JP2009209335A - 蛍光体及びこれを用いた表示パネル - Google Patents

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Abstract

【課題】高い発光効率を有するとともに、簡易かつ安価に作製(形成)することができ、特に耐久性及び信頼性に優れた薄膜状又は粉末状の蛍光体と、この蛍光体を用いた表示パネルを提供することを課題とする。
【解決手段】蛍光体は、化学的に不安定な第1母体材料を含む第1蛍光体材料と、前記第1蛍光体材料の周囲を覆い、化学的に安定で前記第1母体材料よりもバンドギャップが大きい第2母体材料を含む第2蛍光体材料とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、蛍光体に関し、より詳細には、蛍光体を用いた表示装置や光源、特にエレクトロルミネッセンス表示装置やフィールドエミッションディスプレイ、フィールドエミッションランプ、白色LED等に用いる薄膜状又は粉末状の蛍光体と、この蛍光体を用いた表示パネルに関する。
従来より、液晶用バックライトや照明用途を中心に冷陰極蛍光灯(CCFL: Cold Cathode Fluorescent Lamp)が用いられてきた。
しかし、蛍光灯は、小型化すると急激に発光効率が低下し、消費電力効率が悪化することに加えて、水銀を使用するため、環境的な負荷が大きいという課題がある。
これに対して、冷陰極電子源から放出される電子線を蛍光体に照射した際の発光を使用するディスプレイ用途としてフィールドエミッションディスプレイ(FED: Field Emission Display)、あるいは、液晶バックライトや照明光源用途としてフィールドエミッションランプ(FEL: Field Emission Lamp)が注目されるようになってきた。
これらFEDやFELに用いられる蛍光体は、ブラウン管(CRT:Cathode Ray Tube)と同様に、電子線を蛍光体に照射した際の発光(カソードルミネッセンス)を利用している。
また、高電界中で加速されたキャリヤで蛍光体を発光させる方式としてエレクトロルミネッセンス(EL: Electroluminescence)がある。このELをディスプレイとして応用したものは、特に、エレクトロルミネッセントディスプレイ(ELD: Electroluminescent Display)と総称されている。
さらに、紫外線や波長の短い青色光を蛍光体に照射することにより、波長の長い発光を得る方式として、フォトルミネッセンス(PL: Photoluminescence)がある。このPLの中でも、特に白色LED(W−LED: White-Light Emitting Diode)の分野の開発研究は盛んに行われている。
FED、FEL、ELD、及びW−LEDは、いずれも蛍光体材料を用いる点において共通する。また、FED、FEL、ELD、及びW−LEDに用いられる蛍光体の形態としては、薄膜又は粉末がある。
このような蛍光体の材料として、硫化ストロンチウム(SrS)や硫化カルシウム(CaS)を母体にした蛍光体は、発光効率が高く、高輝度を得られることから精力的に研究開発が行われてきた(例えば、特許文献1、2参照)。
特開平08−102359号公報 特開平09−274991号公報
ところで、今日まで、硫化ストロンチウム(SrS)や硫化カルシウム(CaS)等を母体にした蛍光体材料は、化学反応性が強く、吸湿性があるという化学的に不安定な材料であり、水の浸入によって容易に分解されるため、実用化に至っていない。
このような蛍光体材料の耐久性を高める一つの手法として、硫化ストロンチウム(SrS)等の吸湿性のある材料を、硫化亜鉛(ZnS)等の耐湿性のある材料薄膜と積層する手法がある。例えば、ZnS/SrS:Ce/ZnS/SrS:Ce/・・・/ZnSの多層薄膜が報告されている(R. H. Mauch et. al. 1992 SID International Sympo. (1992)p.178)。
ここで、硫化ストロンチウム:セリウム/硫化亜鉛(SrS:Ce/ZnS)の表示は、発光中心となるセリウム(Ce)をドープした硫化ストロンチウム(SrS)層と、何もドープしていない硫化亜鉛(ZnS)層とを積層することを意味する。
しかしながら、この硫化ストロンチウム:セリウム/硫化亜鉛(SrS:Ce/ZnS)多層膜の作製においては、例えば、真空蒸着法を用いると、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)は500℃以上、硫化亜鉛(ZnS)は200℃以下の基板温度にすることが必要であり、それぞれの材料の最適基板温度が大きく異なるために、製造上、歩留まりの問題やコスト等の問題が生じる。さらに、これに加えて、多層膜の場合には、異なる材料同士の界面で歪みが発生し、あるいは、水分等の浸入が発生し、これによって剥離が発生すると、積層膜の破損に至る可能性がある。
