JP2009248136A - レーザ光分岐装置およびレーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】偏光が変動するレーザを分岐する場合であってもレーザ出力の変動を防止することができるレーザ光分岐装置およびレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザ加工装置1のレーザ光分岐装置2は、レーザ光FBの光路上に配設される複数の分岐ミラー9、10と、レーザ光FBの光路上であって複数の分岐ミラー9、10よりもレーザ光FBの入射側に配設されるλ/2波長板8と、レーザ光FBの光路上であってλ/2波長板8よりもレーザ光FBの入射側に配設される光アイソレータ4とを備える。λ/2波長板8の偏光面回転角θは45度に設定されている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明のレーザ加工装置1のレーザ光分岐装置2は、レーザ光FBの光路上に配設される複数の分岐ミラー9、10と、レーザ光FBの光路上であって複数の分岐ミラー9、10よりもレーザ光FBの入射側に配設されるλ/2波長板8と、レーザ光FBの光路上であってλ/2波長板8よりもレーザ光FBの入射側に配設される光アイソレータ4とを備える。λ/2波長板8の偏光面回転角θは45度に設定されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザ光分岐装置およびレーザ加工装置に係り、特に、レーザ加工箇所が複数存在する際に好適に利用できるレーザ光分岐装置およびレーザ加工装置に関する。
従来のレーザ加工装置101は、その一例として、図6に示すように、1個のレーザ発振器103を用いて複数の加工点に対してレーザ照射を行なうことがある。この場合、レーザ発振器103および光アイソレータ104と被加工物50との間にレーザ光分岐装置102を配設し、そのレーザ光分岐装置102によってレーザ光を分岐して各加工点にレーザ光を照射する。
従来のレーザ光分岐装置102は、複数の分岐ミラー109、110を備えている。複数の分岐ミラー109、110は、部分反射ミラーまたは全反射ミラーであり、レーザ光FBの光路上に配設されている。複数の分岐ミラー109、110の透過率はそれぞれ異なっており、一般的には、レーザ光FBの入射側から順に分岐ミラー109、110の透過率が小さくなるように設定されている(特許文献1を参照)。
しかしながら、分岐ミラー109、110においては、p偏光成分の透過率およびs偏光成分の透過率がそれぞれ異なる。そのため、レーザ光分岐装置102によって無偏光(ランダム偏光)のレーザ光FBを分岐する場合においては問題はないが、光アイソレータ4によってp偏光成分またはs偏光成分のいずれかに片寄るような、偏光が変動する(例えば、楕円偏光)レーザ光FBを分岐する場合、レーザ光FBの偏光変動に依存して分岐ミラー109、110の透過率が異なってしまう。そのため、レーザ光分岐装置102を経由して得たレーザ光FBの出力はレーザ光FBの偏光変動によって変動してしまうという問題があった。
上記問題を解決する従来の手段として、偏光解消板の使用、または、分岐ミラー109、110の傾斜角の狭小化の2つが考えられる。しかし、偏光解消板を使用すると、レーザ光FBのビーム品質の低下が生じてしまう欠点があった。また、分岐ミラー109、110の傾斜角を小さくすると、分岐ミラー109、110の配設スペースを増大させるわりには偏光無依存性を完全に作り出せないという欠点があった。
そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、偏光が変動するレーザを分岐する場合であってもレーザ出力の変動を防止することができるレーザ光分岐装置およびレーザ加工装置を提供することを本発明の目的としている。
前述した目的を達成するため、本発明のレーザ光分岐装置は、その第1の態様として、レーザ光の光路上に配設されており、ランダム偏光のレーザ光を偏光面が互いに直交し、かつ、互いに平行に伝播する第1および第2の直線偏光成分に分離または合成する分離合成手段と、レーザ光の光路上であって分離合成手段の光出射側に設けられたλ/2波長板と、レーザ光の光路上であってλ/2波長板の光出射側に設けられた複数の分岐ミラーとを備えており、 λ/2波長板を透過した後のレーザ光の第1および第2直線偏光成分の偏光面を、λ/2波長板に入射するレーザ光の第1および第2直線偏光成分の偏光面に対して45°回転させることを特徴としている。
本発明の第1の態様のレーザ光分岐装置によれば、λ/2波長板の透過後において、λ/2波長板の偏光面回転角(旋光する角度)に基づいて、偏光が変動するレーザ光からp偏光成分の出力とs偏光成分の出力比を1対1に設定することができる。
本発明の第2の態様のレーザ光分岐装置は、第1の態様のレーザ光分岐装置において、複数の分岐ミラーは、光路に対して複数の分岐ミラーの反射方向に45度傾いていることを特徴としている。
本発明の第2の態様のレーザ光分岐装置によれば、レーザ光分岐装置における分岐ミラーの光学配置および角度調整を容易にすることができる。
