JP2009244267A - 基材及びターゲットプレート(substrateandtargetplate) - Google Patents
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Abstract
基材の擬制表面について高められる多数の高化構造の整然配列を有する造成表面を備える基材が提供される。1nm〜100μmの少なくとも2つの寸法で、造成表面は、微結晶の結晶化を起こさせるか、又は疎水特性を向上させる。多数の基材を備えるターゲットプレートも、同様に開示される。
【解決手段】
基材の擬制表面に高められた多数の高化構造の整然配列を含む造成表面を備え、上記高化構造の少なくとも2つの寸法は、1nm〜100μmの範囲にあり、上記造成表面は、微結晶の円滑な結晶化を起こさせるか、又は基材の疎水特性を向上させる、基材が提供される。
【選択図】図1f
Description
ここで記載される種々の実施例の特徴は、特に明記されない限り互いに結合されてもよい。図1aにおいて、本発明の第1の実施形態に係る基材100が、組み立てられた表面102(以下、造成表面102と呼ぶ。)と共に説明される。基材100は、ポリマー、処理されたポリマー、金属、合金であってよく、又はセラミックスに基づいていてもよい。造成表面102は、かたどって造ること(mold)、浮き上がらせること(emboss)、エッチングすること(etching)、あるいは当業者に知られているその他のあらゆる表面組み立て方法によるものであると認識される。
図2a〜図2hでは、本願の第2実施形態に係る基材が異なる角度から示されている。図2aは、第2の表面202を有する第2の基材200の眺望図で概略的なものを示している。図2bは、上から見た図を示し、図2cは、横から見た図を示し、図2dは、図2bのA−A線で切断した場合の断面図を示し、図2eは、図2dでの断面図の“Z”を表す部分を拡大したものであり、図2fは、図2eでの断面図の“Y”を表す部分をより拡大したものであり、図2gは、図2hでの断面図の“X”を表す部分を上記寸法で共に、より拡大したものであり、図2hは、より拡大した眺望図を示している。
図3a〜図3eでは、本願の第3の実施形態に係る基材が異なる角度から示されている。第3の組み立てられた構造302を有する基材300は、図3aでは上から見た図として示されていて、図3bでは横から見た図として示されている。Zとして表されている図3aの上から見た図についての拡大した図が、図3cで示されていて、Yとして表されている図3cの上から見た図の更に拡大した図が、図3dで示されている。図3は、多数の高化構造304を有する表面の眺望を示している。
図4a〜図4eでは、本願の第4の実施形態に係る基材が異なる角度から示されている。図4aでは、第4の基材400を上から見た図を示していて、図4bは、図4aに対応した、横から見た図を示している。図4cは、図4aに示した上から見た図のZとして表されている部分を拡大した図を示していて、図4dは、図4bに示した横から見た図のYとして表されている部分を拡大した図を示している。図4eは、第4の基材400の表面402の眺望図を示している。
図5では、多数の基材502及び基材504を備える、ターゲットプレート500について上から見た図が示されている。基材502及び基材504は、上記第1〜第4の実施形態において説明した造成表面を備える。このようなターゲットプレートでは、多数の異なった分析における滴が、基材502や基材504などに滴下される。
102、202 表面
104 整然配列
106、108、206、208 高化構造
110 擬制表面
500 ターゲットプレート
Claims (20)
- 基材の擬制表面に高められた多数の高化構造の整然配列を含む造成表面を備え、
前記高化構造の少なくとも2つの寸法は、1nm〜100μmの範囲にあり、
前記造成表面は、微結晶の円滑な結晶化を起こさせるか、又は基材の疎水特性を向上させる、基材。 - 前記配列の基本ユニットは、前記擬制表面に平行な第1の方向に沿って引き伸ばされ、前記第1の方向に対する第1の断面図の垂線を含む第1の高化構造を備え、
前記配列は、第1の方向に沿って引き伸ばされ、前記第1の方向に対する第2の断面図の垂線を含む第2の高化構造を更に備え、
前記第2の断面図は、前記第1の断面図よりも小さい、請求項1に記載の基材。 - 前記第1の断面図及び前記第2の断面図が、長方形である、請求項1又は2に記載の基材。
- 前記第1の断面図及び前記第2の断面図が、正方形である、請求項3に記載の基材。
- 前記配列において、前記第1の高化構造及び前記第2の高化構造間の前記第1の方向に垂直な第1の距離が、前記第2の高化構造と前記次の第1の高化構造間の第2の距離とは異なる、請求項3又は4に記載の基材。
- 前記第1の断面図の第1サイドと前記第1の距離の長さが等しく、前記第2の断面図の第1サイドと前記第2の距離の長さが等しい、請求項5に記載の基材。
- 前記第1の断面図及び前記第2の断面図が三角形である、請求項3に記載の基材。
- 前記第1の断面図の前記擬制表面に対する垂線の長さは、前記第2の断面図の前記擬制表面に対する垂線の長さの2倍である、請求項2〜7のいずれか1項に記載の基材。
- 前記配列が均一に間隔を空けた錐体を備える、請求項1に記載の基材。
- 前記錐体の底面の側線は、夫々平行に形成される、請求項9に記載の基材。
- 前記配列の基本ユニットは、第1の体積を有する第1の直方体及び第2の体積を有する第2の直方体を備え、
前記第2の体積は、前記第1の体積よりも小さい、請求項1に記載の基材。 - 前記第1の直方体及び前記第2の直方体は、立方体である、請求項11に記載の基材。
- 前記第2の体積は、前記第1の体積の8分の1の大きさである、請求項11又は12に記載の基材。
- 前記擬制表面に垂直な前記第1の直方体の第1の高さは、前記擬制表面に垂直な前記第2の直方体の第2の高さの2倍である、請求項13に記載の基材。
- 前記第1の直方体及び前記第2の直方体の基本ユニットは、基材の前記擬制表面に平行な第1の方向と、前記擬制表面に平行で前記第1の方向に垂直な第2の方向とに繰り返される、請求項11〜14に記載の基材。
- 前記第1の直方体及び前記第2の直方体は、夫々前記第1の方向及び前記第2の方向に平行になるように形成される、請求項15に記載の基材。
- 前記少なくとも2つの寸法は、1nm〜50μmの範囲にある、請求項1〜16に記載の基材。
- 前記少なくとも2つの寸法は、1nm〜2μmの範囲にある、請求項17に記載の基材。
- 前記構造は、前記擬制表面の溝が転化することで形成される、請求項1〜18に記載の基材。
- 請求項1〜19に記載の基材を備える、ターゲットプレート。
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