JP2009251487A - 機能膜形成方法、有機ｅｌパネルの製造方法、カラーフィルタの製造方法、表示装置、および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】吐出ヘッドの継目部分において、既に液状体が吐出された領域と、これから液状体が吐出される領域との間で、液状体から蒸発して形成される溶媒雰囲気に差が生じる。このため、乾燥処理によって形成される発光層の膜厚が、これから液状体が吐出される被吐出領域に偏り、発光ムラとなってしまう。
【解決手段】画素Ｇ１０，Ｇ１４に形成され膜厚差が発生している発光層Ｌ１０，Ｌ１４が、主として溶解液溜りＭ４，Ｍ５から蒸発する溶媒によって溶解される（図（ａ））。溶解された発光層Ｌ１０、発光層Ｌ１４は、それぞれ機能液Ｋ１０、機能液Ｋ１４の状態を呈する（図（ｂ））。この状態で、再乾燥処理を行うと、各画素Ｇ１０，Ｇ１４のそれぞれの画素領域において、溶媒雰囲気に偏りがなくほぼ同一になることから、再乾燥処理によって形成される各発光層Ｌ１０，Ｌ１４は、それぞれ膜厚に差異が発生することなく形成される（図（ｃ））。
【選択図】図１１

Description

本発明は、機能膜形成方法、この機能膜形成方法を用いた有機ＥＬパネルの製造方法およびカラーフィルタの製造方法、これらの製造方法で製造された有機ＥＬパネルおよびカラーフィルタをそれぞれ備えた表示装置、これらの表示装置をそれぞれ備えた電子機器に関する。

近年、薄型の自発光素子であるエレクトロルミネッセンス素子（ＥＬ素子）を表示素子として用いた表示装置が多く使われるようになってきた。ＥＬ素子は、発光材料によって形成された発光層に電流を流すことによって、所望する明るさの発光光を射出するものである。発光層の形成は、例えば、所定の基板上にバンクによって区画形成された被吐出領域（画素）に対して、基板と相対移動する吐出ヘッドから液状体を吐出する所謂インクジェット法を用い、発光材料を含む液状体を吐出する。その後、真空乾燥や加熱乾燥などの乾燥処理によって、吐出された液状体を固化することによって行われる。

ところで、周知のように、発光光の輝度は形成された発光層の厚さに依存する。このため、形成される発光層の厚さムラがそのまま輝度ムラになってしまう。従って、１つの被吐出領域内において発光層の厚さが均一になるように形成することが重要である。

しかしながら、インクジェット法を用いて、基板面に形成された複数の被吐出領域に液状体を吐出する場合、吐出ヘッドの複数回の相対移動によって順次複数の被吐出領域のそれぞれに液状体を吐出する場合が多い。このため、被吐出領域間において、液状体が吐出されるまでの時間に時間差が発生することになる。そして、この時間差による弊害として、形成される発光層の膜厚のムラが非特許文献１にて報告されている。

ＦＰＤ（Flat Panel Display）２００７セミナー，Ｃ−６有機ＥＬ，（３）製造資料，Page２−１９，スライド「Swathe Joins」

非特許文献１によれば、例えば、吐出ヘッドの１回の相対移動によって吐出される被吐出領域のSwathe（「帯域」と称す）と、この帯域と隣接し、他の１回の相対移動によって吐出される被吐出領域の帯域との接合部分、つまり吐出ヘッドの継目部分において、既にインク（液状体）が吐出された領域と、これから液状体が吐出される領域との間で、液状体から蒸発して形成される溶媒雰囲気に差が生じる。

すなわち、液状体が吐出済みの被吐出領域において、これから液状体が吐出される被吐出領域に隣接している側の領域部分では、蒸発する溶媒が、これから液状体が吐出される被吐出領域の方向に流れ易くなる。従って、これから液状体が吐出される被吐出領域に隣接している領域は溶媒が蒸発し易い溶媒雰囲気になるため、液状体が乾燥し易くなる。このため、これから液状体が吐出される被吐出領域に隣接している側の領域部分では溶媒の蒸発によって液状体が固化し、少なからず発光層が形成される。すると、その後の乾燥処理によって形成される発光層の膜厚は、これから液状体が吐出される被吐出領域側に偏ることになる。この結果、発光層の膜厚が隣接する被吐出領域間で異なるため、発光したときに吐出ヘッドの継目部分において発光ムラとなってしまうという課題がある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］基板面に形成された複数の被吐出領域に液状体を吐出し、吐出した当該液状体を乾燥処理して所定の機能膜を形成する機能膜形成方法であって、平面を有し、形成された前記機能膜を溶解する溶解液の液溜りが当該平面に配置された部材を、前記溶解液の液溜りと前記基板面とを対向させた状態で、前記機能膜が形成された前記複数の被吐出領域上を相対移動する工程を有することを特徴とする。

この方法によれば、吐出された液状体の乾燥によって形成された複数の機能膜を、被吐出領域上を移動する溶解液から蒸発する溶媒成分によって溶解することができる。従って、吐出ヘッドの継目部分に存在する被吐出領域において、吐出された液状体の乾燥処理によって形成された機能膜に膜厚の偏りが発生していても、この機能膜を含め複数の機能膜を総て一様に溶解することができる。その後一様に溶解されている複数の機能膜を再び乾燥処理すれば、各被吐出領域から蒸発する溶媒雰囲気に偏りが生じにくくなるため、溶解された機能膜は総て同様に乾燥し、形成される機能膜には膜厚の偏りが存在しないことになる。この結果、吐出ヘッドの継目部分に発生する輝度ムラを乾燥処理前に修復することが可能となる。

［適用例２］基板面に形成された複数の被吐出領域に液状体を吐出し、吐出した当該液状体を乾燥処理して所定の機能膜を形成する機能膜形成方法であって、平面を有し、形成された前記機能膜を溶解する溶解液の液溜りが当該平面に配置された部材を、前記溶解液の液溜りと前記基板面とを対向させた状態で、前記液状体の吐出後、前記液状体の乾燥処理に先んじて前記複数の被吐出領域上を相対移動する工程を有することを特徴とする。

この方法によれば、例えば、被吐出領域に吐出された液状体に、この液状体が固化した成分が含まれていても、被吐出領域上を移動する溶解液から蒸発する溶媒成分によって溶解することができる。従って、吐出ヘッドの継目部分に存在する被吐出領域内において生ずる被吐出領域部分毎の溶媒の蒸発量の差異によって、乾燥処理前に固化して形成される機能膜に膜厚の偏りが発生しても、この吐出ヘッドの継目部分に存在する被吐出領域を含め総ての被吐出領域において固化して形成された機能膜を一様に溶解することができる。その後、このように機能膜が一様に溶解された液状体を乾燥処理すれば、各被吐出領域から蒸発する溶媒雰囲気に偏りが生じにくくなるため液状体は同様に乾燥し、形成される機能膜には膜厚の偏りが存在しないことになる。この結果、吐出ヘッドの継目部分に発生する輝度ムラを乾燥処理前に修復することが可能となる。

［適用例３］上記機能膜形成方法であって、前記部材が相対移動する方向に対して直交する方向について、前記複数の被吐出領域が存在する領域範囲よりも前記溶解液の液溜りが配置された領域範囲の方が広いことを特徴とする。

