JP2009216790A - 機能素子及びそれに用いられるネガ型感光性樹脂組成物並びに機能素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の基板上にフォトリソグラフにより設けられたパタ−ン化された構造体を介して、第2の基板を圧着させて2個の基板を接着させた機能素子において、前記構造体を形成する為の樹脂組成物が(A)アクリルモノマ−、(B)ヒドロキシスチレン類とスチレン類を必須成分として共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物であることを特徴とする前記機能素子。
【選択図】図1
Description
(1)第1の基板上にフォトリソグラフにより設けられたパタ−ン化された構造体を介して、第2の基板を圧着させて2個の基板を接着させた機能素子において、前記構造体を形成する為の樹脂組成物が(A)アクリルモノマ−、(B)ヒドロキシスチレン類とスチレン類を必須成分として共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物であることを特徴とする前記機能素子;
(3)ネガ型感光性樹脂組成物中の(B)成分が、ヒドロキシスチレンとスチレンを共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノール樹脂である上記(1)または(2)に記載の機能素子;
(4)共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノール樹脂の構成成分であるヒドロキシスチレン類のモル配合比率が、60モル%〜95モル%である上記(1)乃至(3)のいずれか一項に記載の機能素子;
(6)(D)エポキシ化合物が、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノ−ルと1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサンの重合物または下記式(1)で示されるエポキシ化合物である上記(5)に記載の機能素子;
(8)機能素子が液晶表示素子に用いる素子である上記(1)乃至(7)のいずれか一項に記載の機能素子;
(10)機能素子が液晶表示素子である上記(9)に記載の製造方法;
(12)ネガ型感光性樹脂組成物が、更に溶剤を含有するものである上記(11)に記載のネガ型感光性樹脂組成物;
(14)共重合させて得られたアルカリ可溶性樹脂の構成成分であるヒドロキシスチレン類のモル配合比率が、60モル%〜95モル%である上記(11)乃至(13)のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物;
(15)ネガ型感光性樹脂組成物中の(D)エポキシ化合物の軟化点が40℃〜110℃である上記(11)乃至(14)のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物;
(17)ネガ型感光性樹脂組成物中の(D)エポキシ化合物の(A)、(B)、(C)及び(D)の合計量中に占める割合が、重量比で5%〜50%である上記(11)〜(16)のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物;
に関する。
本発明の機能素子は、第1の基板上にフォトリソグラフにより設けられたパタ−ン化された構造体を介して、第2の基板を圧着させて2個の基板を接着させたものであり、且つ前記構造体を形成する為の樹脂組成物が(A)アクリルモノマ−、(B)ヒドロキシスチレン類とスチレン類を必須成分として共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物であることを特徴とする。
これらのアクリルモノマ−は、単独であるいは2種以上を組み合わせて使用することが出来る。
ヒドロキシスチレン類としては、1乃至4個の炭素数1〜5のアルキル基で置換されていてもよく、例えば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、3−メチル−4−ヒドロキシスチレン、3−エチル−4−ヒドロキシスチレン等が挙げられ、p−ヒドロキシスチレンが好ましい。
スチレン類としては、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい1乃至5個の炭素数1〜5のアルキル基、1乃至5個の炭素数1〜5のアルコキシ基や1乃至5個の塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよく、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、o−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、p−ブロモスチレン、o−クロロメチルスチレン、m−クロロメチルスチレン、p−クロロメチルスチレン、m−トリクロロメチルスチレン等が挙げられ、また、側鎖が1乃至3個の炭素数1〜5のアルキル基で置換されていてもよく、例えば、α−メチルスチレン等が挙げられる。これらの中でも、スチレンがより好ましい。
該スチレン類の(B)成分に占める割合は5〜40モル%、好ましくは10〜30モル%である。
これらは、単独または2種以上を組み合わせて使用することが出来る。
光重合開始助剤を使用する場合、本発明の組成物におけるその使用量は、(C)光重合開始剤1重量部当たり0.2重量部以上10重量部以下が好ましく、更に0.3重量部以上5重量部以下であることがより好ましく、とりわけ0.5重量部以上3重量部以下であることが好ましい。
該ポリチオ−ルとしては、例えば、トリエチレングリコ−ルジメルカプタン、トリメチロ−ルプロパン−トリス(β−チオプロピオネ−ト)、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレ−ト・トリス(β−メルカプトプロピオネ−ト)、ペンタエリスリト−ルテトラキス(β−チオプロピオネ−ト)、1,8−ジメルカプト−3,6−ジオキサオクタン等が挙げられる。
該メルカプト基置換型アルキル化合物としては、例えば、ジメルカプトブタンまたはトリメルカプトヘキサン等が挙げられる。
