JP2009199086A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009199086A5
JP2009199086A5 JP2009040027A JP2009040027A JP2009199086A5 JP 2009199086 A5 JP2009199086 A5 JP 2009199086A5 JP 2009040027 A JP2009040027 A JP 2009040027A JP 2009040027 A JP2009040027 A JP 2009040027A JP 2009199086 A5 JP2009199086 A5 JP 2009199086A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
master
optical element
wavelength
visible light
depth distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009040027A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5257131B2 (ja
JP2009199086A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2009040027A priority Critical patent/JP5257131B2/ja
Priority claimed from JP2009040027A external-priority patent/JP5257131B2/ja
Publication of JP2009199086A publication Critical patent/JP2009199086A/ja
Publication of JP2009199086A5 publication Critical patent/JP2009199086A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5257131B2 publication Critical patent/JP5257131B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2009040027A 2009-02-23 2009-02-23 光学素子の製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法 Expired - Fee Related JP5257131B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009040027A JP5257131B2 (ja) 2009-02-23 2009-02-23 光学素子の製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009040027A JP5257131B2 (ja) 2009-02-23 2009-02-23 光学素子の製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007009628A Division JP4539657B2 (ja) 2007-01-18 2007-01-18 反射防止用光学素子

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009199086A JP2009199086A (ja) 2009-09-03
JP2009199086A5 true JP2009199086A5 (zh) 2010-03-04
JP5257131B2 JP5257131B2 (ja) 2013-08-07

Family

ID=41142555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009040027A Expired - Fee Related JP5257131B2 (ja) 2009-02-23 2009-02-23 光学素子の製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5257131B2 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102639307B (zh) 2009-11-27 2014-08-06 夏普株式会社 模具的制作方法和蛾眼结构的制作方法
JP2012020389A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Oji Paper Co Ltd 単粒子膜被覆ロールの製造方法、凹凸形成ロールの製造方法、凹凸形成フィルムの製造方法および単粒子膜被覆装置
KR101351596B1 (ko) 2013-03-12 2014-01-15 주식회사 탑나노임프린팅 반사 방지재
JP5848320B2 (ja) * 2013-12-20 2016-01-27 デクセリアルズ株式会社 円筒基材、原盤、及び原盤の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003131390A (ja) * 2001-03-22 2003-05-09 Seiko Epson Corp 微細構造体の製造方法、電子装置の製造方法及び製造装置
JP2003187459A (ja) * 2001-12-19 2003-07-04 Sony Corp ディスク記録媒体
JP4197100B2 (ja) * 2002-02-20 2008-12-17 大日本印刷株式会社 反射防止物品
JP4393042B2 (ja) * 2002-08-05 2010-01-06 大日本印刷株式会社 防眩性反射防止部材、及び光学部材
JP2006251318A (ja) * 2005-03-10 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 反射防止構造体を有する部材の製造方法
JP4539657B2 (ja) * 2007-01-18 2010-09-08 ソニー株式会社 反射防止用光学素子

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008158013A5 (zh)
RU2009139631A (ru) Антиотражающее оптическое устройство и способ изготовления эталонной формы
JP4539657B2 (ja) 反射防止用光学素子
RU2009110178A (ru) Оптическое устройство, способ изготовления мастер-копии, используемой при изготовлении оптического устройства, и фотоэлектрический преобразователь
JP5162585B2 (ja) 光学素子及びその製造方法
JP2009199086A5 (zh)
JP2017129889A (ja) 反射防止階層構造
TWI749299B (zh) 建置3d功能性光學材料堆疊結構的方法
JP6338938B2 (ja) テンプレートとその製造方法およびインプリント方法
JP2020522026A5 (zh)
JP2015158663A5 (zh)
JP2004085831A (ja) 微細格子およびその製造方法
JP5490216B2 (ja) 光学素子及び光学素子の製造方法
RU2005132470A (ru) Способ изготовления микроструктур
CN109830511B (zh) 掩膜板制作方法及掩膜板
JP2008070556A (ja) 光学部材の製造方法および光学部材成形用型の製造方法
JP5257131B2 (ja) 光学素子の製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法
JP2020114680A5 (zh)
KR100881233B1 (ko) 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피방법
TWI613522B (zh) 微細構造體之製造方法及微細構造體
US20210053273A1 (en) Master, transferred object, and method of producing master
TWI506301B (zh) 微透鏡結構及其製造方法
JP2009216951A (ja) モールド、光学基板及びモールドの製造方法
TWI645249B (zh) 灰階光罩、具凹凸紋理光阻圖案的基板及其製造方法
KR20210028829A (ko) 고 종횡비 마이크로 패턴을 가지는 마이크로 제품 및 그 제작 방법