また、例えば、硫化ストロンチウム:セリウム/硫化亜鉛(SrS:Ce/ZnS)の場合、硫化ストロンチウム(SrS)及び硫化亜鉛(ZnS)のバンドギャップは、それぞれ4.3eV及び3.6eVであり、励起されるべき蛍光体材料である硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)のバンドギャップの方が、発光中心材料をドープしていない硫化亜鉛(ZnS)よりワイドギャップとなっている。このため、ナローギャップの硫化亜鉛(ZnS)の領域で励起キャリヤが再結合しやすく、発光効率の低下を招きやすいという課題があった。
そこで、本発明は、高い発光効率を有するとともに、簡易かつ安価に作製(形成)することができ、特に耐久性及び信頼性に優れた薄膜状又は粉末状の蛍光体と、この蛍光体を用いた表示パネルを提供することを目的とする。
本発明の一局面の蛍光体は、化学的に不安定な第1母体材料を含む第1蛍光体材料と、前記第1蛍光体材料の周囲を覆い、化学的に安定で前記第1母体材料よりもバンドギャップが大きい第2母体材料を含む第2蛍光体材料とを有する。
また、前記第1母体材料は、SrS、CaS、又は、ZnMg1−xS(x=0.50〜0.95)であり、前記第2母体材料は、SrCa1−x(GayAl1−y(x=0〜1、y=0〜1)であってもよい。
また、前記第1母体材料と前記第2母体材料は同一組成を有してもよい。
また、前記第1蛍光体材料は、母体材料に発光中心材料が注入された、SrS:Ce、SrS:Cu、CaS:Cu、CaS:Eu、又は、ZnMg1−xS:Mn(x=0.50〜0.95)であってもよい。
また、前記第2蛍光体材料は、母体材料に発光中心材料として、Mn、Ce、Eu、又はTbのうちの少なくともいずれか一つが注入されていてもよい。
また、前記第1蛍光体材料はSrS:Ceであり、前記第2蛍光体材料はSrGa又はSrGa:Ce,Mnであってもよい。
また、前記第1蛍光体材料は粒径が1〜10nmに超微粒子化されていてもよい。
本発明の一局面の表示パネルは、前記いずれかに記載の蛍光体を用いる。
本発明によれば、高い発光効率を有するとともに、簡易かつ安価に作製(形成)することができ、特に耐久性及び信頼性に優れた薄膜状又は粉末状の蛍光体と、これを用いた表示パネルを提供することができるという特有の効果が得られる。
以下、本発明の蛍光体と、これを用いた表示パネルを適用した実施の形態について説明する。
本実施の形態では、化学的に不安定な蛍光体を、この蛍光体よりもバンドギャップが大きく、しかも化学的に安定な材料中に埋め込むことにより、化学的安定性を確保しつつ、しかも高い発光効率を有する蛍光体を実現する。
また、本実施の形態において、母体材料の表記については次のように定義する。蛍光体材料は、通常「母体材料:発光中心材料」で表記される。例えば、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)において、母体材料は硫化ストロンチウム(SrS)であり、発光中心材料はセリウム(Ce)である。この場合、発光中心材料は通常イオンの形で母体材料中に存在し、この例の場合はセリウムイオン(Ce3+)として存在することになる。このような場合において、本実施の形態では、発光中心材料は全て元素名(この例ではCe)で統一的に記述することとする。なお、これは、特許請求の範囲における表記においても同様である。
また、発光中心材料のドーピングの形態としては、元素名(この例ではCe)よりなる元素が含有されていればよく、その形態については、例えば、塩化セリウム(CeCl)、フッ化セリウム(CeF)三硫化二セリウム(Ce)等があるが、その形態については特に問わない。
本実施の形態では硫化ストロンチウム(SrS)や硫化カルシウム(CaS)など吸湿性があり化学的に不安定な母体にもつ蛍光体材料を、これら硫化ストロンチウム(SrS)や硫化カルシウム(CaS)よりもバンドギャップが大きく(ワイドギャップ)、しかも化学的に安定で、かつ耐湿性のある材料中に埋め込む。
これにより、高い発光効率を得るとともに、簡易かつ安定に作製でき、しかも耐久性及び信頼性に優れた薄膜状又は粉末状の蛍光体を提供することができる。
このような蛍光体を実現するためには、本実施の形態では、ワイドギャップの母体材料がSrCa1−x(GaAl1−y(x=0〜1、y=0〜1)中に、蛍光体の母体材料が硫化ストロンチウム(SrS)、硫化カルシウム(CaS)、又は硫化亜鉛マグネシウム(ZnMg1−xS(x=0.50〜0.95))で表される組成より選ばれるうちの一形態の材料を埋め込む。
この場合に、埋め込まれる蛍光体が硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)、硫化ストロンチウム:銅(SrS:Cu)、又は硫化カルシウム:銅(CaS:Cu)であれば青色から緑色の発光が得られ、硫化ストロンチウム:ユウロピウム(SrS:Eu)、又は硫化カルシウム:ユウロピウム(CaS:Eu)であれば赤色発光が得られ、硫化亜鉛マグネシウム:マンガン(ZnMg1−xS:Mn(x=0.50〜0.95))であれば緑色からオレンジ色の発光を得ることができる。
