JP5661064B2 - 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
投影システムの最終エレメントと基板の間に流体を提供する工程と、
加圧下で流体ハンドリング構造中の複数の開口に取り付けることによって投影システムの最終エレメントと基板との間から液体を回収する工程と、
ガスを複数の穴を介して供給することによって上記複数の開口に向かって液体を強制的に押す工程であって、これらの穴と上記複数の開口との間の距離が1mmから5mmまでの範囲から選択される工程と
を含むデバイス製造方法が提供される。
− 放射ビームB(たとえばUV放射またはDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築され、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(たとえばマスクテーブル)MTと、
− 基板(たとえばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(たとえば1つまたは複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(たとえば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1. ステップモードでは、サポート構造MTおよび基板テーブルWTが、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度でターゲット部分C上に投影される(すなわち単一静止露光)。次いで、基板テーブルWTは、別のターゲット部分Cを露光することが可能となるようにX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静止露光においてイメージングされるターゲット部分Cのサイズを限定する。
2. スキャンモードでは、サポート構造MTおよび基板テーブルWTが、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される(すなわち単一動的露光)。サポート構造MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大率(縮小率)および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャニング方向の)幅を限定し、スキャニング動作の長さが、ターゲット部分の(スキャニング方向の)高さを決定する。
3. 別のモードでは、サポート構造MTが、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静的状態に保たれ、基板テーブルWTが、移動されまたはスキャンされるとともに、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することが可能である。
Claims (12)
- リソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、
基板および/または前記基板を支持する基板テーブルに向く複数のメニスカス固定開口と、
前記複数のメニスカス固定開口を外側から取り囲むガスナイフ用の細長い穴または一列に配置される複数の穴と、
前記細長い穴または複数の穴と前記複数のメニスカス固定開口との間に配置されるダンパと、を備え、
前記複数のメニスカス固定開口が、平面において、当該流体ハンドリング構造の下面に隅部付き形状を形成し、
前記隅部付き形状は、少なくとも1つの湾曲した隅部を有する、流体ハンドリング構造。 - 前記細長い穴または複数の穴が、平面において、前記流体ハンドリング構造の下面に隅部付き形状を形成する、請求項1に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記細長い穴または複数の穴の前記隅部付き形状が、前記複数のメニスカス固定開口の前記隅部付き形状に実質的に類似している、請求項2に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記隅部付き形状のうちの少なくとも1つが少なくとも4つの隅部を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記隅部付き形状のうちの少なくとも1つが、負の曲率半径を有する縁部を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記隅部付き形状のうちの少なくとも1つが、平面において、前記流体ハンドリング構造と前記基板テーブルとの間の相対運動の方向に整列した隅部を有する形状を有している、請求項1〜5のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記相対運動の方向はスキャンニング方向および/またはステッピング方向である、請求項6に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記ダンパの幅が、前記細長い穴の隅部または前記複数の穴の列の隅部に向かって広くなる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記ダンパは可変幅を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 前記湾曲した隅部は、0.5mm〜4.0mmの範囲から選択される半径を有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の流体ハンドリング構造。
- 基板を支持する基板テーブルと、
流体ハンドリング構造と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記流体ハンドリング構造が、
2相流体流を通過させる複数のメニスカス固定開口であって、前記基板および/または前記基板テーブルに向く複数のメニスカス固定開口と、
前記複数のメニスカス固定開口から距離を隔てて配置されて前記複数のメニスカス固定開口を外側から取り囲むガスナイフ用の穴と、を備え、
前記複数のメニスカス固定開口が、前記流体ハンドリング構造と前記基板、前記基板テーブルまたはその両方との間から液体を除去し、それにより前記穴からのガスの流れの大部分が前記複数のメニスカス固定開口を通って流れ、
前記複数のメニスカス固定開口が、平面において、前記流体ハンドリング構造の下面に隅部付き形状を形成し、
前記隅部付き形状は、少なくとも1つの湾曲した隅部を有する、リソグラフィ装置。 - 流体ハンドリング構造を備えるリソグラフィ装置であって、
前記流体ハンドリング構造が、
基板および/または前記基板を支持する基板テーブルに向く複数のメニスカス固定開口と、
前記複数のメニスカス固定開口を外側から取り囲むガスナイフ用の少なくとも1つの細長い穴と、を備え、
前記細長い穴が隅部を有し、
前記複数のメニスカス固定開口が、平面において、前記細長い穴の前記隅部に対応する湾曲した隅部を有する、リソグラフィ装置。
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