連鎖移動剤を使用する場合、本発明の組成物におけるその使用量は、(C)光重合開始剤1重量部あたり0.2重量部以上10重量部以下が好ましく、更に0.3重量部以上5重量部以下であることがより好ましく、とりわけ0.5重量部以上3重量部以下であることが好ましい。
該脂肪族系多官能エポキシ化合物としては1,4−ブタンジオ−ル、1,6−ヘキサンジオ−ル、ポリエチレングリコ−ル、ペンタエリスリト−ル等の多価アルコ−ルのグリシジルエ−テル類等が挙げられる。
該複素環式多官能エポキシ化合物としてはイソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式多官能エポキシ化合物等が挙げられる。
該グリシジルアミン系多官能エポキシ化合物としてはアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシジル化したエポキシ化合物等が挙げられる。
該ハロゲン化フェノ−ル類をグリシジル化したエポキシ化合物としてはブロム化ビスフェノ−ルA、ブロム化ビスフェノ−ルF、ブロム化ビスフェノ−ルS、ブロム化フェノ−ルノボラック、ブロム化クレゾ−ルノボラック、クロル化ビスフェノ−ルS、クロル化ビスフェノ−ルA等のハロゲン化フェノ−ル類をグリシジル化したエポキシ化合物等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物は1種または2種以上を混合して使用することが出来る。
ここで使用し得る溶剤としては、例えば、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル等炭素数1〜4の低級アルコ−ル類、エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノエチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノブチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル、3−メトキシブタノ−ル、3−メチル−3−メトキシブタノ−ル等の炭素数1〜4のアルキレングリコ−ルの炭素数1〜4の低級エ−テル類、エチレングリコ−ルモノエチルエ−テルアセテ−ト、エチレングリコ−ルモノブチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト、プロピレングリコ−ルモノエチルエ−テルアセテ−ト、3−メトキシブチルアセテ−ト、3−メチル−3−メトキシブチルアセテ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト等の炭素数1〜4のアルキレングリコ−ルの炭素数1〜4の低級エ−テルの炭素数1〜4のアシレ−ト類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、3−ヒドロキシプロピオン酸メチル、3−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸プロピル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸ブチル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸プロピル、3−エトキシプロピオン酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン等のエ−テル類等が挙げられる。
これらの中で市販品として、例えば、1B2PZ(1−ベンジル−2−フェニルイミダゾ−ル 四国化成(株)製)がある。
これらの増感剤を使用する場合、その使用量は(A)アクリルモノマ−100重量部に対して、0.05重量部〜15重量部、好ましくは0.5重量部〜10重量部である。
これらのカップリング剤を使用する場合、その使用量は、(A)、(B)、(C)及び(D)の合計量100重量部に対して、0.1〜5重量部程度、好ましくは0.5〜3重量部程度である。
該プラスチックフィルム基材としては、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエ−テルサルフォンフィルム、ポリカ−ボネ−トフィルム、シクロオレフィン系フィルム等の単体プラスチックフィルム、その他位相差フィルム、拡散フィルム、反射防止フィルム等機能性を持ったプラスチックフィルム等も挙げられる。
該電気電子回路基材としては、通常用いられているガラエポ電気回路基板、フレキシブル回路基板等が挙げられる。
該半導体ウェハ基材としては、例えば、Siウェハ基板等が挙げられ、半導体製造工程中での半導体基板に適用することも出来る。
該MEMS作成用基材またはその他の部品基材としては、例えば、分離バルブ等に代表されるバイオチップ関連用基板、インクジェットヘッド部品用基板等が挙げられる。
構造体の膜厚としては特に限定されるものではないが、例えば、硬化後1μm〜100μm、好ましくは5μm〜50μmになるような条件で濃度を調整したネガ型感光性樹脂組成物溶液を、前記の塗布方法により塗布することが出来る。
現像方法に関しては特に限定されるものではなく、未硬化部分を除去出来るような現像液を用いてそれ自体公知の方法により行われる。使用し得る現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ類、エチルアミン、n−プロピルアミン等の脂肪族1級アミン類、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン等の脂肪族2級アミン類、トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン等の脂肪族3級アミン類、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン等の脂環族3級アミン類、ピリジン、キノリン等の芳香族3級アミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等のアルカリ性化合物の水溶液を使用することが出来る。
前記アルカリ性化合物の水溶液には、界面活性剤を適宜添加して使用することも出来る。現像液の濃度としては、通常0.1重量%〜5重量%が使用出来る。
このように前記ネガ型感光性樹脂組成物を使用して、第1の基板上に使用したパタ−ンマスクに応じた任意の構造体(図1の符号4)を形成することが出来る。