すでに、非特許文献(T. E. Peters and J. A. Baglio: J. Electrochem. Soc., 119,
230(1972))に明確に述べられているように、SrGa及びCaGaは、SrSやCaSに比べて加水分解しないため耐湿性があり、化学的安定性の点で優れた性質を有していることが知られている。
また、この組成の範囲を拡げたSrCa1−x(GaAl1−y(x=0〜1、y=0〜1)においては、同一の結晶構造(斜方晶 D2h 24_Fddd)をとるため、上記のxおよびyの範囲で固溶体を作ることがすでに知られている(P. C. Donohue and J. E. Hanlon: J. Electrochem. Soc., 121, 137(1974))。このため、これらの材料は化学的及び物理的性質が類似しており、上記のxおよびyの範囲で同一の作製法が適用可能である。
また、現在までに、吸湿性があるため実用化されていない材料の発光色として、例えば硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)、硫化ストロンチウム:銅(SrS:Cu)は青色から緑色の発光(S. Tanaka et. al., Digest of 1985 SID International Symposium (1985) 218. および W. Lehmann: J. Electrochem. Soc., 117, 1389(1970))が得られ、硫化ストロンチウム:ユウロピウム(SrS:Eu)であれば赤色(William, M. Yen and Marvin J. Weber eds. “INORGANIC PHOSPHORS” CRC Press (2004)206)、硫化カルシウム:ユウロピウム(CaS:Eu)であれば赤色(既出S. Tanaka et. al., Digest of 1985 SID International Symposium (1985)218)、ZnMg1−xS:Mn(x=0.50〜0.95)であれば緑色からオレンジ色(A. Mikami et. al., Proc. Of 8th International Workshop on Electroluminescence (1996)369))になることが既に知られている。
このため、この埋め込まれる硫化ストロンチウム(SrS)や硫化カルシウム(CaS)等を母体にした蛍光体材料の発光に加えて、周囲の材料側のワイドギャップを有する母体材料にも適当な発光中心材料をドーピングすることにより発光させることもでき、両者の発光を加色混合した発光を得ることができる。周囲のワイドギャップ母体材料に発光中心を形成するためのドーピング材料としては、種々の遷移元素及び希土類元素が挙げられるが、マンガン(Mn)、セリウム(Ce)、ユウロピウム(Eu)、又はテルビウム(Tb)のうちの一又は複数を含む材料が好適である。
例えば、周囲のワイドギャップ母体材料がストロンチウムチオガレイト(SrGa)であって、これにセリウム(Ce)とマンガン(Mn)が共添加された蛍光体材料(SrGa:Ce,Mn)である場合には、この蛍光体材料から赤色発光が得られる。この場合に、埋め込まれる蛍光体材料が硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)であれば、SrGa:Ce,Mnの赤色発光と硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)の青緑発光を加色混合することができ、白色発光を得ることができる。
また、この埋め込み構造においては、周囲のワイドギャップ母体材料(例えばSrGa)と埋め込まれる蛍光体の母体材料(例えばSrS)とに共通の構成元素(例えばSr及びS)が含まれる割合が高いと、それらの材料(例えばSrGaとSrS)の接合界面における欠陥密度を低減することができる。このような欠陥密度の低減は、共通の構成元素が含まれる割合が低い場合よりも容易であるため、埋め込まれた蛍光体表面において電子正孔対が失活(消滅)することを抑制できる。
また、本実施の形態においては、周囲の材料が埋め込まれる材料よりワイドギャップであるため、埋め込まれる材料の粒径(サイズ)を超微粒子化し、ナノメートル程度(1〜10nm)にすることにより、更に発光効率を向上させることも可能である。
この場合、埋め込まれる材料の母体材料(SrSやCaS)で吸収されたエネルギーが、超微粒子の1〜10nmの領域から散逸することなく、効率良く発光中心イオンに移動できるため、高効率なエネルギー移動を利用することができ、発光効率の高い蛍光体を作製することができる。また、この高効率化の別の要因としては、1〜10nmの領域に電子と正孔が空間的に閉じ込められているために、熱解離が生じにくくなっていることによるとも考えられる。
本実施の形態によれば、吸湿性があり化学的に不安定なため、従来は実用化されなかった硫化ストロンチウム(SrS)や硫化カルシウム(CaS)等を母体にした蛍光体材料を用いて、高い発光効率を有しながら、しかも耐久性及び信頼性に優れた薄膜状又は粉末状の蛍光体を簡易かつ安価に作製(形成)することができる。
