JP2009200183A - 洗浄方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置10において、最初のプラズマエッチングの際、チャンバ11の構成部品等に付着したCF系のデポ量が規定量より少ないときには、続く1ロット分のプラズマエッチングにおいて反応室17内における構成部品等を加熱して該構成部品等に付着したCF系のデポ量を減少させ、ドライクリーニングにおいて反応室17内に酸素ラジカルを弗素ラジカルに比して過剰に存在させ、構成部品等に付着したCF系のデポ量が規定量より多いときには、続く1ロット分のプラズマエッチングにおいて反応室17内における構成部品等を冷却して該構成部品等に付着したCF系のデポ量を増加させ、続くドライクリーニングにおいて反応室17内に弗素ラジカルを酸素ラジカルに比して過剰に存在させる。
【選択図】図5
Description
構成部品等に付着したCF系のデポ量が或る量より多いと、ドライクリーニングにおいて反応室17内に存在する弗素ラジカルの量が多くなる。このとき、さらに反応室17内の弗素ラジカルの量を増加させると該反応室17内には弗素ラジカルが酸素ラジカルに比して過剰に存在することになる。
構成部品等に付着したCF系のデポ量が或る量より少ないと、ドライクリーニングにおいて反応室17内に存在する弗素ラジカルの量が少なくなり、相対的に酸素ラジカルの量が多くなる。このとき、さらに反応室17内の弗素ラジカルの量を減少させると該反応室17内には酸素ラジカルが弗素ラジカルに比して過剰に存在することになる。
11 チャンバ
12 Oリング
13 サセプタ
17 反応室
29 シャワーヘッド
Claims (11)
- 基板を収容する収容室と、該収容室内を外部から密封する弗素系ゴムからなる密封部材とを備え、該収容室内でフルオロカーボン系のガスから生じたプラズマを用いて前記基板にプラズマ処理を施す基板処理装置の洗浄方法であって、
前記収容室内に少なくとも酸素ガスを含む洗浄ガスを供給し、前記収容室内に高周波電圧を印加して前記洗浄ガスから酸素ラジカルを生じさせる洗浄ステップを有し、
該洗浄ステップでは、前記プラズマ処理において発生した前記収容室内の付着物の量が所定量より多いときには前記収容室内における弗素ラジカルの量を増加させ、前記付着物の量が前記所定量より少ないときには前記収容室内における弗素ラジカルの量を減少させることを特徴とする洗浄方法。 - 前記付着物の量が前記所定量より少ないときに、前記プラズマ処理において前記収容室の構成部品を加熱することを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より少ないときに、前記洗浄ステップにおいて前記収容室内に印加される高周波電圧の値を増加させることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より少ないときに、前記洗浄ガスに含まれる前記酸素ガスの量を増加させることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より少ないときに、前記洗浄ガスに水素含有ガスを混合することを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記水素含有ガスはメタンガスであることを特徴とする請求項5記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より多いときに、前記プラズマ処理において前記収容室の構成部品を冷却することを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より多いときに、前記洗浄ガスに含まれる前記酸素ガスの量を減少させることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より多いときに、前記洗浄ガスにフルオロカーボン系のガスを混合することを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記付着物の量が前記所定量より多いときに、前記プラズマ処理における前記フルオロカーボン系のガスの流量を増加させることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 基板を収容する収容室と、該収容室内を外部から密封する弗素系ゴムからなる密封部材とを備え、該収容室内でフルオロカーボン系のガスから生じたプラズマを用いて前記基板にプラズマ処理を施す基板処理装置において、
前記収容室内に少なくとも酸素ガスを含む洗浄ガスを供給し、前記収容室内に高周波電圧を印加して前記洗浄ガスから酸素ラジカルを生じさせる際に、前記プラズマ処理において発生した前記収容室内の付着物の量が所定量より多いときには前記収容室内における弗素ラジカルの量を増加させ、前記付着物の量が前記所定量より少ないときには前記収容室内における弗素ラジカルの量を減少させることを特徴とする基板処理装置。
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