該接着工程は、ネガ型感光性樹脂組成物に含有される(D)エポキシ化合物の熱重合反応によるものである。
加熱工程における温度は、(D)エポキシ化合物の反応性を考慮して十分な接着性が発現する温度が適宜選択される。例えば、固形のエポキシ化合物の場合は、通常100℃〜200℃の範囲で加熱接着させることにより接着性が発現される。加熱時の構造体の変形を考慮すると180℃以下の加熱温度で接着させるのがより好ましい。
まず、前記の方法に準じて第1の基板(図2の符号1)に構造体(図2の符号4)を設け、シ−ル剤(図2の符号6)の塗布された第2の基板(図2の符号2)を圧着し、次いで液晶注入口(図2の符号7)から液晶を注入し、注入口を封じて本発明の液晶表示素子を得る。尚、本発明の液晶表示素子においては、前記ネガ型感光性樹脂組成物から調製された構造体が両基板を接着する機能とともに、両基板間に一定量の液晶(図2の符号8)を保持する為の間隙を与えるためのスペ−サ−の機能も有するものである。
前記の本発明の機能素子の製造方法も本発明に含まれる。
本発明の機能素子に使用される前記ネガ型感光性樹脂組成物も本発明に含まれる。
○ネガ型感光性樹脂組成物溶液の調製
以下の表1の配合組成に従って各組成物を調製し、ネガ型感光性樹脂組成物を得た。
(A)成分
DPHA(ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト 日本化薬(株)製)
TMPTA(トリメチロ−ルプロパントリアクリレ−ト 日本化薬(株)製)
(B)成分 アルカリ可溶性フェノール樹脂
(ア);パラヒドロキシスチレンとスチレンの共重合体(モル比で80:20 重量平均分子量10000 )
アルカリ可溶性樹脂
(イ);パラヒドロキシスチレン重合体(重量平均分子量10000)
(ウ);PHM−C(パラヒドロキシスチレン重合体の部分水添化物 丸善石油化学(株)製 重量平均分子量5500 水素添加率11.8%)
イルガキュア907(光重合開始剤 チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)
(D)成分
(ア);(上記式(1)で示されるエポキシ化合物:NC6000(軟化点63℃、エポキシ当量222) 日本化薬(株)製)
(イ);(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノ−ルと1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサンの重合物(軟化点77℃、エポキシ当量181)
硬化促進剤:1B2PZ(1−ベンジル−2−フェニルイミダゾ−ル 四国化成(株)製)
硬化剤:リカシッドTH−W(テトラヒドロジカルボン酸無水物 新日本理化(株)製)
界面活性剤:メガファックF−470(フッ素系界面活性剤 大日本インキ化学工業(株)製)
光重合開始助剤:EAB−F(4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 保土谷化学工業(株)製)
連鎖移動剤:PEMP(ペンタエリスリト−ルテトラキス(β−チオプロピオネ−ト) 堺化学工業(株)製)
溶剤:プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テルアセテ−ト
○機能素子の作成
前記表1で得られた各ネガ型感光性樹脂組成物の溶液を用いて、表2の塗工条件により第1の基板として無アルカリガラスを用い、図1に示した工程により(第2の基板=無アルカリガラス)それぞれの機能素子を得た。
○接着性評価
(接着性評価用第1基板の作成工程)
60mm角、厚さ0.7mmの無アルカリガラス基板上(ホウ珪酸ガラス)にスピンコ−ト法を用いて、前記表1で得られた各ネガ型樹脂組成物溶液を塗布した。その後、100℃で180秒間、ホットプレ−ト上でプリベ−クを行った。このようにして得られた塗膜を大気雰囲気下にて、パタ−ンマスクなしで365nmにおける紫外線照射エネルギ−が500mJの条件で露光を行った。その後、表2に記載した条件で現像を行い、リンスし風乾した。
前記により得られた各第1の基板上に、第2の基板として、1.75mm角の無アルカリガラス(ホウ珪酸ガラス)チップを等間隔になるように10ヶ載せた(図3を参照)。その後、この第2の基板が搭載された第1の基板を、150℃に加熱したホットプレ−ト上に載せて、第2の基板上に第1の基板の基材と同様なガラス基板を載せて、更にその上に重さ100gの重りを5ヶ載せて30分間放置した。30分放置後、第2の基板上に載せた圧着用ガラス基板と重りを外して、第2の基板チップが接着した第1の基板をホットプレ−ト上より取り外した。このようにして、接着評価用機能素子を得た。
前記で得られた各接着評価用機能素子の接着性は次のように測定した。接着評価として、ボンドテスタ−(SS−30W 西進商事(株)製)を使用した。ボンドテスタ−の評価台に各機能素子を設置し、横方向から外力を加えてその抵抗力を測定した(図4を参照)。結果を表3に示す。ネガ型感光性樹脂組成物(実施例1〜実施例3、比較例1〜2)を用いて得られた各接着評価用機能素子(実施例7〜実施例9、比較例5〜比較例6)はいずれも高い接着性を示した。
実施例7 実施例8 実施例9 比較例5 比較例6
(注) (実施例1) (実施例2) (実施例3) (比較例1) (比較例2)
接着強度
(MPa) 23.1 21.9 22.4 21.4 20.9
第1の基板上に作成した構造体の解像性を次のように評価した。第1の基板上に所定のマスクを介して露光し、φ10μm、φ20μm及びφ30μmの構造体(解像性評価用第1基板)を作成し、それらの構造体の形状、パタ−ニング性を光学顕微鏡で観察した。
60mm角、厚さ0.7mmの無アルカリガラス基板上(ホウ珪酸ガラス)にスピンコ−ト法を用いて、表1で得られた各ネガ型樹脂組成物溶液を塗布した。その後、100℃で180秒間、ホットプレ−ト上でプリベ−クを行った。このようにして得られた膜上に所定のパタ−ンマスクを用い、ダイレクト露光法により大気雰囲気下にて、365nmにおける露光照度500mJの条件で露光を行った。その後、表2の条件に従い、現像工程を実施後、リンスし風乾した。この時の硬化後の膜厚は各7μmであった。このようにして解像性評価用第1基板(実施例10〜実施例12、比較例7〜比較例8)を得た。