以下、実施例1乃至3の薄膜状の蛍光体(以下、薄膜状蛍光体)について説明する。
「実施例1」
実施例1では、埋め込まれる蛍光体に硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)を用い、埋め込む側のワイドギャップ母体材料としてストロンチウムチオガレイト(SrGa)を用いた薄膜状蛍光体の作製方法について説明する。ここでは、薄膜状蛍光体の作製方法として、MBE(Molecular Beam Epitaxy)装置による多源蒸着法を用いる。
表1は、実施例1の薄膜状蛍光体の作製条件を示す表である。
Figure 2009209335

MBE装置のクヌーセンセル(Knudsen Cell,以下、「Kセル」と称す)に充填された原料は、それぞれの温度で蒸発し、基板上では、以下の化学反応によりストロンチウムチオガレイト(SrGa)母体結晶薄膜が成長する。
Sr+2Ga→SrGa+2GaS(↑)・・・・・(1)
なお、(1)式において、硫化ガリウム(GaS)は基板上で全て再蒸発し、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)中に硫化ガリウム(GaS)は残留しない。
また、(1)式の反応に加えて次式(2)の反応も同時に起こる。
Sr+Ga→SrS+2GaS(↑)・・・・・・・・・・(2)
なお、(2)式において、硫化ガリウム(GaS)は基板上で全て再蒸発し、硫化ストロンチウム(SrS)中に硫化ガリウム(GaS)は残留しない。
このとき、同時に三塩化セリウム(CeCl)のKセルを加熱することにより、セリウム(Ce)が硫化ストロンチウム(SrS)結晶中に取り込まれて硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)がストロンチウムチオガレイト(SrGa)中に埋め込まれる形で析出する。
図1は、実施例1で得た薄膜状蛍光体に電子線を照射した際の発光スペクトルを示す図である。
ストロンチウムチオガレイト(SrGa)母体材料中に硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)の相を混入させた蛍光体に電子線を照射した場合におけるセリウムイオン(Ce3+)の発光バンドのピーク波長は、498nm付近にある青緑色発光になる。
以上、実施例1によれば、埋め込まれる蛍光体に硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)を用い、周囲の材料側のワイドギャップ母体材料としてストロンチウムチオガレイト(SrGa)を用い、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)母体材料中に硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)の相を混入させることにより、発光効率が高く、耐久性及び信頼性に優れ、青緑色発光を得ることのできる薄膜状蛍光体を簡易かつ安価に作製することができる。
「実施例2」
実施例2では、埋め込まれる蛍光体の粒径をナノメートル程度(1〜10nm)に制御する。ここでは埋め込まれる蛍光体材料として硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)を用い、周囲の材料側のワイドギャップ母体材料としてストロンチウムチオガレイト(SrGa)を用いる。
図2は、実施例2の薄膜状蛍光体の断面構造を模式的に示す図である。この図は、断面構造を模式的に示している。実際の薄膜状蛍光体の構造では、ナノメートルという極微小領域において埋め込まれる粒子状蛍光体の周期間隔の乱れや界面での凹凸が生じるが、説明の便宜上、この模式図では省略する。
実施例2では、薄膜状蛍光体の作製方法として、MBE装置による多源蒸着法を用いる。表2は、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)の各材料の作製条件を示し、表3は、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)の各材料の作製条件を示す。
MBE装置のKセルに充填された原料は、それぞれの蒸発温度で蒸発され、基板上でストロンチウムチオガレイト(SrGa)及び硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)(但し、異相としてSrGaを含有する)がそれぞれ成長される。この成長時にMBE装置のKセルの各シャッターを順次開閉することにより、図2に示すように、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)で構成される薄膜1の内部に、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)で構成される超微粒子蛍光体2が埋め込まれた断面構造の薄膜状蛍光体を成長させることができる。
Figure 2009209335
Figure 2009209335