この方法によれば、基板の端部に設けられた被吐出領域に対して再溶解に関与する溶解液の液溜りの配置範囲が、基板の他の部分に設けられた被吐出領域とほぼ同等とすることができる。この結果、総ての被吐出領域について、溶解液によって総ての機能膜を同様に再溶解することができる。

［適用例４］上記機能膜形成方法であって、前記溶解液の液溜りは複数配置され、前記部材が相対移動する方向に対して直交する方向について、前記溶解液の液溜りの配置ピッチは、前記複数の被吐出領域の形成ピッチよりも狭いことを特徴とする。

この方法によれば、１つの被吐出領域に対して少なくとも１つ分以上の溶解液の液溜りを対向させることができる。従って、確実に機能膜を再溶解することができる。

［適用例５］上記機能膜形成方法であって、前記溶解液は、前記液状体に含まれる溶媒と同じ溶媒を含むことを特徴とする。

この方法によれば、溶解液に含まれる溶媒によって再溶解した機能膜は、元の液状体とほぼ同じ成分の液状体に戻ることになる。従って、再溶解された液状体には、元の液状体に存在していない異種の溶媒が混じらないので、再び固化して形成される機能膜の特性は、元の液状体が固化して形成された機能膜の特性と同一になることが期待できる。

［適用例６］上記機能膜形成方法であって、前記部材の平面には、前記溶解液の液溜りの配置領域以外の領域に、前記溶解液に対する撥液処理が施されていることを特徴とする。

この方法によれば、溶解液の液溜り（以降、「溶解液溜り」と呼ぶ）が互いに連結せず、一つずつほぼ同じ形状と大きさを有する独立した液溜りを確実に形成することができる。従って、１つの被吐出領域に対して機能膜の溶解に関与する溶解液溜りから蒸発する溶媒量を、総ての被吐出領域において容易にほぼ同じとすることができる。この結果、総ての被吐出領域において、形成された機能膜を同じ様に溶解することができる。

［適用例７］上記機能膜形成方法であって、前記溶解液の液溜りは、１つのノズルから吐出される溶解液によって配置されたことを特徴とする。

この方法によれば、それぞれの溶解液の液溜りにおいて吐出された溶解液の吐出量をほぼ同じとすることが容易であるので、形成される各溶解液の液溜りの液量を均一にすることができる。従って、１つの被吐出領域に対して機能膜の溶解に関与する溶解液溜りから蒸発する溶媒量を、総ての被吐出領域においてほぼ同じとすることが容易になる。この結果、総ての被吐出領域において、形成された機能膜を同じ様に溶解することができる。

［適用例８］正孔注入層と発光層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機ＥＬパネルの製造方法であって、上記機能膜形成方法を用いて、少なくとも前記正孔注入層もしくは前記発光層を前記機能膜として形成することを特徴とする。

この製造方法によれば、乾燥処理後に液状体によって形成される正孔注入層もしくは発光層の膜厚が吐出ヘッドの継目部分においてほぼ均一になり、輝度ムラが抑制された有機ＥＬパネルを製造することができる。

［適用例９］ガラス基板に、複数色の光フィルタ層領域が形成されたカラーフィルタの製造方法であって、上記機能膜形成方法を用い、少なくとも１つの色の光フィルタ層を前記機能膜として形成することを特徴とする。

この製造方法によれば、乾燥処理後に液状体によって形成されるカラーフィルタ層の膜厚が吐出ヘッドの継目部分においてほぼ均一になり、透過する透過光の輝度ムラが抑制されたカラーフィルタを製造することができる。

［適用例１０］上記有機ＥＬパネルの製造方法によって製造された有機ＥＬパネルを表示手段として備えた表示装置。

この表示装置によれば、吐出ヘッドの継目部分において輝度ムラが抑制された有機ＥＬパネルを備えた表示装置を得ることができる。

［適用例１１］白色光をカラーフィルタによってカラー光に変換する表示装置であって、前記カラーフィルタは、上記カラーフィルタの製造方法によって製造されたカラーフィルタであることを特徴とする。

この表示装置によれば、吐出ヘッドの継目部分において透過光の輝度ムラが抑制されたカラーフィルタを備えた表示装置を得ることができる。

［適用例１２］上記表示装置を備えた電子機器。

上記表示装置によれば、吐出ヘッドの継目部分において輝度ムラが抑制された表示装置を得ることができるので、この表示装置を備えることによって、表示品質のよい画像を表示できる電子機器を提供することができる。

以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。図１は、本実施形態における機能膜形成方法によって形成した表示装置の一例となる有機ＥＬパネル５０を搭載した電子機器としての携帯電話１を示す説明図である。

有機ＥＬパネル５０は、エレクトロルミネッセンス素子としての有機ＥＬ素子を表示素子とするものであり、バックライトが不要で薄型化が可能であることから、画像や文字を表示する薄型の電子機器には好適な表示装置である。従って、本実施例の如く、携帯電話１に搭載する表示装置として有効である。

本実施形態の有機ＥＬパネル５０は、画素毎にそれぞれ発光可能な画素が複数形成され、画像や文字などの所定の画像を表示するように構成されている。もとより、有機ＥＬパネル５０は、赤色、緑色、青色のうちいずれか１色を発光可能な画素がそれぞれ複数形成され、画像や文字などの所定のカラー画像を表示するように構成されている場合もある。

なお、ここでは、以降の説明を簡単にするために、図１に示すように、有機ＥＬパネル５０は、Ｙ軸方向（図面縦方向）に４画素、Ｘ軸方向（図面横方向）に６画素の計２４個の画素が形成されているものとする。もとより、実際には、Ｘ軸、Ｙ軸それぞれの方向に数百画素といった多くの画素が形成されていることは言うまでもない。

図２は、有機ＥＬパネル５０の全体のレイアウトを回路構成とともに示した模式図である。有機ＥＬパネル５０は、図示するように画素ごとに表示駆動されるアクティブマトリックス型の表示装置である。各画素は、長手方向をＹ軸方向とする長円形状にバンクによって、矩形形状を有する基板Ｐ上に区画された領域を有し、基板Ｐのほぼ中央部分にＸ軸方向およびＹ軸方向に規則正しく配列されて形成されている。もとより、各画素は矩形形状や円形状など長円形状以外の領域形状に区画されていてもよいことは勿論である。なお、各画素は請求項記載の被吐出領域に相当する。

各画素には、有機ＥＬ素子が表示素子として、また、有機ＥＬ素子を表示（つまり発光）駆動するためのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）５４，５５と保持容量５６とが駆動素子として、それぞれ形成されている。なお、ここでは有機ＥＬ素子は、基板Ｐに対して表示素子の形成面側から光を射出するトップエミッション構造を有しているものとする。従って、駆動素子は表示素子と平面的に重なる位置であって、基板Ｐと表示素子との間に形成されている。もとより、有機ＥＬ素子は、トップエミッション構造でなく、基板Ｐに対して表示素子の形成面側と反対側から光を射出するボトムエミッション構造であっても差し支えない。

基板Ｐの外周部分には、走査駆動回路５１とデータ駆動回路５２、および給電端子５３とが形成されている。走査駆動回路５１からは走査線Ｇａｔｅが、データ駆動回路５２からはデータ線Ｓｉｇが、また、給電端子５３からはこれに接続された電源供給線Ｃｏｍが、それぞれ各画素に形成された駆動素子に対して図２に示したように配線され、表示素子を発光駆動する。

