に応じて当該基材における樹脂層を仮想的に分割した複数の描画領域のうちの1つに当該ビーム照射機構から描画用ビームを照射可能に当該X−Y移動機構を制御して当該基材をその面方向に移動させ、前記ビーム照射機構を制御して当該描画用ビームを照射させて前記樹脂層に露光パターンを描画する際に、
前記露光パターンを描画すべき複数の前記描画領域が隣接している描画領域群に属して当該露光パターンの描画が完了していないことを第1の条件とし、当該描画領域群に属する前記描画領域のうちの当該描画領域群における最も外側に位置することを第2の条件として、当該両条件を満たすいずれかの前記描画領域に対して前記露光パターンを描画する描画処理を実行した後に、前記両条件を満たす前記描画領域であってその直前に当該露光パターンを描画した当該描画領域に最も近い描画領域に対して前記描画処理を実行するパターン描画方法。 - 基材をX−Y移動機構上に載置して、ビーム照射機構によるビーム偏向可能範囲に応じて当該基材における樹脂層を仮想的に分割した複数の描画領域のうちの1つに当該ビーム照射機構から描画用ビームを照射可能に当該X−Y移動機構を制御して当該基材をその面方向に移動させ、前記ビーム照射機構を制御して当該描画用ビームを照射させて前記樹脂層に露光パターンを描画する際に、
前記露光パターンを描画すべき複数の前記描画領域が隣接している描画領域群に属して当該露光パターンの描画が完了していないことを第1の条件とし、当該描画領域群に属する前記描画領域のうちの当該描画領域群における最も内側に位置することを第2の条件として、当該両条件を満たすいずれかの前記描画領域に対して前記露光パターンを描画する描画処理を実行した後に、前記両条件を満たす前記描画領域であってその直前に当該露光パターンを描画した当該描画領域に最も近い描画領域に対して前記描画処理を実行するパターン描画方法。
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