JP2009285020A - 殺菌装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】衛生性及び殺菌性能を向上できる殺菌装置を提供する。
【解決手段】被処理物を収容する処理室20と、処理室20内に蒸気を供給する蒸気供給部30、31と、処理室20に設けた排気口35aを介して処理室20内の気体を排気する排気ダクト35とを備え、処理室20内に蒸気を充満させて常圧の低酸素状態で被処理物を殺菌処理する殺菌装置1において、排気ダクト35を流通する気体を加熱殺菌する排気加熱部41を排気ダクト35内に設けた。
【選択図】図1

Description

本発明は、処理室内に蒸気を供給して被処理物を殺菌する殺菌装置に関する。
病院等において治療に用いられる前や治療に用いられた後の包帯、メス、鉗子、手術着等は殺菌装置によって殺菌される。従来の殺菌装置は特許文献1に開示されている。この殺菌装置は処理室内に過熱蒸気を供給する蒸気供給部と、処理室の排気を行う排気ダクトとが設けられる。
処理室内には被処理物が収容され、蒸気供給部から過熱蒸気が処理室内に供給される。蒸気の供給によって処理室内の空気は排気ダクトを介して排気される。これにより、処理室内が高温常圧の低酸素状態に維持され、被処理物の殺菌が行われる。また、処理室を常圧に維持することにより、防爆構造を不要にして低コスト化を図ることができるとともに熱水の噴出による危険を防止することができる。
特開2007−195956号公報(第3頁−第11頁、第1図)
しかしながら、従来の殺菌装置によると、殺菌処理の初期には処理室内には耐熱性菌等の菌が含まれる。このため、処理室内から菌が排気ダクトを介して排出されて室内に飛散し、衛生上の問題があった。また、殺菌処理が終了して蒸気の供給が停止されると蒸気が降温して凝縮され、排気ダクトを介して外気が処理室内に流入する。このため、外気に含まれる菌によって被処理物が汚染され、殺菌性能が低下する問題もあった。
本発明は、衛生性及び殺菌性能を向上できる殺菌装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明は、被処理物を収容する処理室と、前記処理室内に蒸気を供給する蒸気供給部と、前記処理室に設けた排気口を介して前記処理室内の気体を排気する排気ダクトとを備え、前記処理室内に蒸気を充満させて常圧の低酸素状態で被処理物を殺菌処理する殺菌装置において、前記排気ダクトを流通する気体を加熱殺菌する排気加熱部を前記排気ダクト内に設けたことを特徴としている。
この構成によると、処理室には蒸気供給部から蒸気が供給され、排気ダクトを介して排気を行うことにより常圧の低酸素状態で殺菌処理が行われる。排気ダクトを流通する蒸気及び空気は排気加熱部で加熱して殺菌された後に排出される。ここで、殺菌処理は菌の少なくとも一部を死滅させる処理を示し、一部を死滅させる除菌処理やほぼ全てを死滅させる滅菌処理が含まれる。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、殺菌処理の終了後に前記排気加熱部を所定期間駆動したことを特徴としている。この構成によると、殺菌処理の終了後に処理室内が蒸気の凝縮により圧力が低下した際に、排気ダクトを介して流入する外気が排気加熱部により殺菌される。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記排気加熱部の温度を350℃以上にしたことを特徴としている。この構成によると、排気加熱部の長さ及び断面積を著しく大きくすることなく排気を殺菌することができる。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記排気加熱部を設置する加熱室を設け、前記加熱室の流路面積を前記排気ダクトの流路面積よりも大きくしたことを特徴としている。この構成によると、排気ダクトを流通する気流の速度が加熱室で減速され、気流が排気加熱部に接触する時間を長くすることができる。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記排気加熱部を前記排気ダクトの下部に設けたことを特徴としている。この構成によると、排気加熱部で高温となった気流が排気ダクトを流通する間に降温されて外部に排出される。