まず、走査線Ｇａｔｅは、ＴＦＴ５４のゲートに接続され、走査線Ｇａｔｅを介して供給される電流信号に応じて、ＴＦＴ５４をオン／オフ制御する。そしてＴＦＴ５４がオンすると、ＴＦＴ５４のソースに接続されたデータ線Ｓｉｇから供給される画像信号に応じて、電源供給線Ｃｏｍから供給される電源によって保持容量５６に所定の電圧が保持される。すると、保持容量５６に保持された電圧は、ＴＦＴ５５のゲートに印加され、ＴＦＴ５５をオン状態にする。ＴＦＴ５５のソースおよびドレインはそれぞれ電源供給線Ｃｏｍと陽極に接続され、保持容量５６に保持された電圧に応じた、つまり画像信号に応じた電流が、電源供給線Ｃｏｍを介して陽極に印加される。

各画素に形成される表示素子は、陽極と陰極との間に電流を流すことによって発光する。つまり、陽極に印加された電流が、総ての画素の表面に渡って形成された陰極に流れることによって、画像信号に応じた明るさで発光するのである。有機ＥＬパネル５０は、こうして画像を表示する。

次に、有機ＥＬパネル５０における具体的な画素構成について図３を用いて説明する。図３は、有機ＥＬパネル５０における各画素が有する機能層の構成を示す模式図である。図３（ａ）は、図２に示した各画素のうち、Ｘ軸方向（図面横方向）に３つの画素が並んだ表示部分を示した平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）におけるＡ−Ａ断面を示した模式断面図で、有機ＥＬ素子の形成が終了した状態を示している。また、図３（ｃ）は、有機ＥＬ素子の機能層を液状体の吐出によって塗布して形成する様子を示した模式図である。なお、各寸法は、説明の都合上必要に応じて誇張しているため、実際の寸法とは必ずしも一致していないことは言うまでもない。

各画素は、図３（ａ）に示したように、エッチングなどによって形成された絶縁有機材料（例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂）からなるバンク（図中ハッチング部分）によって区画された画素領域を有し、それぞれ長円形状を呈している。そして各画素の画素領域には発光可能な表示素子が形成されている。

発光可能な表示素子は、図３（ｂ）に示したように、陽極と陰極との間に形成された正孔注入層と発光層によって構成されている。ちなみに、本実施形態では、正孔注入層は、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を溶質とし、エチレングリコールを溶媒とした機能液を、液状体として画素領域に吐出後、真空乾燥などによって乾燥処理を行い、溶媒を除去して所定の厚さのＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ膜を形成したものである。また、発光層は、蛍光材料（例えば、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン））を溶質とし、１，３，５−トリメチルベンゼンを溶媒とした機能液を、液状体として各画素領域に吐出し、以降真空乾燥などによって乾燥処理を行って、それぞれ所定の厚さの蛍光材料膜を形成したものである。

ところで、バンクと陽極との間には、長円形状の画素領域の外周に沿って所定幅が画素領域内に露出するように、無機絶縁膜が形成されている。これは、正孔注入層や発光層を形成する機能液との親液性を高め、正孔注入層や発光層がバンク近傍まで形成されることによって、陽極と陰極との短絡を防止するようにするためである。もとより、正孔注入層や各発光層がバンク近傍まで形成できる場合は、無機絶縁膜は形成する必要はない。

また、本実施形態の表示素子は、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子であることから、発光光が陰極側から射出するように、陽極の基板Ｐと対向する面側には、反射層が形成されている。もとより、陽極が反射層を兼ねる場合は、反射層を形成する必要はない。

また、前述した表示素子を発光駆動するための駆動素子は、表示素子と平面的に重なる位置であって、基板Ｐと表示素子との間に形成されている。本実施形態では、駆動素子であるＴＦＴ５４，５５や保持容量５６は、図３（ｂ）に示したように基板Ｐとの間に位置し、表面全体が平坦化されたデバイス層の内部に形成されている。

さて、本実施形態では正孔注入層と発光層について、それぞれの層に対応した所定の機能液を各画素領域に吐出して塗布することによって形成する。具体的には、図３（ｃ）に示したように、吐出ヘッド（後述する）に設けられたノズルブロック２０ｎのノズルから、それぞれの画素領域に、表示素子を形成する正孔注入層と発光層の機能液を吐出することによって塗布する。その後、前述したように乾燥処理を行って各画素領域における正孔注入層および発光層を形成するのである。

ここで、機能液の吐出方法について図４を用いて説明する。図４は、基板Ｐにバンクによって区画形成された各画素領域に対して、所定の機能液を吐出する装置の一例となる液状体吐出装置１００を示す構成図である。

まず、液状体吐出装置１００の構成について説明する。液状体吐出装置１００は、図示するように、直線的に設けられた一対のガイドレール１０１と、ガイドレール１０１の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（図示せず）により１つの直線軸方向（これを本実施形態ではＹ軸方向とする）に移動する移動台１０３を備えている。移動台１０３上には、基板Ｐを載置するためのステージ１０５が設けられている。ステージ１０５は基板Ｐを吸着固定できる構成となっている。

ステージ１０５に対して移動台１０３と反対側には、所定の距離をおいて、Ｙ軸方向と異なる１つの直線軸方向（これを本実施形態ではＸ軸方向とする）を呈するように一対のガイドレール１０２が設けられている。

液状体吐出装置１００は、この一対のガイドレール１０２に沿って移動するキャリッジ２００が備えられている。すなわち、キャリッジ２００は、その両側にキャリッジ２００と一体若しくは別体でキャリッジ移動台１１２が設けられ、ガイドレール１０２の内部に設けられたエアスライダとリニアモータ（いずれも図示せず）により、Ｘ軸方向に沿って移動可能に構成されている。

キャリッジ２００には、所定の配列方向を呈するように穿設された複数のノズルと、ノズル毎に機能液を吐出する吐出機構と、が形成された吐出ヘッド２０が、ステージ１０５と対向する側に備えられている。そして、図示しない液状体供給装置からキャリッジ２００に供給された機能液は、図示しない流路を経由して吐出ヘッド２０に供給され、ノズル毎に形成された吐出機構（後述する）によって各ノズルから液滴として吐出する。

また、液状体吐出装置１００はコントロール装置１０を備えている。このコントロール装置１０は、コンピュータ機能を有し、入力される吐出制御データに基づいて、移動台１０３のＹ軸方向の移動制御と、キャリッジ２００に設けられたキャリッジ移動台１１２のＸ軸方向の移動制御と、吐出ヘッド２０に形成された吐出機構の駆動制御つまり機能液の吐出制御とを行う。本実施形態では、吐出制御データは、基板Ｐにバンクによって区画形成された複数の被吐出領域の各々について、基板Ｐに対する位置を示す位置データを含むデータであるものとする。

次に、吐出ヘッド２０に形成されたノズルについて、図５を用いて説明する。図５は、吐出ヘッド２０に穿設されたノズルの配列具合を示す模式図であり、図４においてキャリッジ２００を図面下方向（図中白抜き矢印方向）から見た状態を示したものである。なお、ここでは図面左右方向をＸ軸方向として図示している。

本実施形態では、図示するように、吐出ヘッド２０は機能液を吐出するノズルブロック２０ｎを備えている。ノズルブロック２０ｎには、所定のピッチで数十個〜数百個のノズルが穿設されている。そして、ノズルブロック２０ｎに穿設された複数のノズルは略一直線に配列され、その配列方向はＸ軸方向と一致している。