表2及び表3において、特に同一の基板温度とKセル温度を使用していることが実施例2の特徴であり、Kセルのシャッターを開閉するだけで図2の構造を有する薄膜を容易に作製することが可能となる。
また、表2に示す蒸着原料(ZnS)は、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)の作製に必要な硫黄(S)の供給源として機能し、表2の基板温度を含む400℃以上の温度に対して、Zn成分は基板上で完全に再蒸発し、成長後の薄膜中に残留することはない。
この場合、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)の層厚は2nmと薄いため、島状(ドット状)に形成されて粒径2nmの超微粒子と同等になるため、等価的に図2の構造を有する薄膜が形成される。
また、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)の層厚が、例えば5nm以上になると、界面での凹凸が減少して、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)とストロンチウムチオガレイト(SrGa)との単純な積層構造になるが、このような場合でも、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)層は、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)単一相ではなく異相としてストロンチウムチオガレイト(SrGa)相を含有した層になっているため、容易にSrS:Ceの微粒子をストロンチウムチオガレイト(SrGa)中に埋め込むことができる。
以上、実施例2によれば、ここでは埋め込まれる蛍光体材料として硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)を用い、埋め込む側のワイドギャップ母体材料としてストロンチウムチオガレイト(SrGa)を用い、埋め込まれる蛍光体の粒径をナノメートル程度(1〜10nm)に制御することにより、発光効率が高く、耐久性及び信頼性に優れ、青緑色発光を得ることのできる薄膜状蛍光体を簡易かつ安価に作製することができる。
「実施例3」
実施例3では、埋め込まれる蛍光体として硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)を用い、埋め込む側のワイドギャップ材料としてSrGa:Ce,Mnの赤色発光を用いて、白色発光を得ることのできる薄膜状蛍光体を作製する方法について説明する。
実施例3において、Kセルにストロンチウム(Sr)、三硫化二ガリウム(Ga)、マンガン(Mn)、及び三塩化セリウム(CeCl)を充填し、調温器を用いてKセルを加熱し、基板上に供給する。
実施例3では、実施例1の作成条件に加えて、マンガン(Mn)と三塩化セリウム(CeCl)のKセルを同時に加熱することにより、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)結晶中にマンガン(Mn)とセリウム(Ce)が取り込まれてSrGa:Mn,Ce結晶薄膜を成長することができる。
このとき、SrGa:Mn,Ce薄膜中に硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)が埋め込まれる形で析出する。Kセルの温度、基板温度、及び成膜速度の各条件は下記表4に示す通りである。
Figure 2009209335
図3は、実施例3の薄膜状蛍光体に電子線を照射した際の発光スペクトルを示す図である。
図4は、実施例3の薄膜状蛍光体の色度座標の変化特性を示す図である。
ストロンチウムチオガレイト(SrGa)母体材料にマンガン(Mn)とセリウム(Ce)が取り込まれたSrGa:Ce,Mn蛍光体材料中に、硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)が埋め込まれる形で析出させた蛍光体に電子線を照射した場合におけるセリウムイオン(Ce3+)の発光バンドのピーク波長は、498nm付近の青緑発光である。また、マンガン(Mn)による赤色発光バンドのピーク波長は、694nm付近にある。
このように、ストロンチウムチオガレイト(SrGa)母体材料にマンガン(Mn)とセリウム(Ce)が取り込まれたSrGa:Ce,Mn蛍光体材料中に硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)の相を埋め込ませた薄膜状蛍光体では、セリウム(Ce)とマンガン(Mn)のドーピング濃度を変化させると、図4の実線部分に沿って薄膜状蛍光体の発光色の色度座標を変化させることができる。このため、x=0.30,y=0.38の色純度の良好なペイパーホワイトの白色光を得ることができる。
なお、実施例3に加えて、実施例2と同様に硫化亜鉛(ZnS)を共蒸着し、シャッター制御することにより、埋め込まれる硫化ストロンチウム:セリウム(SrS:Ce)蛍光体の粒径をナノメートル程度(1〜10nm)に制御することも可能である。