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記排気口と前記排気加熱部との間に外気を供給する外気供給部を備えたことを特徴としている。この構成によると、排気口を介して処理室から流出する蒸気に外気供給部から外気が混合して排気加熱部で昇温される。これにより、菌の酸化による殺菌が促進される。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、殺菌処理の終了後に前記外気供給部による外気の供給を停止したことを特徴としている。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記排気加熱部をハニカム形状にしたことを特徴としている。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記排気加熱部の流路に酸化触媒を設けたことを特徴としている。この構成によると、菌の酸化による殺菌が促進される。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、前記蒸気供給部によって、前記処理室内に飽和蒸気を供給した後に過熱蒸気を供給したことを特徴としている。この構成によると、蒸気供給部により飽和蒸気が処理室に供給され、湿熱殺菌が行われる。湿熱殺菌が所定時間行われると蒸気供給部により過熱蒸気が処理室に供給され、乾熱殺菌が行われる。
また本発明は上記構成の殺菌装置において、飽和蒸気により前記処理室内を100℃近傍に維持する期間と、過熱蒸気により前記処理室内を170℃以上に維持する期間とを設けたことを特徴としている。この構成によると、飽和蒸気により100℃近傍で湿熱殺菌が行われ、過熱蒸気により170℃以上で乾熱殺菌が行われる。
本発明によると、排気ダクトを流通する気体を加熱殺菌する排気加熱部を排気ダクト内に設けたので、処理室から排気ダクトを介して流出する菌を殺菌して菌の飛散による衛生性の低下を防止することができる。また、殺菌処理後の処理室内に排気ダクトを介して流入する外気を殺菌して被処理物の汚染を防止することができる。従って、殺菌装置による衛生性及び殺菌性能を向上することができる。
以下に本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図1は一実施形態の殺菌装置の側面断面図を示している。殺菌装置1は後述する殺菌処理によって菌の少なくとも一部を死滅させ、一部を死滅させる除菌処理を行う装置やほぼ全てを死滅させる滅菌処理を行う装置が含まれる。殺菌装置1は直方体形状のキャビネット10を備えている。キャビネット10の正面には扉11が設けられる。扉11は下端を中心に垂直面内で回動可能に枢支され、上部には扉11を開閉するためのハンドル12が設けられている。
キャビネット10内には扉11により開閉される処理室20が設けられる。処理室20の側部には操作パネル(不図示)が設けられている。処理室20の壁面はステンレス鋼板で形成され、処理室20の外周面には断熱対策が施されている。
処理室20の外壁には背面から上面に亙って循環ダクト25が設けられる。循環ダクト25は処理室20の背壁及び天面にそれぞれ吸気口25a、噴出口25bを開口する。循環ダクト25内には遠心ファンから成る循環ファン26が設置される。循環ファン26の下流側には給気ダクト32を介して蒸気発生装置30が接続される。給気ダクト32には給気ダンパ33が設けられる。
蒸気発生装置30は蒸気発生用の水を貯水するポット(不図示)を有し、ポット内の水を昇温する蒸気発生ヒータ(不図示)が設けられる。ポットは金属、合成樹脂、セラミック或いはこれらの異種材料の組み合わせ等により筒型に形成され、耐熱性を有している。ポットには着脱自在の水タンク(不図示)から給水が行われるようになっている。
蒸気発生ヒータはポット内に浸漬される螺旋状のシーズヒータから成り、蒸気発生ヒータの通電によってポット内の水が昇温されて飽和蒸気が発生する。ポットの外周面に蒸気発生ヒータを密着してもよい。また、ポット内に浸漬される発熱体とポットの外側に巻設されるコイルとから成るIHヒータにより蒸気発生ヒータを形成してもよい。
循環ダクト25の天井部にはシーズヒータから成る蒸気加熱ヒータ31が設けられる。蒸気加熱ヒータ31は蒸気発生装置30で発生した蒸気を更に加熱して過熱蒸気を生成する。従って、蒸気発生装置30及び蒸気加熱ヒータ31は処理室20内に蒸気を供給する蒸気供給部を構成する。