なお、ノズルブロック２０ｎに穿設されたノズルは、２列など複数のノズル列数を有する場合もあり、例えば２列の場合は、ノズルの穿設位置が、ノズル列間で互いに半ピッチずれた千鳥配列をなす関係となる場合もある。また、ノズルブロック２０ｎも複数個備えられていることもある。さらに吐出ヘッド２０を複数備えることもある。このように、被吐出領域の形成数や形成範囲、あるいは基板Ｐの大きさに応じて、必要な数のノズルブロック２０ｎや吐出ヘッド２０が備えられるのである。

穿設された各ノズルには、前述したようにノズル毎に吐出機構がそれぞれ形成され、吐出ヘッド２０内の液状体に圧力を発生させて、所定量の機能液をそれぞれのノズルから吐出するように構成されている。もとより、吐出機構は、総てのノズルについて同様な構造を有している。

吐出機構は、本実施形態では図５の吹出し部に示した構造を有し、圧電素子２を駆動体（アクチュエータ）とするものである。すなわち、圧電素子２は、その両端の電極ＣＯＭとＧＮＤとの間に電圧波形が印加されると、電歪性によって収縮あるいは伸長変形し、振動板３を矢印方向に撓ませて流路途中に形成された加圧室４に存在する機能液を加圧する。この結果、加圧された機能液は、吐出ヘッド２０の底面部材８に穿設されたノズルから、液滴９として吐出されるのである。なお、吐出機構は、例えば、駆動体として加熱素子を用いた所謂サーマル方式などであってもよい。

次に、液状体吐出装置１００によって行われる基板Ｐに対する機能液の吐出の手順について、図６を用いて説明する。図６は、基板Ｐに形成されたＹ軸方向（図面縦方向）に４画素、Ｘ軸方向（図面横方向）に６画素の計２４個の画素に、各発光層を形成する発光材料と溶媒とを含む機能液を吐出する様子を示す模式図である。

図示するように、本実施形態では、Ｙ軸方向に基板Ｐが移動することによって、図面上から下方向を主走査方向として相対移動する吐出ヘッド２０に設けられたノズルから、基板Ｐ上に形成された各画素に対応する画素領域に機能液を吐出する。

本実施形態では、吐出ヘッド２０を所謂スキャン走査することによって、基板Ｐに形成された総ての画素領域に対して機能液を吐出するものとする。すなわち、主走査一回についてＸ軸方向に連続する３つの画素領域に対して機能液を吐出するようにし、まず１回目の主走査によって図中破線で示した主走査領域に含まれる画素Ｇ１〜画素Ｇ１２の画素領域に機能液を吐出する。その後、基板Ｐの図面下から上方向へのＹ軸方向の移動とキャリッジ２００のＸ軸方向の移動とによって副走査された吐出ヘッド２０（図中、二点鎖線）によって２回目の主走査を行い、主走査領域に含まれる画素Ｇ１３〜画素Ｇ２４の画素領域に機能液を吐出する。こうして総ての画素領域に機能液を吐出するのである。なお、機能液の吐出はスキャン走査以外の走査方法によって行うこととしても差し支えない。

ここで、本実施形態では、ノズルブロック２０ｎに形成されたノズルのＸ軸方向のピッチは、各画素のＸ軸方向のピッチと同じであるものとした。実際には、このようにノズルピッチを画素ピッチに合わせて機能液を吐出することが通常行われている。つまり、ノズルブロック２０ｎに形成された多数のノズルのＸ軸方向のピッチを、基板Ｐに区画形成された多数の画素領域のＸ軸方向のピッチと同じになるように調節して機能液を吐出することが行われるのである。その後、吐出された機能液が乾燥処理されて、基板Ｐ上に各画素に対応した有機ＥＬ素子が表示素子として形成され、さらに陰極が形成されて有機ＥＬパネルが出来上がる。

さて、このように形成された有機ＥＬパネルについて、各画素の発光輝度は、形成される発光層の厚さ、あるいは、発光層を流れる電流の大きさに依存する。従って、基板Ｐに形成された総ての画素について、陽極と陰極との間に挟持される発光層の厚さを画素領域内で均一にすることが重要である。均一化することによって発光層が呈する電気抵抗は画素領域内の全体に渡って均一になり、この結果、発光層を流れる電流も画素領域内において全体に均一になるからである。

また、発光層に流れる電流に差異が生じないようにするためには、発光層以外の正孔注入層についても同様である。正孔注入層の厚さを、基板Ｐに形成された総ての画素について、１つの画素領域内において正孔注入層の厚さを均一にすることによって、発光層に流れる電流を、１つの画素領域内で均一にすることができるからである。従って、例えば陽極と陰極との間に挟持された発光層の膜厚にムラがあると、そのまま輝度ムラになってしまうことになる。

さて、このように主走査および副走査を行って機能液を吐出し、総ての画素領域に対して機能液の塗布を行うと、吐出ヘッド２０の１回目の主走査によって機能液が吐出された画素と、吐出ヘッド２０の２回目の主走査によって機能液が吐出された画素との間で、機能液が吐出されるまでに相当の時間差が生ずる。このため、これらの画素が隣り合う境目（以降、「吐出ヘッドの継目」と呼ぶ）において、この時間差による弊害として、前述したように、溶媒雰囲気の違いによって、形成される発光層の膜厚にムラが発生する。

本実施形態では、図６に示したように、１回目の主走査領域に属する画素Ｇ９〜画素１２と、２回目の主走査領域に属する画素Ｇ１３〜画素１６との間が吐出ヘッドの継目となる。そこで、一例として、この吐出ヘッドの継目に存在する画素Ｇ１０と画素Ｇ１４、および画素Ｇ１８の３つの画素を用いて、形成される発光層について発生する膜厚のムラについて説明する。なお、以下の説明は、正孔注入層についても同様である。

図７（ａ）は、発光層が形成された画素のうち、吐出ヘッドの継目を挟んで位置する画素Ｇ１０と画素Ｇ１４、および画素Ｇ１４に隣接する画素Ｇ１８を示す模式図である。図７（ｂ）は、乾燥処理後に形成される各画素の発光層の膜厚の様子を示す模式図であり、図７（ａ）においてＢ−Ｂ断面を示したものである。

まず、１回目の主走査によって、画素Ｇ１０に吐出された機能液は、画素Ｇ１４（画素Ｇ１８）にまだ機能液が吐出されていないことから、画素Ｇ１０から蒸発する溶媒について、溶媒雰囲気に偏りが生ずる。つまり図面右側方向における溶媒の蒸気圧が低くなる。このため、画素Ｇ１０の画素領域において図面右側ほど溶媒の蒸発が早く進むために、画素領域の右側の方が速く乾燥する。この結果、画素Ｇ１０に形成された発光層Ｌ１０は、吐出ヘッドの継目の方向に近い領域において、固化した溶質（発光材料）が多く存在する状態となる。

次に、２回目の主走査によって、画素Ｇ１４（および画素Ｇ１８）に機能液が吐出されたとき、画素Ｇ１０に吐出された機能液は、画素Ｇ１４に機能液が吐出されるまでの時間差分既に溶媒の蒸発が進んでいるため溶媒量が少なくなっている。このため、画素Ｇ１０から蒸発する溶媒量は、画素Ｇ１８から蒸発する溶媒量より少なくなるため、画素Ｇ１４の画素領域において画素Ｇ１０側つまり図面左側方向における溶媒の蒸気圧が低くなる。このため、画素Ｇ１４の画素領域において、図面左側ほど溶媒の蒸発が早く進むために画素領域の左側の方が速く乾燥する。この結果、画素Ｇ１４に形成された発光層Ｌ１４は、吐出ヘッドの継目の方向に近い領域において、固化した溶質（発光材料）が多く存在する状態となる。