前記で得られた第1の基板について、光学顕微鏡を用いて、φ10μm、φ20μm及びφ30μmの円柱状パタ−ン(構造体)のパタ−ニング性を観察した。その結果を表4に示す。
構造体について
○:シャ−プな構造体を観察。
△:ややダレあり。
×:パタ−ン太りあり。
○:無し。
△:少しあり。
×:多い。
実施例10 実施例11 実施例12 比較例7 比較例8
(注) (実施例1) (実施例2) (実施例3) (比較例1) (比較例2)
φ10μm ○ ○ ○ △ ○
φ20μm ○ ○ ○ ○ ○
φ30μm ○ ○ ○ ○ ○
残渣 ○ ○ ○ △ ×
スカム ○ ○ ○ △ ×
注;それぞれ使用したネガ型感光性樹脂組成物の実施例番号を示す。
以上の結果から明らかなように、ヒドロキシスチレンのみからなるアルカリ可溶性ポリマ−を含有する組成物である比較例1及び特許文献6の組成物である比較例2を用いて得られた各解像性評価用第1基板(比較例7及び比較例8)は、構造体の形状は問題ないものの残渣やスカムが観察されたのに対し、本発明のネガ型感光性樹脂組成物である実施例1乃至実施例3を用いて得られた各解像性評価用第1基板(実施例10乃至実施例12)には、いずれも残渣やスカムが無くシャ−プでコントラストの良好な円柱構造体が観察された。即ち、本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、優れた接着強度、耐熱性等を兼ね備えた構造体を与え、また、残渣やスカムの無いパタ−ン形成能を有しているので優れたパタ−ン解像性を有する構造体が得られることを確認できた。
本発明のネガ型感光性樹脂組成物はこれを用いることにより優れた機能素子を得ることが出来る。
1 第1の基板
2 ネガ型感光性樹脂組成物塗工層
3 パタ−ンマスク
4 構造体
5 第2の基板
6 シ−ル剤層
7 液晶注入口
8 液晶
9 ガラスチップ
10 引っかきつめ
11 ボンドテスタ−の評価台
Claims (17)
- 第1の基板上にフォトリソグラフにより設けられたパタ−ン化された構造体を介して、第2の基板を圧着させて2個の基板を接着させた機能素子において、前記構造体を形成する為の樹脂組成物が(A)アクリルモノマ−、(B)ヒドロキシスチレン類とスチレン類を必須成分として共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物であることを特徴とする前記機能素子。
- ネガ型感光性樹脂組成物が、更に溶剤を含有するものである請求項1に記載の機能素子。
- ネガ型感光性樹脂組成物中の(B)成分が、ヒドロキシスチレンとスチレンを共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノール樹脂である請求項1または請求項2に記載の機能素子。
- 共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノール樹脂の構成成分であるヒドロキシスチレン類のモル配合比率が、60モル%〜95モル%である請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の機能素子。
- ネガ型感光性樹脂組成物中の(D)エポキシ化合物の軟化点が40℃〜110℃である請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の機能素子。
- ネガ型感光性樹脂組成物中の(D)エポキシ化合物の(A)、(B)、(C)及び(D)の合計量中に占める割合が、重量比で5%〜50%である請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の機能素子。
- 機能素子が液晶表示素子に用いる素子である請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の機能素子。
- 第1の基板上に(A)アクリルモノマ−、(B)ヒドロキシスチレン類とスチレン類を必須成分として共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)エポキシ化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフにより構造体を設け、次いで該構造体上に第2の基板を圧着させることを特徴とする2個の基板を一体化させた機能素子の製造方法。
- 機能素子が液晶表示素子である請求項9に記載の製造方法。
- (A)アクリルモノマ−、(B)ヒドロキシスチレン類とスチレン類を必須成分として共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂、(C)光重合開始剤及び(D)エポキシ化合物を含有する樹脂組成物であって、第1の基板上にフォトリソグラフにより設けられたパタ−ン化された構造体を介して、第2の基板を圧着させて2個の基板を接着させた機能素子を作成する上で用いられる、前記構造体を形成する為のネガ型感光性樹脂組成物。
- ネガ型感光性樹脂組成物が、更に溶剤を含有するものである請求項11に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- ネガ型感光性樹脂組成物中の(B)成分が、ヒドロキシスチレンとスチレンを共重合させて得られたアルカリ可溶性フェノ−ル樹脂である請求項11または請求項12に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 共重合させて得られたアルカリ可溶性樹脂の構成成分であるヒドロキシスチレン類のモル配合比率が、60モル%〜95モル%である請求項11乃至請求項13のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- ネガ型感光性樹脂組成物中の(D)エポキシ化合物の軟化点が40℃〜110℃である請求項11乃至請求項14のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- (D)エポキシ化合物が、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノ−ルと1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサンの重合物または上記式(1)で示されるエポキシ化合物である請求項15に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- ネガ型感光性樹脂組成物中の(D)エポキシ化合物の(A)、(B)、(C)及び(D)の合計量中に占める割合が、重量比で5%〜50%である請求項11乃至請求項16のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012087284A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-05-10 | Sekisui Chem Co Ltd | インクジェット用硬化性組成物及びプリント配線板の製造方法 |