給気ダンパ33を開いて循環ファン26を駆動すると、蒸気発生装置30により発生した蒸気は給気ダクト32を介して循環ダクト25に流入する。また、処理室20内の蒸気は吸気口25aから吸引され、循環ダクト25を通って噴気口25bから噴き出されて循環する。蒸気加熱ヒータ31を駆動した場合は循環ダクト25を流通する蒸気が更に加熱され、過熱蒸気が噴気口25bから噴き出される。蒸気の噴出しと吸引とを共通の循環ファン26により行うので、殺菌装置1のコスト増加を抑制することができる。
処理室20の背壁の下部には排気口35aを開口した排気ダクト35が設けられる。排気ダクト35によって蒸気よりも重い空気が大気中に排気される。これにより、処理室20内を酸素濃度が3%以下の低酸素状態に維持することができる。また、排気ダクト35が大気に開放されるため、処理室20内を常圧に維持することができる。
排気ダクト35の下部には加熱室40が設けられる。加熱室40の流路面積は排気ダクト35の流路面積よりも大きく形成される。これにより、排気ダクト35を流通する気流が加熱室40で減速される。加熱室40内にはハニカム状の気流路にシーズヒータを配した排気加熱部41が設けられる。排気加熱部41のシーズヒータの通電によって加熱室40を流通する気流が加熱される。また、加熱室40には排気加熱部41の温度を検知する温度センサ42が設けられる。
加熱室40の下面には外気供給ダクト45が導出される。外気供給ダクト45にはポンプ46及び弁47が設けられる。弁47を開いてポンプ46を駆動することにより、加熱室40内に下方から外気が供給される。これにより、排気口35aと排気加熱部41との間に外気を供給する外気供給部が構成される。弁47を閉じてポンプ46を停止すると外気の供給が停止される。
上記構成の殺菌装置1において、処理室20内に被処理物を投入して扉11を閉じると操作パネルの操作によって殺菌処理の動作が開始する。殺菌処理では循環ファン26及び蒸気発生装置30が駆動され、給気ダンパ33が開かれる。これにより、蒸気発生装置30で発生した飽和蒸気が処理室20内に供給される。処理室20内は飽和蒸気の供給によって昇温されて100℃近傍に維持され、被処理物が湿熱殺菌される。
この時、処理室20内の空気は排気ダクト35を介して排気され、常圧の低酸素状態に維持される。図2はこの時の排気ダクト35の気流の状態を示している。処理室内20から流出する空気及び蒸気は排気口35aを介して矢印A1の方向に流通し、加熱室40内に流入する。また、弁47が開かれてポンプ46が駆動され、矢印A2に示すように外気供給ダクト45から加熱室40に外気が流入する。
加熱室40内では排気加熱部41が駆動され、処理室内20から流出した空気及び蒸気が外気供給ダクト45から供給される空気とともに加熱される。加熱された空気及び蒸気は矢印A3に示すように流通し、外部に排出される。この時、排気加熱部41の温度は350℃になっており、加熱室40を通過する気流を殺菌する。
表1は殺菌における温度とD値との関係を実験的に求めた結果を示している。D値は菌が1/10に減少する時間を示している。この結果のアレニウスプロットをとると、図3に示すようになる。図3において、縦軸はD値の逆数の自然対数を示し、横軸は温度T(単位:K)の逆数を示している。
Figure 2009285020
これにより、温度T(絶対温度)とD値との関係は最小自乗法により式(1)に示すように導かれる。この時の決定係数R2は0.998である。
Ln(1/D)=−14218.993(1/T)+31.415 ・・・(1)
排気加熱部41による殺菌に必要な時間をD値の6倍とすると、式(1)により6D(sec)と温度T(℃)との関係は表2及び図4に示すように表わされる。
Figure 2009285020
即ち、排気加熱部41の温度が140℃の場合は殺菌のために約7240秒加熱する必要がある。排気加熱部41の温度が300℃の場合は殺菌のために約0.487秒加熱する必要がある。排気加熱部41の温度が350℃の場合は殺菌のために約0.0665秒加熱する必要がある。
蒸気発生部30から供給される蒸気量をm(g/sec)とすると、蒸気を理想気体として単位時間に排気ダクト35を流通する蒸気量V(cm3/sec)は式(2)で表わされる。尚、蒸気の分子量を18とし、理想気体の体積を300Kで22.4Lとしている。また、Tは摂氏である。
V=m/18×22.4×(T+273.15)/300×1000 ・・・(2)
