JP2009272640A - 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】各流体抽出開口の面積及び/又は全流体抽出開口の総面積及び/又は隣接する流体抽出開口間の間隔を制御することができる。振動が減少すると露光の精度が上がる。
【選択図】図7
Description
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、液浸空間内に液浸液のメニスカスを形成するように構成され、メニスカスが、基板及び/基板テーブルの表面と、流体抽出開口が設けられた表面との間に形成され、
流体抽出開口全部の所与の総面積について、各流体抽出開口の面積は、外乱力が減少するように設定される、
流体ハンドリング構造が提供される。
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、液浸空間内に液浸液のメニスカスを形成するように構成され、メニスカスが、基板及び/基板テーブルの表面と、開口が設けられた表面との間に形成され、
各流体抽出開口の面積は0.1mm2以内である、
流体ハンドリング構造が提供される。
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、液浸空間内に液浸液のメニスカスを形成するように構成され、メニスカスが、基板及び/基板テーブルの表面と、開口が設けられた表面との間に形成され、
各流体抽出開口の最大寸法が0.4mm以内である、
流体ハンドリング構造が提供される。
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、液浸空間内に液浸液のメニスカスを画定するように構成され、メニスカスが、基板及び/基板テーブルの表面と、開口が設けられた表面との間に形成され、
流体抽出開口によって形成されるリニア構成の1メートル当たりに設けられるその面積が、25mm2m-1から100mm2m-1の範囲である、
流体ハンドリング構造が提供される。
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、液浸空間内に液浸液のメニスカスを形成するように構成され、メニスカスが、基板及び/基板テーブルの表面と、開口が設けられた表面との間に形成され、
流体抽出開口全部を組み合わせた総面積が、30mm2以内である、
流体ハンドリング構造が提供される。
光軸を有する投影システムと、
基板を支持する基板テーブルと、
複数の流体抽出開口が設けられた表面を備え且つ投影システムと基板及び/又は基板テーブルの間の空間に液浸液を供給し、閉じ込める流体ハンドリング構造とを備え、流体抽出開口が、
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)空間からの液浸液と(ii)液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、空間内に液浸液のメニスカスを形成するように構成され、メニスカスが、基板及び/基板テーブルの表面と、開口が設けられた表面との間に形成され、
以下の特徴、
各流体抽出開口の面積が0.1mm2以内である、
各流体抽出開口の最大寸法が0.4mm以内である、
流体抽出開口の全部を組み合わせた総面積が30mm2以内である、及び
流体抽出開口によって形成されたリニア構成の1メートル当たりに設けられるその面積が25mm2m-1から100mm2m-1の範囲である、
のうち1つ又は複数を有する、液浸リソグラフィ装置が提供される。
投影システムと基板の間の液浸空間に液浸液を提供し、
流体ハンドリング構造の複数の流体抽出開口に低圧を加えることによって、液浸空間から液浸液を回収し、
流体抽出開口のそれぞれに0.1mm2以内の面積を提供することを含む、
デバイス製造方法が提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の静止露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、1回の動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (15)
- 複数の流体抽出開口が設けられた表面を備える、リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体抽出開口が、
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)前記液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、前記液浸空間内に前記液浸液のメニスカスを形成するように構成され、前記メニスカスが、前記基板及び/前記基板テーブルの表面と、前記流体抽出開口が設けられた前記表面との間に形成され、
前記流体抽出開口全部の所与の合計面積について、各流体抽出開口の面積が、外乱力が減少するように設定される、流体ハンドリング構造。 - 各流体抽出開口の面積が0.1mm2以下である、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。
- 各流体抽出開口の前記面積が0.01mm2から0.1mm2の範囲である、請求項2に記載の流体ハンドリング構造。
- 各流体抽出開口の前記面積が0.04mm2から0.0625mm2の範囲である、請求項3に記載の流体ハンドリング構造。
- 全流体抽出開口の前記総面積が30mm2以下である、請求項1から4のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 全流体抽出開口の前記総面積が2mm2から20mm2の範囲である、請求項5に記載の流体ハンドリング構造。
- 全流体抽出開口の前記総面積が5mm2から18mm2の範囲である、請求項6に記載の流体ハンドリング構造。
- 複数の流体抽出開口が設けられた表面を備える、リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体抽出開口が、
基板及び/又は基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)前記液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、前記液浸空間内に前記液浸液のメニスカスを形成するように構成され、前記メニスカスが、前記基板及び/前記基板テーブルの表面と、前記流体抽出開口が設けられた前記表面との間に形成され、
各流体抽出開口の最大寸法が0.4mm以内である流体ハンドリング構造。 - 各流体抽出開口の前記最大寸法が0.1mmから0.4mmの範囲である、請求項8に記載の流体ハンドリング構造。
- 各流体抽出開口の前記最大寸法が0.2mmから0.3mmの範囲である、請求項9に記載の流体ハンドリング構造。
- 複数の流体抽出開口が設けられた表面を備える、リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造であって、前記流体抽出開口が、
基板及び/又は基板を支持するように構成された基板テーブルの表面に向かって配向され、
(i)液浸空間からの液浸液と(ii)前記液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、前記液浸空間内に前記液浸液のメニスカスを形成するように構成され、前記メニスカスが、前記基板及び/前記基板テーブルの表面と、前記流体抽出開口が形成された前記表面との間に画定され、
前記複数の流体抽出開口によって形成されるリニア構成の1メートル当たりに設けられるその総面積が、25mm2m-1から100mm2m-1の範囲である流体ハンドリング構造。 - 隣接する流体抽出開口の中心間距離が0.7mmから2mmの範囲である、請求項1から11のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 隣接する流体抽出開口の中心間距離が0.4mmから1mmの範囲である、請求項1から12のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 光軸を有する投影システムと、
基板を支持する基板テーブルと、
複数の流体抽出開口が設けられた表面を備え且つ前記投影システムと前記基板及び/又は前記基板テーブルの間の空間に液浸液を供給し、閉じ込める流体ハンドリング構造とを備え、前記流体抽出開口が、
前記基板及び/又は前記基板テーブルの前記表面に向かって配向され、
(i)前記空間からの液浸液と(ii)前記液浸液の外側にある雰囲気からの気体との混合物を除去することによって、前記空間内に前記液浸液のメニスカスを形成するように構成され、前記メニスカスが、前記基板及び/前記基板テーブルの前記表面と、前記流体抽出開口が設けられた前記表面との間に形成され、
以下の特徴、
各流体抽出開口の面積が0.1mm2以内である、
各流体抽出開口の最大寸法が0.4mm以内である、
前記流体抽出開口の全部を組み合わせた総面積が30mm2以内である、及び
流体抽出開口によって形成されたリニア構成の1メートル当たりに設けられるその面積が25mm2m-1から100mm2m-1の範囲である、
のうち1つ又は複数を有する、液浸リソグラフィ装置。 - 投影システムと基板の間の液浸空間に液浸液を提供し、
流体ハンドリング構造の複数の流体抽出開口に低圧を加えることによって、前記液浸空間から前記液浸液を回収し、
前記流体抽出開口のそれぞれに0.1mm2以内の面積を提供することを含む、
デバイス製造方法。
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