なお、画素Ｇ１８については、その両側の画素Ｇ１４と画素Ｇ２２（図６参照）に同じ主走査において機能液が吐出されるため、吐出時間に差異がなく図面左右両方の画素に存在する機能液中の溶媒量が同じであることから、溶媒雰囲気に偏りが生じにくくなる。この結果、このような一方が速く乾燥することは発生せず、均等に乾燥する。従って、固化した溶質が画素領域の一方に偏って存在する確率は低くなる。

そして、このような２回の主走査によって総ての画素に機能液を吐出した後、乾燥処理を行うと、図７（ｂ）に示すように、画素Ｇ１０に形成された発光層Ｌ１０は、吐出ヘッドの継目の方向に近い領域において溶質が多く固化しているため膜厚が厚くなる。また、画素Ｇ１４についても、同じく形成された発光層Ｌ１４は、吐出ヘッドの継目の方向に近い領域において溶質が多く固化しているため膜厚が厚くなる。従って、吐出ヘッドの継目の両側に位置する画素について、画素領域内において形成される発光層の膜厚にムラが発生することになる。この結果、吐出ヘッドの継目において輝度ムラが生ずることになるのである。

そこで、本実施形態では、有機ＥＬパネル５０に形成された機能膜を溶解する溶解液を用いて、吐出ヘッドの継目部分における画素に発生する機能膜の膜厚ムラを修復し、吐出ヘッドの継目において輝度ムラを抑制することができる機能膜形成方法を提供する。この機能膜形成方法について、図８のフローチャートに従って説明する。なお、本実施形態では、機能層として発光層を形成するものとして説明する。もとより、以下の説明は、正孔注入層についても同様に適用可能である。

この処理が開始されると、まずステップＳ１１０にて、機能液を基板上の各画素に吐出する処理を行う。本実施形態では、液状体吐出装置１００を用いて、基板Ｐにバンクによって区画形成された機能液の被吐出領域、すなわち基板Ｐにおける画素領域に機能液を吐出する。具体的には、前述したように、コントロール装置１０が、基板Ｐに区画形成された各画素領域の位置データを吐出制御データから読み込んで、基板Ｐの主走査およびキャリッジ２００の副走査を行ってスキャン走査し、適宜吐出機構を制御して各画素に機能液をそれぞれ吐出する。

次に、ステップＳ１２０にて、各画素の機能液を乾燥処理する。ここでは、基板Ｐを所定の乾燥装置にセットして、真空乾燥あるいは加熱乾燥などによって、基板Ｐを乾燥処理する。

次に、ステップＳ１３０にて、溶解液ヘッドの作成処理を行う。ここで、溶解液ヘッドについて、図９を用いて説明する。図９は、溶解液ヘッド８０の構成を示した構成図で、上側の図は、溶解液ヘッド８０の平面図であり、下側の図は、平面図におけるＣ−Ｃ断面を示す断面図である。

図示するように、溶解液ヘッド８０は、部材８１（例えば、樹脂板や金属板など）が有する平面部分に、溶解液に対して少なくとも表面が撥液性を有する撥液膜８２が、蒸着や印刷等によって所定の厚さで形成されている。この撥液膜８２には部材８１の平面部分が露出するように円形形状の開口部が８個形成されている。

本実施形態では、このように形成された８個の開口部に、図４に示した液状体吐出装置１００を用いて、この開口部上を走査する吐出ヘッド２０から溶解液をそれぞれ吐出して配置することによって、溶解液溜りＭ１〜Ｍ８を形成するものとする。具体的には、ステージ１０５に部材８１をセットし、移動台１０３を移動しつつ吐出ヘッド２０に形成されたノズルから所定の溶解液を各開口部に吐出して配置し、溶解液ヘッド８０の溶解液溜りＭ１〜Ｍ８を形成するのである。もとより、吐出以外に、溶解液中に開口部を浸漬して引き上げる所謂浸漬法を用いてそれぞれの開口部に溶解液を配置することによって、溶解液溜りＭ１〜Ｍ８を形成するものとしてもよい。

溶解液の液溜りは、この撥液膜８２の撥液作用によって互いに連結せず、一つずつ、同じ形で同じ大きさの立体形状を呈する独立した溶解液溜りが確実に形成される。なお、開口部の形状は円形に限らず、正方形や長方形などの矩形や三角形あるいは六角形など、種々の形状であってもよい。

溶解液溜りＭ１〜Ｍ８は、それぞれの開口部において部材８１の平面部分との親和性が良好であり、溶解液ヘッド８０を裏返して、溶解液溜りが重力方向に向いた状態でも、部材８１から離脱して落下することがないように形成されている。

また、各溶解液溜りＭ１〜Ｍ８に吐出された溶解液の吐出量はほぼ同じ量になっている。こうすることで、１つの画素領域に対して機能膜の溶解に関与する溶解液溜りから蒸発する溶媒量を、総ての画素領域においてほぼ同じにすることが容易となる。この結果、総ての画素領域において、形成された機能膜を一様に溶解することができる。

そこで、本実施形態では、吐出量のバラツキを抑制するために、溶解液は吐出ヘッド２０に形成された複数のノズルのうち１つのノズルから吐出されるようにする。こうすれば、それぞれの溶解液の液溜りにおいて吐出された溶解液の吐出量をほぼ同じにすることが容易であるので、形成される各溶解液の液溜りの液量を均一にすることができる。

また、本実施形態では、機能膜を溶解する溶解液として、各画素に吐出された機能液に含まれる溶媒成分と同じ溶媒成分の溶媒液を採用する。こうすることで、機能膜が再溶解したとき、吐出された機能液と同じ成分の機能液に溶解するので、その後再び行う機能液の乾燥処理における乾燥条件を同じ条件にできるという利点がある。もとより、異なる溶媒成分の溶媒液を溶解液としても差し支えない。

図８に戻り、次にステップＳ１４０にて、溶解液ヘッドを、乾燥処理後の基板に対向させ各画素上を走査処理する。本実施形態では、図４に示した液状体吐出装置１００を用い、基板Ｐをステージ１０５に、また、溶解液溜りＭ１〜Ｍ８が基板Ｐに形成された画素領域と対向し且つ長手方向がＹ軸方向と直交するように溶解液ヘッド８０を所定位置に、それぞれセットする。そして、溶解液溜りＭ１〜Ｍ８が基板Ｐの各画素領域に形成された機能膜上を、各画素領域（機能膜）と接触しないように所定の空隙を隔てて移動するように、移動台１０３をＹ軸方向に移動させて溶解液ヘッド８０を走査させる。この走査の様子を、図１０を用いて説明する。