また、前述した目的を達成するため、本発明のレーザ加工装置は、その第1の態様として、第1の態様または第2の態様のレーザ光分岐装置と、レーザ光分岐装置に対してレーザ光を照射するレーザ発振器とを備えていることを特徴としている。
本発明の第1の態様のレーザ加工装置によれば、λ/2波長板の透過後において、λ/2波長板の偏光面回転角に基づいて、偏光が変動するレーザ光からp偏光成分の出力とs偏光成分の出力を一定の割合で得ることができる。
本発明のレーザ光分岐装置は、λ/2波長板の透過後において、λ/2波長板の偏光面回転角に基づいて、偏光が変動するレーザ光からp偏光成分の出力とs偏光成分の出力比を1対1に設定することができるので、レーザ光の偏光変動にかかわらずレーザ出力を一定に維持することができる。したがって、本発明のレーザ光分岐装置を有するレーザ加工装置においても、レーザ光の偏光変動にかかわらずレーザ出力を一定に維持することができるという効果を奏する。
以下、本発明のレーザ光分岐装置およびレーザ加工装置をその一実施形態により説明する。
図1は、本実施形態のレーザ加工装置1およびレーザ光分岐装置2を示している。本実施形態のレーザ加工装置1は、図1に示すように、1個のレーザ発振器3を用いて2箇所のレーザ加工を同時に行なうための装置である。レーザ加工装置1は、図1に示すように、レーザ発振器3、レーザ光分岐装置2、入射ユニット5、伝送用光ファイバ6、出射ユニット7を備えている。
レーザ発振器3としては、種々の発振器、例えば、レーザ光FBとしてファイバレーザ光を出力するファイバレーザ発振器や、YAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)などといった励起媒質をランプによって励起してレーザ光を発振する固体レーザ発振器を用いることができる。
レーザ光分岐装置2は、分離合成手段としての光アイソレータ4、2個の分岐ミラー9、10、およびλ/2波長板8を備えている。
光アイソレータ4は、レーザ発振器3側から順方向に進行するレーザ光FBを通過させるとともに、被加工物50側から反射した戻り光RBを除去する光アイソレータである。また、この光アイソレータ4は、レーザ光を、偏光面が互いに直交し、かつ、互いに平行に伝播するp偏光成分(第1の直線偏光成分)Pおよびs偏光成分(第2の直線偏光成分)Sに分離または合成する偏光ビームスプリッタとしての機能も有する。
光アイソレータ4の具体的な構成を図5に示す。この光アイソレータ4は、図5の左側から順に示すように、レーザ光FBの光路上に、第1の偏光子42、ファラデー回転子43、λ/2波長板44、第2の偏光子45を備えている。
第1の偏光子42は、レーザ光FBをp偏光成分Pおよびs偏光成分Sに分離する光学素子である。第1の偏光子42としては、偏光ビームスプリッタ42aおよび全反射ミラー42bが用いられている。
ファラデー回転子43は、p偏光成分Pおよびs偏光成分Sをそれぞれ45°回転させる。λ/2波長板44は、ファラデー回転子43から出射する偏光回転したp偏光成分P’およびs偏光成分S’の光路上に配設されている。λ/2波長板44は、入射した偏光成分を偏光軸を挟んで反転させることにより、p偏光成分Pとs偏光成分Sに戻す。
第2の偏光子45は、λ/2波長板44を通過して得たp偏光成分Pおよびs偏光成分Sを合成する光学素子である。第2の偏光子45としては、第1の偏光子42と同様、偏光ビームスプリッタ45aおよび全反射ミラー45bが用いられている。
2個の分岐ミラー9、10は、図2または図3に示すように、レーザ光FBの光路上に配設されている。これらの分岐ミラー9、10は部分反射ミラーまたは全反射ミラーであり、それぞれの透過率が異なる。2個の分岐ミラー9、10は、レーザ光FBの光路に対して2個の分岐ミラー9、10の反射方向(本実施形態であれば被加工物50の載置方向)に45度傾いていることが好ましい。
λ/2波長板8は、図1から図3に示すように、レーザ光FBの光路上であって2個の分岐ミラー9、10よりもレーザ光FBの入射側、すなわち光アイソレータ4側に配設されている。本実施形態のλ/2波長板8としては、水晶波長板が用いられている。このλ/2波長板8は、直線偏光成分をそれと直交する直線偏光成分に変換する光学素子である。本実施形態においては、例えばλ/2波長板8の偏光面回転角が45°に設定されていることにより、変換後の偏光面が変換前の偏光面に対して45°の角度となるように配設されている。そのため、レーザ光FBのp偏光成分Pおよびs偏光成分Sは、図2および図3に示すように、λ/2波長板8を透過することにより、λ/2波長板8の偏光面Nを挟んで反転する。
入射ユニット5は、図示はしないが、集光レンズを用いて形成されている。伝送用光ファイバ6としては、図示はしないが、SI(ステップ・インデックス)形ファイバが選択されている。出射ユニット7は、図示はしないが、コリメートレンズおよび集光レンズを用いて形成されている。
次に、本実施形態のレーザ光分岐装置2およびレーザ加工装置1の作用を説明する。