排気加熱部41の断面積S(cm2)及び流路長L(cm)により、蒸気が排気加熱部41を通過する時間t(sec)は式(3)で表わされる。
t=S×L/V ・・・(3)
従って、式(1)〜(3)より、式(4)に示す関係であれば確実に殺菌を行うことができる。ここでTは摂氏である。
6/EXP[−14218.993/(T+273.15)+31.415]
≦SL/[m/18×22.4×(T+273.15)/300×1000]・・(4)
商用電源を用いて蒸気発生部30により供給される蒸気量をm=0.5g/secとすると、排気加熱部41の温度Tが350℃の時に通過時間tを0.0665秒以上にするには、式(2)、式(3)よりS×Lが85.9cm3以上必要である。例えば、L=3cmであれば断面積Sが28.65cm2以上必要となる。これにより、排気加熱部41を約5.4cm角で3cmの長さにすればよいので、容易に実現することができる。温度Tが350℃よりも高い場合は排気加熱部41を更に小型にできるため、より容易に実現できる。
温度Tが350℃よりも低くなると排気加熱部41が大型になる。例えば、排気加熱部41の温度Tを300℃の時に通過時間t=0.487秒とするには、S×Lが579.9cm3以上必要である。これは、排気加熱部41を6cm角(S=36cm2)にしても長さL=16cm以上にする必要がある。これにより、高温に維持する期間を長く確保する必要があるため実現が困難となる。従って、排気加熱部41の温度Tを350℃以上にするとよい。
湿熱殺菌が所定時間行われると、蒸気加熱ヒータ31が駆動される。これにより、処理室20には過熱蒸気が供給され、被処理物が乾熱殺菌される。処理室20は所定の温度(例えば、170℃以上)よりも高くなると蒸気発生装置30を停止して給気ダンパ33が閉じられ、低くなると蒸気発生装置30を駆動して給気ダンパ33が開かれる。これにより、処理室20が所定の温度に維持される。
乾熱殺菌が所定時間行われると蒸気発生装置30及び蒸気加熱ヒータ31が停止される。これにより、蒸気の供給が停止され、処理室20が徐々に降温する。処理室20は降温によって蒸気が凝縮して減圧される。これにより、排気ダクト35を介して外気が処理室20に流入する。この時、排気加熱部41は継続して駆動されるとともに、弁47が閉じられてポンプ46が停止される。
図5はこの時の排気ダクト35の気流の状態を示している。外気は排気ダクト35を介して矢印B1に示すように加熱室40に流入する。加熱室40では排気加熱部41により外気が加熱されて殺菌され、矢印B2に示すように処理室20に流入する。蒸気を停止して所定時間が経過すると排気加熱部41が停止され、終了が報知される。これにより、使用者は扉11を開いて被処理物を取り出す。
本実施形態によると、排気ダクト35を設けることによって常圧で殺菌処理を行うため、処理室20の防爆構造を不要にして低コスト化を図ることができるとともに、熱水の噴出による危険を防止することができる。また、低酸素状態で殺菌処理を行うため被処理物の酸化を防止し、メス等の切れ味を維持することができる。
また、排気ダクト35を流通する気体を加熱殺菌する排気加熱部41を排気ダクト35内に設けたので、処理室20から排気ダクト35を介して流出する菌を殺菌して菌の飛散による衛生性の低下を防止することができる。また、殺菌処理後の処理室20内に排気ダクト35を介して流入する外気を殺菌して被処理物の汚染を防止することができる。従って、殺菌装置1による衛生性及び殺菌性能を向上することができる。
また、殺菌処理の終了後に排気加熱部41を所定期間駆動したので、排気ダクト35を介して処理室20に流入する外気を確実に殺菌することができる。
また、排気加熱部41の温度を350℃以上にしたので、殺菌に必要な通過時間を有する排気加熱部41を容易に実現することができる。
また、加熱室40の流路面積を排気ダクト35の流路面積よりも大きくしたので、加熱室40に流入する気体の流速を減速することができる。従って、排気加熱部41における殺菌に必要な気流の通過時間を確保しつつ、殺菌装置1の小型化を図ることができる。
また、排気加熱部41を排気ダクト35の下部に設けたので、処理室20から流出して排気加熱部41で昇温された気体を排気加熱部41の下流の排気ダクト35内で降温することができる。従って、高温の排気による火傷等を防止して殺菌装置1の安全性を向上することができる。