図１０は、基板Ｐに対する溶解液ヘッド８０の走査の様子を示す説明図である。なお、溶解液ヘッド８０は透視状態で示している。溶解液ヘッド８０に形成された８個の溶解液溜りＭ１〜Ｍ８のうち、溶解液溜りＭ２〜Ｍ７は、図示するようにＸ軸方向において基板Ｐに形成された画素が存在する領域範囲に位置するようにセットされる。ここで、各溶解液溜りＭ１〜Ｍ８のＸ軸方向のピッチ（配置ピッチ）は、それぞれ各画素のＸ軸方向のピッチ（画素ピッチ）とほぼ一致するように形成されている。従って、溶解液ヘッド８０を、基板Ｐに対して図中白抜き矢印で示した方向（Ｙ軸方向）に走査したとき、溶解液溜りＭ２〜Ｍ７によって、総ての画素上を溶解液溜りが移動することになる。例えば、溶解液溜りＭ４は、画素Ｇ９〜Ｇ１２上を移動する。

ここで、溶解液ヘッド８０において、溶解液溜りＭ１とＭ８は、画素が存在する領域範囲を越えて形成されている。これは、基板Ｐの端部に設けられた画素Ｇ１〜Ｇ４、および画素Ｇ２１〜Ｇ２４に対して再溶解に関与する溶解液溜りが、基板Ｐの他の部分に形成された画素Ｇ５〜Ｇ２０とほぼ同等とするためである。この結果、総ての画素Ｇ１〜Ｇ２４において、溶解液溜りＭ１〜Ｍ８によって、ほぼ同等に機能膜を再溶解することができる。

なお、各溶解液溜りと各画素とを隔てる空隙は、その距離が短いほど機能膜の溶解に対する効果が大きくなることが期待できることから、溶解液溜りが接触しない範囲で可能な限り短いことが望ましい。本実施形態では、実験により空隙距離が４ミリメートルよりも長くなると機能膜の溶解に対する効果が減少することが確かめられたことから、各溶解液溜りと各画素とを隔てる空隙を４ミリメートル以下に設定している。

図８に戻り、次に、ステップＳ１５０にて、再乾燥処理を行う。ステップＳ１２０にて行った乾燥処理を、再び実施する。このとき、不活性ガスをブローして機能膜の乾燥を促進させるようにしてもよい。もとより、ステップＳ１２０とは異なる乾燥処理としてもよい。この結果、吐出ヘッドの継目に位置する画素に発生する機能膜の膜厚差は、機能膜を再溶解して再び乾燥処理することによって解消される。ここで、ステップＳ１４０、およびステップＳ１５０によって行われる膜厚差の解消の様子を、図１１を用いて説明する。

図１１は、図７において説明した画素Ｇ１０、画素Ｇ１４、画素Ｇ１８を一例として、画素Ｇ１０および画素Ｇ１４に発生した発光層の膜厚差を解消する様子を示した説明図である。図１１（ａ）は、溶解液ヘッド８０が基板Ｐ上を走査している様子、図１１（ｂ）は、溶解液により発光層が溶解した様子、図１１（ｃ）は、再乾燥処理によって形成された発光層の様子をそれぞれ示している。

ステップＳ１４０での処理では、図１１（ａ）において矢印で示したように、画素Ｇ１０に形成され膜厚差が発生している発光層Ｌ１０が、所定の空隙を隔てて対向する溶解液溜りＭ１〜Ｍ８のうち、主として溶解液溜りＭ４から蒸発する溶媒によって溶解される。同様に、画素Ｇ１４に形成され膜厚差が発生している発光層Ｌ１４は、主として溶解液溜りＭ５から蒸発する溶媒によって溶解される。また、画素Ｇ１８に形成された発光層Ｌ１８も、同様に、主として溶解液溜りＭ６から蒸発する溶媒によって溶解される。

溶解された発光層Ｌ１０、発光層Ｌ１４、発光層Ｌ１８は、図１１（ｂ）に示したように、それぞれ機能液Ｋ１０、機能液Ｋ１４、機能液Ｋ１８の状態を呈する。なお、図示するように、溶解液によって溶解した機能液の液面は、機能液が有する表面張力によって、基板Ｐからの高さが最も高くなる位置が各画素の中心位置になることが多い。

この状態で、再乾燥処理を行うと、各画素Ｇ１０，Ｇ１４，Ｇ１８のそれぞれの画素領域において、溶媒雰囲気は偏りが生じにくくほぼ同一になることから、図１１（ｃ）に示すように、再乾燥処理によって形成される各発光層Ｌ１０，Ｌ１４，Ｌ１８は、それぞれ膜厚に差異が発生することなく形成されることになる。この結果、吐出ヘッドの継目部分に位置する画素Ｇ１０と画素Ｇ１４との間おいて発生した輝度ムラが解消されるのである。

もとより、上述した説明は、吐出ヘッドの継目に位置する他の画素、つまり画素Ｇ９と画素Ｇ１３、画素Ｇ１１と画素Ｇ１５、および画素Ｇ１２と画素Ｇ１６（図６参照）についても同様である。

上述したように、本実施形態によれば、吐出された機能液を乾燥処理して形成した機能膜を溶解液ヘッドを用いて溶解し、再び乾燥処理することによって、吐出ヘッドの継目部分に発生する表示装置の輝度ムラを解消することができる。この結果、吐出ヘッドの継目部分で輝度ムラが発生した表示装置を、輝度ムラを解消した表示装置に修復することができるので、表示装置を廃棄する必要がない。

以上、本発明について、一実施形態を用いて説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。以下変形例を挙げて説明する。

（第１変形例）
上記実施形態では、溶解液ヘッド８０に形成された溶解液溜りのＸ軸方向の配置ピッチは、画素ピッチと同じであることとして説明したが、これに限らず、溶解液溜りのＸ軸方向の配置ピッチは、画素ピッチよりも短くすることとしてもよい。こうすれば、１つの画素領域に対して少なくとも１つ以上の溶解液の液溜りを対向させることができる。従って、確実に機能膜を再溶解することができる。

本変形例を図１２を用いて説明する。図１２は、本変形例の溶解液ヘッド８０ａを示している。溶解液ヘッド８０ａは、部材８１ａに形成した撥液膜８２ａに、白抜き矢印で示した溶解液ヘッド８０ａの走査方向（Ｙ軸方向）へ３列並んだ開口部が形成されている。開口部はほぼ円形を呈し、Ｘ軸方向に対する配置ピッチが、画素ピッチよりも短い１／３の画素ピッチの間隔で互いにオフセットされて配置されている。そして、この開口部に対して溶解液が吐出ヘッド２０から吐出され、それぞれ溶解液溜りが形成されている。例えば、溶解液溜りＭ２と溶解液溜りＭ３との間には、Ｘ軸方向に対して１／３の画素ピッチずつの間隔で溶解液溜りＭ２ａと溶解液溜りＭ２ｂとが形成されているという具合である。この結果、溶解液ヘッド８０ａが走査された場合、１つの画素に対して１つ以上の溶解液溜りが対向することになる。

このように溶解液溜りが形成された溶解液ヘッド８０ａを用いて、基板Ｐ上を走査した場合、例えばステージ１０５に吸着された基板Ｐが、溶解液ヘッド８０ａの走査方向に対して傾いて設置されていても、いずれかの溶解液溜りが画素に対向することになる。例えば、本来溶解液溜りＭ２が、画素Ｇ１〜Ｇ４に対して走査中、基板Ｐが傾いているために溶解液溜りＭ２が画素Ｇ３上から図面左方向に外れても、溶解液溜りＭ２ａあるいは溶解液溜りＭ２ｂのいずれかが、画素Ｇ３上に位置して対向する位置になる確率が高くなるのである。