本実施形態のレーザ加工装置1においては、図1に示すように、レーザ発振器3から出力されたレーザ光FBが、レーザ光分岐装置2の分離合成手段となる光アイソレータ4を通過して、レーザ光分岐装置2の2個の分岐ミラー9、10側に照射される。ここで、レーザ光分岐装置2において、光アイソレータ4は、図5に示すように、第1の偏光子42によってレーザ光FBをp偏光成分P(入射面に対して偏光方向が垂直になる偏光成分)およびs偏光成分S(入射面に対して偏光方向が水平になる偏光成分)に分離し、ファラデー回転子43およびλ/2波長板44の透過によりp偏光成分Pおよびs偏光成分Sの偏光面を回転させた後、第2の偏光子45によって偏光面が回転したp偏光成分Pおよびs偏光成分Sを再合成することにより、レーザ光FBを図2または図3に示すレーザ光分岐装置2の2個の分岐ミラー9、10側に供給する。したがって、無偏光のレーザ光FBでなく、偏光が変動しやすいレーザ光FBがレーザ光分岐装置2のλ/2波長板8に供給される可能性が高くなる。
そのため、レーザ光分岐装置2においては、図2または図3に示すように、2個の分岐ミラー9、10よりもレーザ光FBの入射側にλ/2波長板8が配設されている。偏光が変動しやすいレーザ光FBをλ/2波長板8に透過させると、λ/2波長板8における所定の偏光面回転角θに基づいて、偏光が変動するレーザ光FBからp偏光成分Pの出力とs偏光成分Sの出力との出力割合を一定の割合で得ることができる。これにより、2個の分岐ミラー9、10から得られる各偏光成分の出力比も一定の割合で得られるため、p偏光成分Pの出力とs偏光成分Sの出力とを合算して得たレーザ出力は従来よりもある一定の値に近づく。
ここで、図4に示すように、λ/2波長板8の偏光面回転角θが45度傾いている場合、λ/2波長板8の透過後のレーザ出力におけるp偏光成分Pの出力とs偏光成分Sの出力との出力比率は1:1となる。この比率を具体的に示したのが表1である。また、比較対称として、従来例を表2に示す。
表1に示すように、本実施形態については、「波長板の透過後(分岐前のレーザ出力)」におけるp偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力は、いずれもλ/2波長板8の透過前におけるレーザ光FBの出力100Wの半分の値(50W)になっている。つまり、p偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力は、レーザ光FBの偏光変動の有無やレーザ光FBの偏光変動がp偏光成分P側またはs偏光成分S側のどちらに生じたかに依存しない。そのため、「分岐ミラー反射率」が異なるために「分岐後のレーザ出力」におけるp偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力がそれぞれ異なってしまっても、p偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力を合算して得られる「レーザ出力」は、いずれも50Wとなる。
一方、表2に示すように、従来例については、「分岐前のレーザ出力」の合計出力はいずれも100Wになるが、p偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力はそれぞれ一定になっていない。つまり、p偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力は、レーザ光FBの偏光変動の有無やレーザ光FBの偏光変動がp偏光成分P側またはs偏光成分S側のどちらに生じたかに大きく依存することになる。そのため、「分岐ミラー反射率」が異なることにより「分岐後のレーザ出力」におけるp偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力がそれぞれ大きく異なってしまうので、p偏光成分Pの出力およびs偏光成分Sの出力を合算して得られる「レーザ出力」は40W〜60Wの間を行き来する不安定な状態となる。
つまり、λ/2波長板8が配設され、その偏光面回転角θが45度に設定されている場合、λ/2波長板8の透過後のp偏光成分Pの出力とs偏光成分Sの出力との出力比率は1:1になるので、p偏光成分Pの出力とs偏光成分Sの出力とを合算して得た被加工物50へのレーザ出力は、レーザ光FBの偏光変動に依存すくことなく、常に一定になる。
さらに、これら2個の分岐ミラー9、10は、光路に対して複数の分岐ミラー9、10の反射方向(本実施形態であれば被加工物50の載置方向)に45度傾いている。そのため、レーザ光分岐装置2における分岐ミラー9、10の光学配置および角度調整を容易に設定することができる。
すなわち、本実施形態のレーザ光分岐装置2およびレーザ加工装置1によれば、λ/2波長板8の透過後において、λ/2波長板8の偏光面回転角に基づいて、偏光が変動するレーザ光FBからp偏光成分Pの出力とs偏光成分Sの出力比を1:1に設定することができるので、レーザ光FBの偏光変動にかかわらずレーザ出力を一定に維持することができるという作用効果を奏する。
