JP2009236928A - エレクトロンキャプチャ検出器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】セル室23に被検ガスを導入するガス導入孔24の中心軸の延長線がセル室23内に向けて突設されたコレクタ電極22と交わることのない関係位置にガス導入孔24とコレクタ電極22とを配設する。このように構成することにより、底部のガス導入孔24からセル室23内に流入するガスの流れがコレクタ電極22に直接接触することが避けられるので、電極の汚染が少なく、長期にわたって安定した性能を維持することが可能となり、洗浄や交換に要する保守コストを削減できる。
【選択図】 図1
Description
同図に示すように、ECDは円筒状のセル筒25の内部にセル室23が形成され、このセル室23の側壁内面に63Niなどの放射線源21が塗着または蒸着され、棒状のコレクタ電極22は頂部からセル室23内に向けて突設されている。セル筒25の下端にはガスクロマトグラフのカラム29の末端を接続する接続部26が設けられ、カラム29から流出する試料成分を含むキャリアガスと側方のメイクアップガス流路27から供給される窒素ガスとの混合ガス(以下、被検ガスと記す)が、セル室23の底部に穿設されたガス導入孔24からセル室23内に送給され、セル室23を通過して上部の排気口28から排出される。
このように構成することにより、底部のガス導入孔からセル室内に流入するガスの流れがコレクタ電極に直接接触することが避けられる。
従って、最良の形態の基本的な構成は、このような構成を備えるECDである。
本実施例が図3に示す従来例と相違する点は、コレクタ電極22がセル筒25の中心軸cに対して偏心した位置に設けられていることである。一方、底部のガス導入孔24は中心軸c上にあるから、セル室23に流入する被検ガスはコレクタ電極22に直接接触することはない。ガスの流れは乱流や拡散を伴うから、被検ガスの一部はコレクタ電極22に接触するが、従来のようにコレクタ電極22が直接的に被検ガスの流れに曝される場合に比べて汚染の程度は少ない。
本実施例は従来のECDと同一の部品を用いて、コレクタ電極22の位置を少し変えるだけで実施できることが利点である。
図2(A)は、コレクタ電極22を従来同様にセル筒25の中心軸c上に設け、その代わりに複数個のガス導入孔24を中心軸cから偏心させて設けた例である。このような構成により、ガス導入孔24から流入する被検ガスはガス導入孔24の中心軸の延長線aに沿って上方に流れるから、直接的にコレクタ電極22に接触することがなく、図1の場合と同様の効果が得られる。しかも、図1の場合に比べて、コレクタ電極22がセル室23の中心に位置するため、セル室23内の電位分布に歪みを生じない利点がある。
このように構成することで、ガス導入孔24から流入する被検ガスは、ガス導入孔24の中心軸の延長線aに沿ってコレクタ電極22を避けて斜め上方に流れ、コレクタ電極22に直接接触することはないから、図1または図2(A)の場合と同様の効果が得られ、且つ、図2(A)の場合と同様にセル室23内の電位分布に歪みを生じない利点を有する。本実施例は、セル室23の底部に十分なスペースが無い場合に有効である。
22 コレクタ電極
23 セル室
24 ガス導入孔
25 セル筒
26 接続部
27 メイクアップガス流路
28 排気口
29 カラム
Claims (1)
- 内部に放射線源を有するセル室の頂部から前記セル室内に向けて棒状のコレクタ電極が突設されると共に、ガスクロマトグラフカラムから流出するガスを前記セル室に導入するガス導入孔が前記セル室の底部に穿設されて成るエレクトロンキャプチャ検出器において、前記ガス導入孔の中心軸の延長線が前記コレクタ電極と交わることのない関係位置に前記ガス導入孔と前記コレクタ電極とが配設されていることを特徴とするエレクトロンキャプチャ検出器。
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