JP2009282234A - 光学素子のパターニング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】イオンが予め打ち込まれて異屈折率領域61を点在させた光学素子2を原料ガス雰囲気中に配置し、原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の光を光学素子2に照射することにより、異屈折率領域61に発生させた近接場光に基づいて原料ガスを解離させて選択的にエッチングし、また異屈折率領域61に発生させた近接場光に基づいて温度上昇を起こさせることにより脈理を除去する。
【選択図】図1
Description
2 光学素子
11 チャンバ
13 ステージ
15 窓
16 ポンプ
17 圧力センサ
18 バタフライバルブ
19 段
23 供給管
61 異屈折率領域
Claims (6)
- イオンが予め打ち込まれて異屈折率領域を点在させた光学素子を原料ガス雰囲気中に配置し、
上記原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の光を上記光学素子に照射することにより、上記異屈折率領域に発生させた近接場光に基づいて上記原料ガスを解離させて選択的にエッチングすること
を特徴とする光学素子のパターニング方法。 - 塩素系ガスからなる原料ガス雰囲気中に光学素子を配置し、
上記塩素系ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の光を照射すること
を特徴とする請求項1記載の光学素子のパターニング方法。 - 光の回折限界以下のピッチで上記凹凸が形成された光学素子を上記原料ガス雰囲気中に配置すること
を特徴とする請求項1又は2記載の光学素子のパターニング方法。 - 請求項1〜3のうち何れか1項に記載の光学素子のパターニング方法の工程を有すること
を特徴とする光学素子の作製方法。 - イオンが予め打ち込まれて異屈折率領域を点在させた光学素子に光を照射することにより各異屈折率領域に近接場光を発生させ、
発生させた近接場光に基づいて上記光学素子の少なくとも上記各異屈折率領域について流動性を増加させることにより脈理又は不純物を除去すること
を特徴とする光学素子の脈理除去方法。 - 発生させた近接場光に基づいて上記光学素子のガラス転移点以上まで加熱すること
を特徴とする請求項5記載の光学素子の脈理除去方法。
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