なお、本変形例では、溶解液ヘッド８０ａの走査方向（Ｙ軸方向）へ開口部を３列並んで形成し、各開口部のＸ軸方向の配置ピッチが画素ピッチの１／３であることとしたが、特にこれに限るものでないことは勿論である。例えば、溶解液ヘッド８０ａの走査方向（Ｙ軸方向）へ開口部をＮ列（Ｎは２以上の整数）並んで形成し、各開口部のＸ軸方向の配置ピッチが画素ピッチの１／Ｎであることとしてもよい。

さらに、本変形例の変形として、溶解液溜りをＸ軸方向に連続して形成することとしてもよい。こうすれば、溶解液ヘッド８０ａを用いて基板Ｐ上を走査した場合、１つの画素に対して常に溶解液溜りを連続して対向させることができる。従って、機能膜を確実に溶解する確率が高くなる。

本変形例による溶解液ヘッドの一例を図１３に示した。図１３（ａ）は、部材８１に形成した撥液膜８２に形成する開口部を長円形状にして、この長円形状に溶解液を吐出して溶解液溜りを形成したものである。このような溶解液ヘッドによれば、図示するように画素が存在する領域範囲内において溶解液が連続して存在する。従って、１つの画素に対して常に溶解液溜りを連続して対向させることができる。

ここで、図１３（ａ）に示した溶解液ヘッドの場合、長円形状の長手方向に対する幅の比率が大きくなると、開口部において溶解液が均一に分布せず、開口部の長手方向について、その端部に溜まる溶解液の液量に対して、その中央部に溜まる溶解液の液量の方が多くなることが発生する。すると、基板Ｐにおいて、開口部の中央部分の溶解液溜りに対向する画素と、開口部の端部部分の溶解液溜りに対向する画素との間で、溶解具合に差異が生じてしまうことになり、再乾燥処理によって形成される機能膜の膜厚が均一にならなくなる虞がある。

そこで、このような場合は、撥液膜８２に形成する開口部を、長手方向に対して幅方向の比率が小さくなるような形状とすればよい。このとき、図１３（ｂ）に示したように、溶解液溜りが画素上を移動する期間が長くなるように、長円形状をジクザク形状とすることが好ましい。また、図１３（ｃ）に示したように、同じく溶解液溜りが画素上を移動する期間が長くなるように、溶解液ヘッドの走査方向に対して複数列（図では２列）の長円形状を開口部として形成することが好ましい。

（第２変形例）
上記実施形態では、図８のフローチャートに示したように、各画素に吐出された機能液を乾燥処理した後、吐出ヘッドの継目において輝度ムラが発生した有機ＥＬパネルを、溶解液ヘッドを走査して機能膜（発光層）を溶解し再び乾燥処理を行うことによって、輝度ムラの修復を行うものとしたが、機能液の吐出終了後に継続して溶解液ヘッドを走査してもよい。こうすれば、再乾燥処理が不要となり、１回の乾燥処理で輝度ムラの発生を抑制した有機ＥＬパネルを製造できる可能性がある。

本変形例は、図８に示したフローチャートにおいて、ステップＳ１２０の処理を行わず、ステップＳ１１０の処理に引き続き、ステップＳ１３０以降の処理を行えばよい。もとより、このとき、ステップＳ１５０の処理は、「再乾燥処理」ではなく単に乾燥処理となる。

なお、本変形例の場合、ステップＳ１１０において、各画素に吐出される機能液の吐出タイミングの違いに応じて、各画素において蒸発せず残留している溶媒の液量が異なることが想定される。しかしながら、溶解液ヘッドに形成された溶解液溜りが作り出す溶媒雰囲気は、溶媒の残量が少ない画素ほど高濃度になると考えてよいので、溶媒の残量が少ない画素ほど多くの溶媒が吸収され易くなることが想定される。従って、溶解液ヘッドの走査によって、各画素において、既に乾燥固化している機能膜を溶解するとともに、溶媒の液量をほぼ同量とすることが期待できるので、乾燥処理に先んじて輝度ムラを修復することができる可能性がある。

（第３変形例）
また、上記実施形態の液状体吐出装置１００では、表示装置の一例として有機ＥＬパネル５０を形成することとして説明したが、これに限るものでないことは勿論である。例えば、カラーフィルタを形成するものとしてもよい。

形成されるカラーフィルタの一例を図１４に示した。図１４（ａ）は、カラーフィルタの形成の様子を示す模式図である。図１４（ｂ）は、上記実施形態における有機ＥＬパネル５０であって、各画素領域に形成された有機ＥＬ素子が陽極と陰極間で発光する光（ここでは白色光）を、形成されたカラーフィルタによってカラー光として射出する表示装置の構成を示す断面図である。

図１４（ａ）に示すように、カラーフィルタは、ガラス板を基板とし、このガラス板に設けられた遮光領域（ＢＭ）によって区画された領域に、吐出ヘッド２０に形成したノズルブロック２０Ｒ、ノズルブロック２０Ｇ、ノズルブロック２０Ｂから、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色のフィルタ材料と溶媒とを含む機能液を吐出し、その後、吐出した機能液を乾燥処理して形成したものである。従って、乾燥処理後に形成されるＲフィルタ、Ｇフィルタ、Ｂフィルタには、機能液の吐出走査工程に応じて存在する吐出ヘッドの継目によって、固化して形成される膜厚にバラツキが生じることがある。そこで、上記実施形態による機能液の修復方法を用いれば、上述した有機ＥＬパネルにおける発光層の修復と同様に、乾燥処理後に形成されるＲフィルタ、Ｇフィルタ、Ｂフィルタを修復することができる。

この結果、図１４（ｂ）に示したように、陽極と陰極との間で均一に白色発光する有機ＥＬ素子の発光光を、その均一性を保持した状態で、各カラー光（Ｒ光、Ｇ光、Ｂ光）に変える表示装置を提供することができる。なお、このカラーフィルタは、液晶によって明るさを制御した白色のバックライト光を、カラー光に変える所謂液晶表示装置にも適用することができる。

（その他の変形例）
また、上記実施形態では、複数回の主走査で有機ＥＬ素子を形成することとしたが、１回の主走査によって、総ての画素に機能液を吐出する場合においても、上記実施形態による機能膜の修復は有効である。これを、図１５を用いて説明する。図１５は、一回の吐出ヘッド２０の主走査によって、基板Ｐに形成された総ての画素に機能液を吐出する様子を示した説明図である。図示するように、吐出ヘッド２０には、ノズルブロック２０ｎが２つ形成されている。各ノズルブロック２０ｎは、形成されたノズルｎ１〜ｎ３、およびノズルｎ４〜ｎ６のＸ軸方向のピッチが基板Ｐに形成された各画素のＸ軸方向の画素ピッチと一致するように、Ｘ軸方向に対してそれぞれ所定の角度傾けて形成されている。

このようにノズルブロックが形成された吐出ヘッド２０が、基板Ｐ上を主走査すると、画素Ｇ５〜Ｇ８および画素Ｇ１７〜Ｇ２０についてＸ軸方向の両隣に位置する画素に機能液が吐出されるタイミングと、画素Ｇ９〜Ｇ１２についてＸ軸方向の両隣に位置する画素に機能液が吐出されるタイミングと、画素Ｇ１３〜Ｇ１６についてＸ軸方向に隣接する画素に機能液が吐出されるタイミングが、それぞれ異なることになる。

