JP2009198425A - 光プローブおよびこれを用いた光断層画像化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光プローブ10には、測定光L1を透過する光透過領域PRと、光透過領域PRの開始位置および終了位置に設けられた測定光L1を遮光する遮光領域SRとが形成されている。そして、断層画像処理手段50において、遮光領域PRに測定光L1が照射されたときの干渉信号ISもしくは断層情報r(z)を検出することにより、光透過領域PRに測定光L1を照射したときに取得された干渉信号ISもしくは断層情報r(z)を検出し、光透過領域PRの断層画像Pを生成する。
【選択図】図3
Description
3 光分割手段
4 合波手段
10 光プローブ
11 プローブ外筒
12 光ファイバ
14 固定部材
15 先端光学系
17 キャップ
17a 挿入部分
30 光源ユニット
40 干渉光検出手段
50、150 断層画像処理手段
51 干渉信号取得手段
52 干渉信号変換手段
53 干渉信号解析手段
54 断層画像生成手段
55、155 遮光領域検出手段
56、156 透過領域検出手段
IS 干渉信号
ISS 遮光干渉信号
L1 測定光
L2 参照光
L3 反射光
L4 干渉光
P 断層画像
PR 光透過領域
r(z) 断層情報
S 測定対象
SR 遮光領域
SRE 終了位置
SRS 開始位置
Claims (9)
- 被検体内に挿入される略円筒形のプローブ外筒と、
該プローブ外筒の内部空間に長手方向に配設された光ファイバと、
該光ファイバの先端から出射した光を前記被検体に向けて偏向させる、前記プローブ外筒に対し回転可能な先端光学系と
を備え、
前記プローブ外筒が、
前記先端光学系から射出される前記光を透過する前記光ファイバの回転方向に沿って形成された光透過領域と、前記先端光学系から射出される前記光を遮光する前記光透過領域の開始位置および終了位置に形成された遮光領域とを備えたことを特徴とする光プローブ。 - 前記遮光領域が、前記光を前記先端光学系側へ反射することにより遮光するものであることを特徴とする請求項1記載の光プローブ。
- 前記遮光領域が、前記光を吸収もしくは散乱することにより遮光するものであることを特徴とする請求項1記載の光プローブ。
- 光を射出する光源ユニットと、
該光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、
前記測定光を測定対象まで導波する光プローブと、
該光プローブにより導波された前記測定光が該測定対象に走査しながら照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、
該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を干渉信号として検出する干渉光検出手段と、
該干渉光検出手段により走査ライン毎に検出された前記干渉信号を用いて前記測定対象の断層情報を取得し、該断層情報を用いて前記測定対象の断層画像を取得する断層画像処理手段と
を備え、
前記光プローブが請求項1から3のいずれか1項記載のものであり、
前記断層画像処理手段が、
前記干渉光検出手段により検出された前記干渉信号に基づいて、前記走査ライン毎に前記測定対象の断層情報を取得する干渉信号解析手段と、
前記走査ライン毎の前記複数の干渉信号もしくは前記複数の断層情報のうち、前記遮光領域から取得された遮光干渉信号もしくは遮光断層情報を検出する遮光領域検出手段と、
該遮光領域検出手段により検出された前記遮光干渉信号もしくは前記遮光断層情報を用いて前記光透過領域から取得された前記干渉信号もしくは前記断層情報を検出する透過領域検出手段と、
該透過領域検出手段により検出された前記光透過領域の前記干渉信号を用いて該光透過領域の断層画像を生成する断層画像生成手段と
を備えたものであることを特徴とする光断層画像化装置。 - 前記遮光領域が前記先端光学系から射出された前記測定光を該先端光学系側へ反射するものであり、
前記遮光領域検出手段が、前記干渉信号の信号レベルが設定しきい値よりも大きいか否かを判定することにより前記遮光領域を検出するものであることを特徴とする請求項4記載の光断層画像化装置。 - 前記遮光領域が前記先端光学系から射出された前記測定光を吸収もしくは散乱するものであり、
前記遮光領域検出手段が、前記干渉信号の信号レベルが設定しきい値よりも小さいか否かを判定することにより前記遮光領域を検出するものであることを特徴とする請求項4記載の光断層画像化装置。 - 前記遮光領域が前記先端光学系から射出された前記測定光を該先端光学系側へ反射するものであり、
前記遮光領域検出手段が、前記プローブ外筒の位置に当たる前記断層情報が設定しきい値よりも大きいか否かを判定することにより前記遮光領域を検出するものであることを特徴とする請求項4記載の光断層画像化装置。 - 前記遮光領域が前記先端光学系から射出された前記測定光を吸収もしくは散乱するものであり、
前記遮光領域検出手段が、前記プローブ外筒の位置に当たる前記断層情報が設定しきい値よりも小さいか否かを判定することにより前記遮光領域を検出するものであることを特徴とする請求項4記載の光断層画像化装置。 - 前記断層画像生成手段が、前記透過領域検出手段において検出された前記光透過領域を構成する前記走査ライン数が設定走査ライン数よりも多いとき、前記光透過領域が前記設定ライン数からなるように前記走査ライン数の間引きを行い、前記走査ライン数が前記設定走査ライン数よりも少ないとき、前記光透過領域の前記走査ライン数が前記設定ライン数になるように前記走査ラインの補間する機能を有するものであることを特徴とする請求項4から8のいずれか1項記載の光断層画像化装置。
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