また、上述した実施形態のものでは、薄膜状蛍光体の作製方法として、MBE装置を用いた多源蒸着法について説明しているが、他の薄膜作製方法、例えば具体的には、電子線蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法等を用いることも可能である。
以上、実施例として、特に薄膜形状の蛍光体について述べたが、通常の焼結法を用いることで、同一の埋め込み構造を有する粉末状の蛍光体を作製することも可能である。
「表示装置への適用」
図5は、薄膜状蛍光体と電子源を対向させた構造を持つFED素子を示す図であり、図6は、薄膜状蛍光体を発光層とする薄膜EL素子を示す図である。
FED素子は、図5に示すように、ガラス基板3の一方の面3Aに、ITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)等で構成される透明な導電性薄膜4と薄膜状蛍光体5を積層し、電子放出源6と対向配置させた構成を有する。図5には示さないが、ガラス基板3と電子放出源6の間は、封止体によって密封されて真空に保持される。電子放出源6から発射される電子が薄膜状蛍光体5に照射されることにより発光を得る。
また、薄膜EL素子は、図6に示すように、ガラス基板7の上にITO等で構成される透明な導電性薄膜8、第1絶縁層10a、及び薄膜状蛍光体9を積層し、薄膜状蛍光体9を覆う第2絶縁層10bを介して背面電極11が配設された構成を有する。導電性薄膜8と背面電極11の間に電圧を印加すると、薄膜状蛍光体9の発光を得る。図5は、FEDパネル、また、図6は、薄膜ELディスプレイの一画素に相当する素子の構造を示しており、公知の技術により、これらの構造を並べる(マトリクス化する)ことで、平面型ディスプレイ(パネル)とすることが可能である。
実施例1及び実施例2では青緑色発光の得られる薄膜状蛍光体の作製方法について説明し、実施例3では白色薄膜状蛍光体の作製方法について説明した。これらの薄膜状蛍光体は、図5に示すようなFED素子の薄膜状蛍光体5、図6に示すような薄膜EL素子の薄膜状蛍光体9、あるいは、FEL(図示せず)の薄膜状蛍光体に用いることができる。また、近紫外又は青色LEDでこれらの薄膜状蛍光体を励起することにより、白色LED(図示せず)を作製することが可能となる。
以上、本発明の例示的な実施の形態の蛍光体について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。
実施例1で得た蛍光薄膜に電子線を照射した際の発光スペクトルを示す図である。 実施例2の薄膜状蛍光体の断面構造を模式的に示す図である。 実施例3の薄膜状蛍光体に電子線を照射した際の発光スペクトルを示す図である。 実施例3の薄膜状蛍光体の色度座標の変化特性を示す図である。 薄膜状蛍光体と電子源を対向させた構造を持つFED素子を示す図である。 薄膜状蛍光体を発光層とする薄膜EL素子を示す図である。
符号の説明
1 薄膜
2 超微粒子蛍光体
3、7 ガラス基板
4、8 導電性薄膜
5、9 薄膜状蛍光体
6 電子放出源
10a 第1絶縁層
10b 第2絶縁層
11 背面電極

Claims (8)

  1. 化学的に不安定な第1母体材料を含む第1蛍光体材料と、
    前記第1蛍光体材料の周囲を覆い、化学的に安定で前記第1母体材料よりもバンドギャップが大きい第2母体材料を含む第2蛍光体材料と
    を有する蛍光体。
  2. 前記第1母体材料は、SrS、CaS、又は、ZnMg1−xS(x=0.50〜0.95)であり、前記第2母体材料は、SrCa1−x(GayAl1−y(x=0〜1、y=0〜1)である、請求項1に記載の蛍光体。
  3. 前記第1母体材料と前記第2母体材料は同一組成を有する、請求項1又は2に記載の蛍光体。
  4. 前記第1蛍光体材料は、母体材料に発光中心材料が注入された、SrS:Ce、SrS:Cu、CaS:Cu、CaS:Eu、又は、ZnMg1−xS:Mn(x=0.50〜0.95)である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の蛍光体。
  5. 前記第2蛍光体材料は、母体材料に発光中心材料として、Mn、Ce、Eu、又はTbのうちの少なくともいずれか一つが注入されている、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蛍光体。
  6. 前記第1蛍光体材料はSrS:Ceであり、前記第2蛍光体材料はSrGa又はSrGa:Ce,Mnである、請求項1に記載の蛍光体。
  7. 前記第1蛍光体材料は粒径が1〜10nmに超微粒子化されている、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の蛍光体。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蛍光体を用いた表示パネル。
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