この結果、画素Ｇ９〜Ｇ１２と画素Ｇ１３〜Ｇ１６との間では、各画素に機能液が吐出されたとき、その両隣の画素に機能液が吐出されるタイミングが異なることから、それぞれの画素における溶媒雰囲気が、Ｘ軸方向において異なることになる。このため、画素についての溶媒の蒸発具合が異なるために、画素Ｇ９〜Ｇ１２と画素Ｇ１３〜Ｇ１６との間で前述した吐出ヘッドの継目が生じることになる。従って、このような場合、上記実施形態による機能膜の修復は有効である。

また、上記実施形態では、エレクトロルミネッセンス素子として有機ＥＬ素子を形成することとし、液滴の噴射によって塗布して形成する機能層が、正孔注入層と発光層であることとして説明したが、必ずしもこれに限るものでないことは勿論である。例えば、陰極とは別に電子注入層を形成する場合は、この電子注入層を機能液の吐出によって形成する機能層としてもよい。あるいは発光層が正孔注入層を兼用する場合は、発光層のみが機能液の吐出によって塗布形成される機能層であることとしてもよい。

また、上記実施形態では、表示装置は携帯電話に搭載される装置であることとして説明したが、これに限らず携帯電話以外の電子機器に搭載されることとしてもよい。例えばビデオカメラやデジタルカメラ、あるいは携帯型パーソナルコンピュータなど、輝度バラツキが抑制された表示が所望される電子機器には、本実施形態による機能膜形成方法によって輝度ムラが抑制された表示装置を搭載することは、大変有効である。

実施形態における機能膜形成方法によって形成した表示装置を搭載した電子機器を示す説明図。 有機ＥＬパネル全体のレイアウトを回路構成とともに示した模式図。 有機ＥＬパネルにおける各画素が有する機能層の構成を示す模式図。 基板に区画形成された被吐出領域に対して液状体を吐出する液状体吐出装置を示す構成図。 吐出ヘッドに穿設されたノズルの配列具合を示す模式図。表示装置におけるＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の各画素が有する機能層の構成を示す模式図で、（ａ）はその平面図、（ｂ）はその断面図、（ｃ）は機能液を噴射するときの様子を示す模式図。 基板に形成された画素に、機能液を吐出する様子を示す模式図。 吐出ヘッドの継目を挟んだ画素において乾燥処理後に形成される発光層の膜厚の様子を示す模式図で、（ａ）はその平面図、（ｂ）はその断面図。 本実施形態の機能膜形成方法を示す処理フローチャート。 溶解液ヘッドの構成を示した構成図。 基板に対する溶解液ヘッドの走査の様子を示す説明図。 画素に発生した発光層の膜厚差を解消する様子を示した説明図で、（ａ）は溶解液ヘッドが基板上を走査している様子、（ｂ）は溶解液により発光層が溶解した様子、（ｃ）は再乾燥処理によって形成された発光層の様子、をそれぞれ示す説明図。 変形例となる溶解液ヘッドを示す模式図。 変形例となる溶解液ヘッドを示す模式図で、（ａ）は部材に形成した開口部を長円形状にして溶解液溜りを形成した図、（ｂ）は長円形状をジクザク形状とした図、（ｃ）は溶解液ヘッドの走査方向に対して複数列の長円形状を形成した図。 （ａ）は、本実施形態における液状体吐出装置が形成するカラーフィルタを示す模式図、（ｂ）はそのカラーフィルタを用いた有機ＥＬパネルの断面図。 一回の吐出ヘッドの主走査によって、基板に形成された総ての画素に機能液を吐出する様子を示した説明図。

符号の説明

１０…コントロール装置、２０…吐出ヘッド、２０ｎ…ノズルブロック、５０…有機ＥＬパネル、５１…走査駆動回路、５２…データ駆動回路、５３…給電端子、５４，５５…ＴＦＴ、５６…保持容量、８０，８０ａ…溶解液ヘッド、８１，８１ａ…部材、８２，８２ａ…撥液膜、１００…液状体吐出装置、１０１，１０２…ガイドレール、１０３…移動台、１０５…ステージ、１１２…キャリッジ移動台、２００…キャリッジ。

Claims (12)

1. 基板面に形成された複数の被吐出領域に液状体を吐出し、吐出した当該液状体を乾燥処理して所定の機能膜を形成する機能膜形成方法であって、
   平面を有し、形成された前記機能膜を溶解する溶解液の液溜りが当該平面に配置された部材を、前記溶解液の液溜りと前記基板面とを対向させた状態で、前記機能膜が形成された前記複数の被吐出領域上を相対移動する工程を有することを特徴とする機能膜形成方法。
2. 基板面に形成された複数の被吐出領域に液状体を吐出し、吐出した当該液状体を乾燥処理して所定の機能膜を形成する機能膜形成方法であって、
   平面を有し、形成された前記機能膜を溶解する溶解液の液溜りが当該平面に配置された部材を、前記溶解液の液溜りと前記基板面とを対向させた状態で、前記液状体の吐出後、前記液状体の乾燥処理に先んじて前記複数の被吐出領域上を相対移動する工程を有することを特徴とする機能膜形成方法。
3. 請求項１または２に記載の機能膜形成方法であって、
   前記部材が相対移動する方向に対して直交する方向について、前記複数の被吐出領域が存在する領域範囲よりも前記溶解液の液溜りが配置された領域範囲の方が広いことを特徴とする機能膜形成方法。
4. 請求項１ないし３のいずれか一項に記載の機能膜形成方法であって、
   前記溶解液の液溜りは複数配置され、
   前記部材が相対移動する方向に対して直交する方向について、前記溶解液の液溜りの配置ピッチは、前記複数の被吐出領域の形成ピッチよりも狭いことを特徴とする機能膜形成方法。
5. 請求項４に記載の機能膜形成方法であって、
   前記溶解液は、前記液状体に含まれる溶媒と同じ溶媒を含むことを特徴とする機能膜形成方法。
6. 請求項１ないし５のいずれか一項に記載の機能膜形成方法であって、
   前記部材の平面には、前記溶解液の液溜りの配置領域以外の領域に、前記溶解液に対する撥液処理が施されていることを特徴とする機能膜形成方法。
7. 請求項１ないし６のいずれか一項に記載の機能膜形成方法であって、
   前記溶解液の液溜りは、１つのノズルから吐出される溶解液によって配置されたことを特徴とする機能膜形成方法。
8. 正孔注入層と発光層を、陽極および陰極で挟持した構造の有機ＥＬパネルの製造方法であって、
   請求項１ないし７のいずれか一項に記載の機能膜形成方法を用いて、少なくとも前記正孔注入層もしくは前記発光層を前記機能膜として形成することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
9. ガラス基板に、複数色の光フィルタ層領域が形成されたカラーフィルタの製造方法であって、
   請求項１ないし７のいずれか一項に記載の機能膜形成方法を用い、少なくとも１つの色の光フィルタ層を前記機能膜として形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
10. 請求項８に記載の有機ＥＬパネルの製造方法によって製造された有機ＥＬパネルを表示手段として備えた表示装置。
11. 白色光をカラーフィルタによってカラー光に変換する表示装置であって、
    前記カラーフィルタは、請求項９に記載のカラーフィルタの製造方法によって製造されたカラーフィルタであることを特徴とする表示装置。
12. 請求項１０または１１に記載の表示装置を備えた電子機器。

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