なお、本発明は、前述した実施形態などに限定されるものではなく、必要に応じて種々の変更が可能である。例えば、光アイソレータ4においては、ファラデー回転子43以外の回転子を用いてもよい。また、分離合成手段としては、本実施形態のような光アイソレータ4に限ることなく、レーザ光の光路上に配設されており、ランダム偏光のレーザ光を偏光面が互いに直交し、かつ、互いに平行に伝播する第1および第2の直線偏光成分に分離または合成する手段であればよく、偏光ビームスプリッタのみであってもよい。さらに、本実施形態の分岐ミラー9、10は2個に設定されているが、分岐ミラーの個数は従来のように2個以外の複数個に設定されていてもよい。
1 レーザ加工装置
2 レーザ光分岐装置
3 レーザ発振器
4 光アイソレータ
8 λ/2波長板
9、10 分岐ミラー
FB (順方向の)レーザ光
N 光軸
RB (レーザ光の)戻り光
2 レーザ光分岐装置
3 レーザ発振器
4 光アイソレータ
8 λ/2波長板
9、10 分岐ミラー
FB (順方向の)レーザ光
N 光軸
RB (レーザ光の)戻り光
Claims (3)
- レーザ光の光路上に配設されており、ランダム偏光のレーザ光を偏光面が互いに直交し、かつ、互いに平行に伝播する第1および第2の直線偏光成分に分離または合成する分離合成手段と、
前記レーザ光の光路上であって前記分離合成手段の光出射側に設けられたλ/2波長板と、
前記レーザ光の光路上であって前記λ/2波長板の光出射側に設けられた複数の分岐ミラーと
を備えており、
前記λ/2波長板を透過した後のレーザ光の第1および第2直線偏光成分の偏光面を、前記λ/2波長板に入射するレーザ光の第1および第2直線偏光成分の偏光面に対して45°回転させる
ことを特徴とするレーザ光分岐装置。 - 前記複数の分岐ミラーは、前記光路に対して前記複数の分岐ミラーの反射方向に45度傾いている
ことを特徴とする請求項1に記載のレーザ光分岐装置。 - 請求項1または請求項2に記載のレーザ光分岐装置と、
前記レーザ光分岐装置に対してレーザ光を照射するレーザ発振器と
を備えていることを特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008099269A JP2009248136A (ja) | 2008-04-07 | 2008-04-07 | レーザ光分岐装置およびレーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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Family
ID=41309311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008099269A Pending JP2009248136A (ja) | 2008-04-07 | 2008-04-07 | レーザ光分岐装置およびレーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2009248136A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011055460A1 (ja) * | 2009-11-04 | 2011-05-12 | 日清紡メカトロニクス株式会社 | レーザー加工装置 |
CN102151986A (zh) * | 2010-01-29 | 2011-08-17 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
JP2013010116A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Omron Corp | レーザ加工装置 |
JP2013173171A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Opt-I Co Ltd | 光制御装置と光制御方法及びレーザ加工システムとレーザ加工システムによる加工方法 |
-
2008
- 2008-04-07 JP JP2008099269A patent/JP2009248136A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011055460A1 (ja) * | 2009-11-04 | 2011-05-12 | 日清紡メカトロニクス株式会社 | レーザー加工装置 |
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JP2011156551A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置 |
JP2013010116A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Omron Corp | レーザ加工装置 |
JP2013173171A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Opt-I Co Ltd | 光制御装置と光制御方法及びレーザ加工システムとレーザ加工システムによる加工方法 |
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