JP2009270186A - メッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法 - Google Patents
メッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009270186A JP2009270186A JP2008124469A JP2008124469A JP2009270186A JP 2009270186 A JP2009270186 A JP 2009270186A JP 2008124469 A JP2008124469 A JP 2008124469A JP 2008124469 A JP2008124469 A JP 2008124469A JP 2009270186 A JP2009270186 A JP 2009270186A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- workpiece
- processed
- low density
- current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
【解決手段】メッキ槽2内の投入部を、メッキ処理するための電流高密度帯域Aと区分して電流低密度帯域Bと成し、電流低密度帯域B内に被処理物1を上方から投入して予め待機していた被処理物1との間隔を所望の間隔に保持する投入工程と、該被処理物1を電流高密度帯域A内に搬送すると共にその後端が電流低密度帯域Bと電流高密度帯域Aの境に位置するように一時待機させる待機工程とが、繰返して行われるメッキ処理方法とする。
【選択図】図1
Description
2 メッキ槽
5 メッキ槽搬送手段
A 電流高密度帯域
B 電流低密度帯域
Claims (5)
- 被処理物(1)が垂直に吊下されてメッキ槽(2)内を搬送しながらメッキ処理される方法に於いて、前記メッキ槽(2)内の前記被処理物(1)の投入部を、メッキ処理するための電流高密度帯域(A)と区分して電流低密度帯域(B)と成し、新たに投入した被処理物(1)が前記電流低密度帯域(B)内で、先に投入された被処理物(1)との間隔を所望の間隔に保持されることを特徴とするメッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法。
- 前記電流低密度帯域(B)内に前記被処理物(1)を上方から投入する投入工程と、投入された前記被処理物(1)を前記電流高密度帯域(A)内に搬送すると共に前記被処理物(1)の後端が電流低密度帯域(B)と前記電流高密度帯域(A)の境に位置するように一時待機させる待機工程とを、始めに行い、次に、空になった前記投入部の電流低密度帯域(B)内に新たな被処理物(1)を上方から投入し、且つ、待機させた被処理物(1)との間隔を所望の間隔に保持すると共に、その被処理物(1)の略幅ピッチ分を前記電流高密度帯域(A)内に搬送させて停止し、次の被処理物(1)の投入工程を待ち、順次投入工程と搬送・待機工程とが繰返して行われる請求項1記載のメッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法。
- 前記電流低密度帯域(B)内に1つ以上の被処理物(1)を待機させておき、該被処理物(1)の横に、新たな被処理物(1)を上方から投入させ、且つ、前記被処理物(1)との間隔を所望の間隔に保持すると共に、前記被処理物(1)の略幅ピッチ分を前記電流高密度帯域(A)内に搬送させて停止し、次の被処理物(1)の投入工程を待ち、順次投入工程と搬送・待機工程が繰返して行われる請求項1記載のメッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法。
- 前記電流低密度帯域(B)内で、新たな被処理物(1)が、メッキ槽搬送手段(5)よりも高速に移動し、電流高密度帯域(A)内の最後尾の被処理物(1)に追従して、且つ、一定の速度で前記電流高密度帯域(A)内に搬送されながら前記被処理物(1)をメッキ処理する請求項1記載のメッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法。
- 前記電流低密度帯域(B)の値が、前記電流高密度帯域(A)に対して0.1〜0.3倍の範囲である請求項1、2、3又は4記載のメッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008124469A JP5014248B2 (ja) | 2008-05-12 | 2008-05-12 | メッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008124469A JP5014248B2 (ja) | 2008-05-12 | 2008-05-12 | メッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009270186A true JP2009270186A (ja) | 2009-11-19 |
JP5014248B2 JP5014248B2 (ja) | 2012-08-29 |
Family
ID=41437000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008124469A Expired - Fee Related JP5014248B2 (ja) | 2008-05-12 | 2008-05-12 | メッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5014248B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014227572A (ja) * | 2013-05-22 | 2014-12-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 化学処理装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04210500A (ja) * | 1990-12-04 | 1992-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | 電気めっき装置 |
JP2000226697A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Fujimoto Denki Shoji Kk | めっき装置およびめっき方法 |
-
2008
- 2008-05-12 JP JP2008124469A patent/JP5014248B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04210500A (ja) * | 1990-12-04 | 1992-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | 電気めっき装置 |
JP2000226697A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Fujimoto Denki Shoji Kk | めっき装置およびめっき方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014227572A (ja) * | 2013-05-22 | 2014-12-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 化学処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5014248B2 (ja) | 2012-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101540474B1 (ko) | 연속 도금 처리 장치 | |
JP5795514B2 (ja) | 連続メッキ装置 | |
JP4257203B2 (ja) | 電解処理システム用のセグメント化した対向電極 | |
JPS61246372A (ja) | 物品のメツキ方法および装置 | |
TW201127997A (en) | Plating tank | |
JP6448494B2 (ja) | サクションめっき装置 | |
JP6041927B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP2006316322A (ja) | シート状製品のめっき方法 | |
JP2013011009A (ja) | 表面処理装置及びワーク保持治具 | |
JP5014248B2 (ja) | メッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法 | |
JPH04129630A (ja) | 搬送装置 | |
JP2007247039A (ja) | 表面処理装置、搬送用ハンガーおよび搬送用ハンガーの搬送方法 | |
JP5020030B2 (ja) | 電子回路生産システム及び電子回路生産方法 | |
KR101379269B1 (ko) | 표면처리장치 | |
JP3025254B1 (ja) | めっき装置およびめっき方法 | |
JP2010093162A (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
JP6117891B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP2016025270A (ja) | 部品実装ライン及び部品実装装置並びに部品実装方法 | |
JP6737527B2 (ja) | 表面処理装置 | |
US4511448A (en) | Plating apparatus | |
KR20100034318A (ko) | 연속도금설비의 기판간격 조절장치 | |
JP6115309B2 (ja) | 化学処理装置 | |
JP3170766U (ja) | クランプ搬送による薄板状被処理物の水平連続メッキ処理装置 | |
JP2016063036A (ja) | 部品実装装置および部品実装方法 | |
JP4721861B2 (ja) | 搬送用ハンガーおよびその搬送方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120409 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120529 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120605 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150615 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |