JP2009239274A - 基板表面に関する高さデータを取得する方法及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】方法は、レベルセンサを使用して、基板の少なくとも一部の高さ測定を実行し、高さデータを生成する。指定及び/又は予め割り出された補正高さを使用して、補正済み高さデータを計算する。予め割り出された補正高さを使用は、プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいてよい。基板テーブルの位置は、プロセススタックデータに、特にターゲット区域のプロセススタック層に部分的に基づく補正高さを使用して制御される。
【選択図】図3
Description
− 放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成され、構築された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決め装置PMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第二位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
[00070] レベルセンサは、基板Wの高さ又は基板テーブルWTの区域の高さを測定して、高さデータを生成する。高さが測定される表面を基準位置へと運び、測定放射ビームで照明する。測定放射ビームは、90°未満の角度で測定される表面に当たる。入射角は高さ読み取り値誤差の角度に等しいので、測定放射ビームは同じ角度で表面から反射し、反射放射ビームを形成する。測定放射ビームと反射放射ビームは、測定面を規定する。レベルセンサは、測定面で反射放射ビームの位置を測定する。
Claims (19)
- 投影システムの焦点面に対して基板の少なくとも1つのターゲット部分を配置する方法であって、
前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、
指定された補正高さを使用して、補正した高さデータを計算すること、及び、
前記補正した高さデータに少なくとも部分的に基づいて、前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板の前記ターゲット部分を配置すること
を含み、
前記方法が、プロセススタックデータを入力することをさらに含み、前記指定された補正高さが、前記プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて計算された補正高さである、方法。 - 前記指定された補正高さを計算することが、グリッド部分を有するグリッドを規定し、各グリッド部分のレベルセンサの高さ読み取り値誤差を計算し、前記ターゲット区域の各グリッド部分の前記計算された読み取り値誤差を平均することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセススタックデータが、前記基板表面の少なくとも上位3つの層の厚さに関するデータを備える、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記レベルセンサ読み取り値誤差を計算することが、基板の層スタックの見かけの高さと前記プロセススタックデータに基づく実際の最上層との差を計算することを含む、前記請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記方法が、前記基板の様々な部分の前記補正済み高さデータを平均することによって、高さプロフィールを計算することをさらに含む、前記請求項のいずれかに記載の方法。
- 放射の投影ビームを供給する放射システムと、
マスクを保持するマスクホルダを備えた第一オブジェクトテーブルと、
基板を保持する基板ホルダを備えた第二オブジェクトテーブルと、
前記オブジェクトホルダの1つによって保持されたオブジェクトの少なくとも1つの水平軸の周囲の垂直位置及び傾斜のうち少なくとも一方を測定して、位置信号を生成するレベルセンサと、
前記オブジェクトを所望の位置へと移動するために前記位置信号に応答するサーボシステムと、
を備えるリソグラフィ投影装置を使用して、デバイスを製造する方法であって、
パターンを有するマスクを前記第一オブジェクトテーブルに提供すること、
放射感応性層を有する基板を前記第二オブジェクトテーブルに提供すること、及び、
前記サーボシステムを操作することによって、前記マスクの前記照射部分を前記基板の前記ターゲット部分に結像して、前記オブジェクトを前記所望の位置に維持すること、を含み、
前記所望の位置が、プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて計算した補正高さデータに少なくとも部分的に基づいている、方法。 - 前記補正高さデータを計算することが、グリッド部分を有するグリッドを規定し、各グリッド部分でレベルセンサの高さ読み取り誤差を計算し、前記ターゲット区域全体で各グリッド部分の前記計算値の差を平均することを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記レベルセンサの高さ読み取り誤差を計算することが、高さ測定における層スタックの見かけの高さと前記実際の最上層との差を計算することを含み、前記計算が前記プロセススタックデータに部分的に基づく、請求項6又は7に記載の方法。
- 放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、前記投影システムの焦点面に対する前記基板のターゲット部分の配置に使用する高さデータを生成するように構成されたレベルセンサと、
前記投影システムに対して前記基板テーブルを配置するアクチュエータと、
前記アクチュエータを制御して、補正した高さ測定値に従って前記投影システムの前記焦点面に前記基板の前記ターゲット部分を配置するように構成された制御装置と、
を備え、前記制御装置が、前記高さ測定値をメモリからの予め割り出された補正高さで補正する処理装置を備え、前記メモリが、プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づく補正高さを含む、リソグラフィ投影装置。 - 前記メモリが、前記プロセススタックデータを表す命令を含み、前記処理装置が、前記メモリ内の前記プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて前記予め割り出された補正高さを計算するように構成される、請求項9に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記メモリが、基板材料の反射特性を表す命令をさらに含み、前記処理装置が、前記メモリ内の基板材料の前記反射特性に少なくとも部分的に基づいて前記予め割り出された補正高さを計算するように構成される、請求項10に記載のリソグラフィ投影装置。
- 基板の位置を制御するシステムであって、前記システムが処理装置及びメモリを備え、前記メモリが、前記処理装置が高さデータを使用して、投影システムの焦点面に対して前記基板のターゲット部分を配置する方法を実行することによって実行可能な命令を含むコンピュータプログラムでコード化され、前記方法が、
前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、
予め割り出された補正高さを使用して、前記高さデータの補正された高さデータを計算すること、及び、
前記補正された高さデータに少なくとも部分的に基づいて前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板の前記ターゲット部分を配置すること
を含み、前記予め割り出された補正高さがプロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて計算される、システム。 - 前記システムが、レベルセンサからの高さ測定値を処理するような構成である、請求項12に記載のシステム。
- 前記処理装置が、位置センサに少なくとも間接的に連絡するような構成であり、前記基板の前記位置を少なくとも間接的に制御するような構成である、請求項12又は13に記載のシステム。
- 前記メモリがプロセススタックデータを含み、前記処理装置が、前記メモリから取得した前記プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて補正高さを計算するように構成される、請求項12から14のいずれかに記載のシステム。
- 処理装置が高さデータを使用して、投影システムの焦点面に対して基板のターゲット部分を配置する方法を実行することによって実行可能な命令を含むコンピュータプログラムでコード化されたコンピュータ読み取り可能媒体であって、方法が、
前記基板の少なくとも一部の高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、
予め割り出された補正高さを使用して、前記高さデータの計算された高さデータを計算すること、及び、
前記補正された高さデータに少なくとも部分的に基づいて前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板の前記ターゲット部分を配置すること
を含み、前記予め割り出された補正高さが、プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて計算される、コンピュータ読み取り可能媒体。 - 前記命令が、メモリからのプロセススタックデータを使用して、前記処理装置で前記予め割り出された補正高さを計算するステップを含む、請求項16に記載のコンピュータ読み取り可能媒体。
- 前記命令が、基板材料の反射特性のテーブルを備える、請求項17に記載のコンピュータ読み取り可能媒体。
- 投影システムの焦点面に対して基板の少なくとも1つのターゲット部分を配置する方法であって、
前記基板の少なくとも一部で高さ測定を実行して、高さデータを生成すること、
予め割り出された補正高さを使用して、補正済み高さデータを計算すること、
前記補正済み高さデータに少なくとも部分的に基づいて、前記投影システムの前記焦点面に対して前記基板の前記ターゲット部分に配置すること
を含み、
前記方法が、プロセススタックデータを入力することをさらに含み、前記予め割り出された補正高さが、前記プロセススタックデータに少なくとも部分的に基づいて計算された補正高さである、方法。
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