また、排気口35aと排気加熱部41との間に外気を供給する外気供給ダクト45(外気供給部)を備えたので、菌の酸化を促進してより確実に殺菌することができる。尚、排気加熱部41の流路に白金やパラジウム等の酸化反応を促進する酸化触媒を設けると、菌の酸化が更に促進されるためより望ましい。
また、殺菌処理の終了後に外気供給ダクト35からの外気の供給を停止したので、加熱殺菌されていない外気の処理室20内への流入を防止することができる。
また、排気加熱部41をハニカム形状にしたので、排気加熱部41と気流との接触面積を大きく確保することができ、より確実に殺菌することができる。
また、蒸気発生装置30及び蒸気加熱ヒータ31によって飽和蒸気を処理室20に供給して湿熱殺菌を行った後に、過熱蒸気を処理室20に供給して乾熱殺菌が行われる。これにより、乾熱殺菌で処理室20を170℃以上に維持することによって耐熱性菌の殺菌を行うことができる。加えて、湿熱殺菌と乾熱殺菌とを行うことによって殺菌処理の時間を短縮することができる。
本実施形態において、飽和蒸気による湿熱殺菌の後に過熱蒸気による乾熱殺菌を行っているが、湿熱殺菌及び乾熱殺菌のいずれか一方のみを行ってもよい。
本発明は、処理室内に蒸気を噴出して被処理物の殺菌処理を行う殺菌装置に利用することができる。
本発明の実施形態の殺菌装置を示す側面断面図 本発明の実施形態の殺菌装置の殺菌処理時の気流の流れを示す側面断面図 殺菌のD値と温度との関係のアレニウスプロットを示す図。 殺菌のD値と温度との関係を示す図。 本発明の実施形態の殺菌装置の殺菌処理後の気流の流れを示す側面断面図
符号の説明
1 殺菌装置
11 扉
20 処理室
25 循環ダクト
25a 吸気口
25b 噴出口
26 循環ファン
30 蒸気発生装置
31 蒸気加熱ヒータ
32 給気ダクト
33 給気ダンパ
35 排気ダクト
35a 排気口
40 加熱室
41 排気加熱部
45 外気供給ダクト
46 ポンプ
47 弁

Claims (11)

  1. 被処理物を収容する処理室と、前記処理室内に蒸気を供給する蒸気供給部と、前記処理室に設けた排気口を介して前記処理室内の気体を排気する排気ダクトとを備え、前記処理室内に蒸気を充満させて常圧の低酸素状態で被処理物を殺菌処理する殺菌装置において、前記排気ダクトを流通する気体を加熱殺菌する排気加熱部を前記排気ダクト内に設けたことを特徴とする殺菌装置。
  2. 殺菌処理の終了後に前記排気加熱部を所定期間駆動したことを特徴とする請求項1に記載の殺菌装置。
  3. 前記排気加熱部の温度を350℃以上にしたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の殺菌装置。
  4. 前記排気加熱部を設置する加熱室を設け、前記加熱室の流路面積を前記排気ダクトの流路面積よりも大きくしたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の殺菌装置。
  5. 前記排気加熱部を前記排気ダクトの下部に設けたことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の殺菌装置。
  6. 前記排気口と前記排気加熱部との間に外気を供給する外気供給部を備えたことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の殺菌装置。
  7. 殺菌処理の終了後に前記外気供給部による外気の供給を停止したことを特徴とする請求項6に記載の殺菌装置。
  8. 前記排気加熱部をハニカム形状にしたことを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載の殺菌装置。
  9. 前記排気加熱部の流路に酸化触媒を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれかに記載の殺菌装置。
  10. 前記蒸気供給部によって、前記処理室内に飽和蒸気を供給した後に過熱蒸気を供給したことを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれかに記載の殺菌装置。
  11. 飽和蒸気により前記処理室内を100℃近傍に維持する期間と、過熱蒸気により前記処理室内を170℃以上に維持する期間とを設けたことを特徴とする請求項10に記載の殺菌装置。
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