CN102955358A (zh) * | 2011-08-09 | 2013-03-06 | Jsr株式会社 | 感光性组成物、微透镜阵列及立体图像显示装置 |
JP2013054341A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-03-21 | Jsr Corp | 感光性組成物、マイクロレンズアレイおよび立体画像表示装置 |
CN103608727A (zh) * | 2011-06-20 | 2014-02-26 | 日本化药株式会社 | 负型光敏树脂组合物及其固化产物 |
CN104918977A (zh) * | 2013-01-16 | 2015-09-16 | 日本化药株式会社 | 环氧树脂、固化性树脂组合物和固化物 |
JP2018189851A (ja) * | 2017-05-09 | 2018-11-29 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および電子部品 |
US10160881B2 (en) | 2010-09-24 | 2018-12-25 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Curable composition for inkjet and method for producing electronic component |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02187764A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-23 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感遠紫外線樹脂組成物 |
JP2002031708A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP2007065488A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Jsr Corp | 絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および絶縁膜の製造方法 |
JP2007304355A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | 機能素子及びそれに用いられるネガ型感光性樹脂組成物並びに機能素子の製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02187764A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-23 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感遠紫外線樹脂組成物 |
JP2002031708A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP2007065488A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Jsr Corp | 絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および絶縁膜の製造方法 |
JP2007304355A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | 機能素子及びそれに用いられるネガ型感光性樹脂組成物並びに機能素子の製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012087284A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-05-10 | Sekisui Chem Co Ltd | インクジェット用硬化性組成物及びプリント配線板の製造方法 |
US10160881B2 (en) | 2010-09-24 | 2018-12-25 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Curable composition for inkjet and method for producing electronic component |
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CN103608727A (zh) * | 2011-06-20 | 2014-02-26 | 日本化药株式会社 | 负型光敏树脂组合物及其固化产物 |
KR20140033120A (ko) * | 2011-06-20 | 2014-03-17 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 그 경화물 |
TWI548665B (zh) * | 2011-06-20 | 2016-09-11 | 日本化藥股份有限公司 | 負型光敏性樹脂組成物及其硬化物 |
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CN104918977B (zh) * | 2013-01-16 | 2017-10-10 | 日本化药株式会社 | 环氧树脂、固化性树脂组合物和固化物 |
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